Field emission from GaN surfaces roughened by hydrogen plasma treatment

Applied Physics Letters

Volumn 78, Issue 21, 2001, Pages 3229-3231

  Sugino, Takashi ^a   Hori, Takamitsu ^a   Kimura, Chiharu ^a   Yamamoto, Tomohide ^a  

^a OSAKA UNIVERSITY   (Japan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0035927016     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1370979     Document Type: Article

References (20)

1. C. A. Spindt, I. Brodie, I., Humphrey, and E. R. Westerberg, J. Appl. Phys. 47, 5248 (1976).
2. M. C. Benjamin, C. Wang, R. F. Davis, and R. J. Nemanich, Appl. Phys. Lett. 64, 3288 (1994).
3. M. J. Powers, M. C. Benjamin, L. M. Porter, R. J. Nemanich, R. F. Davis, J. J. Cuomo, G. L. Doll, and S. J. Harris, Appl. Phys. Lett. 67, 3912 (1995).
4. K. P. Loh, I. Sakaguchi, M. N. Gamo, S. Tagawa, T. Sugino, and T. Ando, Appl. Phys. Lett. 74, 28 (1999).
5. R. W. Pryor, Appl. Phys. Lett. 68, 1802 (1996).
6. T. Sugino, K. Tanioka, S. Kawasaki, and J. Shirafuji, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 36, L463 (1997).
7. H. H. Busta and R. W. Pryor, J. Appl. Phys. 82, 5148 (1997).
8. T. Sugino, S. Kawasaki, K. Tonioka, and J. Shirafuji, Appl. Phys. Lett. 71, 2704 (1997).
9. H. H. Busta and R. W. Pryor, J. Vac. Sci. Technol. B 16, 1207 (1998).
10. C. Ronning, A. D. Banks, B. L. McCarson, R. Schlesser, Z. Sitar, R. F. Davis, B. L. Ward, and R. J. Nemanich, J. Appl. Phys. 84, 5046 (1998).
11. T. Sugino and S. Tagawa, Appl. Phys. Lett. 74, 889 (1999).
12. T. Sugino, Y. Etou, S. Tagawa, M. Nishitani Gamo, and T. Ando, J. Vac. Sci. Technol. B 18, 1089 (2000).
13. S. Kitamura, K. Hiramatsu, and N. Sawaki, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 34, L1184 (1995).
14. O.-H. Nam, M. D. Michael, D. Bremser, B. L. Ward, R. J. Nemanich, and R. F. Davis, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 36, L532 (1997).
15. B. L. Ward, O.-H. Nam, J. D. Hartman, S. L. English, B. L. McCarson, R. Schlesse, Z. Sitar, R. F. Davis, and R. J. Nemanich, J. Appl. Phys. 84, 5238 (1998).
16. R. D. Underwood, S. Keller, U. K. Mishra, D. Kapolnek, B. P. Keller, and S. P. DenBaars, J. Vac. Sci. Technol. B 16, 822 (1998).
17. T. Kozawa, M. Suzuki, Y. Taga, Y. Gotoh, and J. Ishikawa, J. Vac. Sci. Technol. B 16, 833 (1998).
18. R. H. Fowler and L. W. Nordheim, Proc. R. Soc. London, Ser. A 119, 173 (1928).
19. M. Pollak and P. R. Schwoebel, Proc. IEEE 82, 1006 (1994).
20. I. Berishev, A. Bensaoula, I. Rusakova, A. Karabutov, M. Ugarov, and V. P. Agreev, Appl. Phys. Lett. 73, 1808 (1998).