PIC-MCC simulation of a r.f. planar magnetron discharge and comparison with experiment

Surface and Coatings Technology

Volumn 116-119, Issue , 1999, Pages 558-563

  Minea, T M ^a   Bretagne, J ^a   Gousset, G ^a   Magne, L ^a   Pagnon, D ^a   Touzeau, M ^a  

^a UNIVERSITÉ PARIS OUEST NANTERRE LA DÉFENSE   (France)

Author keywords

PIC MCC simulation; R.f. planar magnetron discharge

Indexed keywords

CERAMIC MATERIALS; COMPUTER SIMULATION; COPPER; DIELECTRIC MATERIALS; ELECTRIC POTENTIAL; MONTE CARLO METHODS; PLASMA SHEATHS; SECONDARY EMISSION; XENON;

PLANAR MAGNETRON DISCHARGE;

MAGNETRON SPUTTERING;

EID: 0033329710     PISSN: 02578972     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1016/S0257-8972(99)00187-5     Document Type: Article

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