Molecular beam epitaxy of nonstoichiometric semiconductors and multiphase material systems

Critical Reviews in Solid State and Materials Sciences

Volumn 21, Issue 3, 1996, Pages 189-263

  Melloch, M H ^a   Nolte, D D ^a   Woodall, J M ^a   Chang, J C P ^a   Janes, D B ^a   Harmon, E S ^b  

^a PURDUE UNIVERSITY   (United States)

^b MellWood Laboratories Inc   (United States)

Author keywords

Arsenic precipitates; GaAs; LT GaAs; LTG GaAs; Molecular beam epitaxy

Indexed keywords

ANNEALING; ARSENIC; ELECTRIC PROPERTIES; GALLIUM; OPTICAL PROPERTIES; PRECIPITATION (CHEMICAL); SEMICONDUCTING GALLIUM ARSENIDE;

ANTISITES; ARSENIC PRECIPITATES; EPILAYER; EXCESS ARSENIC; GALLIUM VACANCIES; NONSTOICHIOMETRIC SEMICONDUCTORS;

MOLECULAR BEAM EPITAXY;

EID: 0029773675     PISSN: 10408436     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1080/10408439608241256     Document Type: Article

References (155)

1. Cho, A. Y. and Arthur, J. R., Prog. Solid State Chem., 10, 157, 1975.
2. Tanaka, H. and Mushiage, M., J. Cryst. Growth, 111, 1043, 1991.
3. Streit, D. C., Oki, A. K., Block, T. R., Lammert, M. D., Hoppe, M. M., Umemoto, D. K. and Wojtowicz, M., J. Vac. Sci. Technol., B14, 2216, 1996.
4. Kaminska, M., Weber, E. R., Liliental-Weber, Z., Leon R., and Rek, Z. U., J. Vac. Sci. Technol., B7, 710, 1989.
5. Look, D. C., Robinson, G. D., Sizelove, J. R., and Stutz, C. E., J. Elec. Mat., 22, 1425, 1993.
6. Wie, C. R., Xie, K., Look, D. C., Evans, K. R., and Stutz, C. E., Mater. Res. Soc. Symp. Proc., 198, 178, 1991.
7. Matyi, R. J., Melloch, M. R., and Woodall, J. M., Appl. Phys. Lett., 60, 2642, 1992.
8. Matyi, R. J., Melloch, M. R., and Woodall, J. M., J. Crys. Growth, 129, 719, 1993.
9. Liliental-Weber, Z., Swider, W., Yu, K. M., Kortright, J., Smith, F. W., and Calawa, A. R., Appl. Phys. Lett., 58, 2153, 1991.
10. Mahalingam, K., Otsuka, N., Melloch, M. R., Woodall, J. M., and Warren, A. C., J. Vac. Sci. Technol., B9, 2328, 1991.
11. Melloch, M. R., Mahalingam, K., Otsuka, N., Woodall, J. M., and Warren, A. C., J. Cryst. Growth, 111, 39, 1991.
12. Kaminska, M., Liliental-Weber, Z., Weber, E. R., George, T., Kortright, J. B., Smith, F. W., Tsaur, B-Y., and Calawa, A. R., Appl. Phys. Lett., 54, 1881, 1989.
13. Melloch, M. R., Otsuka, N., Woodall, J. M., Warren, A. C., and Freeouf, J. L., Appl. Phys. Lett., 57, 1531, 1990.
14. Melloch, M. R., Otsuka, N., Mahalingam, K., Chang, C. L., Woodall, J. M., Pettit, G. D., Kirchner, P. D., Cardone, F., Warren, A. C., and Nolte, D. D., J. Appl. Phys., 72, 3509, 1992.
15. Melloch, M. R., Otsuka, N., Mahalingam, K., Warren, A. C., Woodall, J. M., and Kirchner, P. D., Mater. Res. Soc. Sym. Proc., 241, 113, 1992.
16. Melloch, M. R., Woodall, J. M., Otsuka, N., Mahalingam, K., Chang, C. L., and Nolte, D. D., Mater. Sci. Eng., B22, 31, 1993.
17. Melloch, M. R., Woodall, J. M., Harmon, E. S., Otsuka, N., Pollak, F. H., Nolte, D. D., Feenstra, R. M., and Lutz, M. A., Annu. Rev. Mater. Sci., 25, 547, 1995.
18. Reimer, L., Transmission Electron Microscopy, 2nd edition, Vol. 36 in Springer Series on Optical Sciences, Springer-Verlag, Berlin, 1989.
19. Liu, X., Prasad, A., Chen, W. M., Kurpiewski, A., Stoschek, A., Liliental-Weber, Z., and Weber, E. R., Appl. Phys. Lett., 65, 3002, 1994.
20. Warren, A. C., Burroughes, J. H., Woodall, J. M., McInturff, D. T., Hodgson, R. T., and Melloch, M. R., IEEE Elec. Dev. Lett., 12, 527, 1991.
21. Mclnturff, D. T., Woodall, J. M., Warren, A. C., Braslau, N., Pettit, G. D., Kirchner, P. D., and Melloch, M. R., Appl. Phys. Lett., 60, 448, 1992.
22. McInturff, D. T., Woodall, J. M., Warren, A. C., Braslau, N., Pettit, G. D., Kirchner, P. D., and Melloch, M. R., Appl. Phys. Lett., 62, 2367, 1993.
23. Srinivasan, A., Sadra, K., Campbell, J. C., and Streetman, B. G., J. Elec. Mater., 22, 1457, 1993.
24. Nolte, D. D., J. Appl. Phys., 76, 3740, 1994.
25. Mahalingam, K., Otsuka, N., Melloch, M. R., Woodall, J. M., and Warren, A. C., J. Vac. Sci. Technol., B10, 812, 1992.
26. Mahalingam, K., Otsuka, N., Melloch, M. R., and Woodall, J. M., Appl. Phys. Lett., 60, 3252, 1992.
27. Cheng, T. M., Chin, A., Chang, C. Y., Huang, M. F., Hsieh, K. Y., and Huang, J. H., Appl. Phys. Lett., 64, 1546, 1994.
28. Cheng, T. M., Chang, C. Y., Chin, A., Huang, M. F., and Huang, J. H., Appl. Phys. Lett., 64, 2517, 1994.
29. Kiehl, R. A., Saito, M. Yamaguchi, M., Ueda, O., and Yokoyama, N., Appl. Phys. Lent., 66, 2194, 1995.
30. Kiehl, R. A., Yamaguchi, M., Ueda, O., Horiguchi, N., and Yokoyama, N., Appl. Phys. Lett., 68, 478, 1996.
31. Lent, C. S., Tougaw, P. D., and Porod, W., Appl. Phys. Lett., 62, 714, 1993.
32. Look, D. C., Walters, D. C., Manasreh, M. O., Sizelove, J. R., Stutz, C. E., and Evans, K. R., Phys. Rev. B, 42, 3578, 1990.
33. Campbell, A. C., Crook, G. E., Rogers, T. J., and Streetman, B. G., J. Vac. Sci. Tehcnol., B8, 305, 1990.
34. Melloch, M. R. and Woodall, J. M., Appl. Phys. Lett., 67, 1331, 1995.
35. Liu, X., Prasad, A., Chen, W. M., Kurpiewski, A., Stoschek, A., Liliental-Weber, Z., and Weber, E. R., Appl. Phys. Lett., 67, 1333, 1995.
36. Warren, A. C., Woodall, J. M., Freeouf, J. L., Grischkowsky, D., McInturff, D. T., Melloch, M. R., and Otsuka, N., Appl. Phys. Lett., 57, 1331, 1990.
37. Feenstra, R. M., Vaterlaus A., Woodall J. M., and Pettit, G. D., Appl. Phys. Lett., 63, 2528, 1993
38. Feenstra, R. M., Woodall J. M., and Pettit, G .D., Materials Science Forum 143-147, 1311, 1994.
39. Feenstra, R. M., Woodall J. M., and Pettit, G. D., Phys. Rev. Lett., 71, 1176, 1993.
40. Feenstra, R. M. and Stroscio, J. A., J. Vac. Sci. Technol., B5, 923, 1987.
41. Feenstra, R. M., Phys. Rev., B50, 4561, 1994.
42. Schaff, W. J., Offsey, S. D., Song, X. J., Eastman, L. F., Norris, T. B., Sha, W. J., and Moutou, G. A., Mater. Res. Soc. Sym. Proc., 241, 51, 1992.
43. Atique N., Harmon E. S., Chang J. C. P,. Woodall J. M., and Melloch, M. R., J. Appl. Phys., 77, 1471, 1995.
44. Bliss, D. E., Walukiewicz, W., Ager, J. W., Haller, E. E., Chan, K. T., and Tanigawa, S., J. Appl. Phys., 71, 1699, 1992.
45. O'Hagan, S. and Missous, M., J. Appl. Phys. , 75, 7835, 1994.
46. Harmon, E. S., McInturff, D. T., Melloch, M. R., and Woodall, J. M., J. Vac. Sci. Technol., B13, 768, 1995.
47. Melloch, M. R., Otsuka, N., Mahalingam, K., Chang, C. L., Kirchner, P. D., Woodall, J. M., and Warren, A. C., Appl. Phys. Lett., 61, 177, 1992.
48. Gupta, S., Battacharya, P. K., Pamaulapati, J., and Mourou, G., Appl. Phys. Lett., 57, 1543(1990).
49. Gupta, S., Frankel, M. Y., Valdmanis, J. A., Whitaker, J. F., Mourou, G. A., Smith, F. W., and Calawa, A. R., Appl. Phys. Lett., 59, 3276, 1991.
50. Gupta, S., Whitaker, J. F., and Mourou, G. A., IEEE J. Quantum Electron., 28, 2464, 1992.
51. Frankel, M. Y., Tadayon, B., and Carruthers, T. F, Appl. Phys. Lett., 62, 255, 1993.
52. Dekorsy, T., Zhou, X. Q., Ploog, K., and Kurz, H., Mater. Sci. Eng., B22, 68, 1993.
53. Harmon, E. S., Melloch, M. R., Woodall, J. M., Nolte, D. D., Otsuka, N., and Chang, C. L., Appl. Phys. Lett., 63, 2248, 1993.
54. Whitaker, J. F., Mater. Sci. Eng., B22, 61, 1993.
55. Wang, H. H. J., Whitaker, J. F., Chin, A., Mazurowski, J., and Ballingall, J. M., J. Elect. Mater., 1461, 22, 1993.
56. Liliental-Weber, Z. S., Cheng, H. J., Gupta, S., Whitaker, J., Nichols, K., and Smith, F. W., J. Elect. Mater., 22, 1465, 1993.
57. Fauchet, P. M., Wicks, G. W., Kostoulas, Y., Lobad, A. I., and Ucer, K. B., Mater. Res. Soc. Proc., 378, 171, 1994.
58. Marcinkevicius, S., Krotkus, A., Jasutis, V., Bertulis, K., Tan, H. H., Jagadish, C., and Kaminska, M., Appl. Phys. Lett., 68, 397, 1996.
59. Smith, F. W., Lee, H. W., Diadiuk, V., Hollis, M. A., Calawa, A. R., Gupta, Frankel, S. M., Dykaar, D. R., Mourou, G. A., and Hsiang, T. Q., Appl. Phys. Lett., 54, 890, 1989.
60. Warren, A. C., Katzenellenbogen, N., Grischkowsky, D., Woodall, J. M., Melloch, M. R., and Otsuka, N., Appl. Phys. Lett., 58, 1512, 1991.
61. Chen, Y., Silliamson, S., Brock, T., Smith, F. W., and Calawa, A. R., Appl Phys. Lett., 59, 1984, 1991.
62. Motet, T., Nees, J., Williamson, S., and Mourou, G., Materials Research Society Proceedings, 241, 223, 1992.
63. Morse, J. D. and Mariella, R. P., Jr., Materials Research Society Proceedings, 241, 233, 1992.
64. Warren, A. C., Woodall, J. M., Burroughes, J. H., Kirchner, P. D., Heinrich, H. K., Arjavalingam, G., Katsenellenbogen, N., Grischkowsky, D., Melloch, M. R., Otsuka, N., Mahalingam, K., Pollak, F. H., and Yin, X., Materials Research Society Proceedings, 241, 15, 1992.
65. Carin, L., Kralij, D. R., Melloch, M. R., and Woodall, J. M., IEEE Microwave and Guided Wave Lett., 3, 339, 1993.
66. Gupta, S., Whitaker, J. F., Williamson, S. L., Mourou, G. A., Leswter, L., Hwang, K. C., Ho, P., Mazurowski, J., and Ballingall, J. M., J. Elect. Mater., 1449, 22, 1993.
67. Rahman, A., Kralj, D., Carin, L., Melloch, M. R., and Woodall, J. M., Appl. Phys. Lett., 64, 2178, 1994.
68. Groeneveld, R. H. M., Rasing, T., Kaufmann, L. M. F., Smalbrugge, E., Wolter, J. H., Melloch, M. R., and van Kempen, H., Physica B Condensed Matter, 218, 294, 1996.
69. Groenveld, R. H. M., Rasing, T., Kaufmann, L. M. F., Smalbrugge, E., Wolter, J. H., Melloch, M. R., and van Kempen, H., J. Vac. Sci. Technol., B14, 861, 1996.
70. Kostoulas, Y., Gong, T., Tousley, B. C., Wicks, G. W., Cooke, P., and Fauchet, P.M., Proc. Int. Soc. Optical Eng., 2142, 100, 1994.
71. Lochtefeld, A. J., Melloch, M. R., Chang, J. C. P., and Harmon, E. S., Appl. Phys. Lett., 69, 1465, 1996.
72. Look, D. C., Fang, Z.-Q., Yamamoto, H., Sizelove, J. R., Mier, M. G., and Stutz, C. E., J. Appl. Phys., 76, 1029, 1994.
73. Look, D. C., J. Appl. Phys., 70, 3148, 1991.
74. Martin, G. M., Appl. Phys. Lett., 39, 747, 1981.
75. Look, D. C., Walters, D. C., Robinson, G. D., Sizelove, J. R., Mier, M. E., and Stutz, C. E., J. Appl. Phys., 74, 306, 1993.
76. Hormann, D. M., Krambrock, K., Meyer, B. K., and Spaeth, J. M., Semicond. Sci. Technol., 6, 170, 1991.
77. Dankowski, S. U., Kiesel, P., Knupfer, B., Kneissl, M., Dohler, G. H., Keil, U. D., Dykaar, D. R., and Kopf, R. F., Appl. Phys. Lett., 65, 3269, 1994.
78. Streb, D., Ruff, M., Dankowski, S. U., Kiesel, P., Malzer, S., Keil, U. D., and Dohler, G. H., J. Vac. Sci. Technol., B14, 2275, 1996.
79. Eyink, K. G., Capano, M. A., Walck, S. D., Haas, T. W., and Streetman, B. G., J. Vac. Sci. Technol., B14, 2278, 1996.
80. Raisin, C., Leveque, G., and Robin, J., Sol. St. Commun., 14, 723, 1974.
81. Nolte, D. D., Melloch, M. R., Woodall, J. M., and Ralph, S. E., Appl. Phys. Lett., 62, 1356, 1993.
82. Nolte, D. D. and Melloch, M. R., Photorefractive quantum wells and thin films, in Photorefractive Effects and Materials, Chap. 7, Nolte, D. D., Ed., Kluwer Academic Publishers, Dordrecht, 1995.
83. Yablonovitch, Y., Hwang, D. M., Gmitter, T. J., Florez, L. T., and Harbison, J. P., Appl. Phys. Lett., 56, 2419, 1990.
84. Nolte, D. D., Lahiri, I., McKenna, J., Steldt, F. R., Chang, J. C. P., Melloch, M. R., and Woodall, J. M., Proceedings of 23rd Int. Conf. Phys. Semicond., World Scientific, 1994, 1775.
85. Walukiewicz, W., Phys. Rev., B37, 4760, 1988.
86. Nolte, D. D., APS Bull., 41, 613, 1996.
87. Dankowski, S. U., Streb, D., Ruff, M., Kiesel, P., Knupfer, B., Kneissl, M., Linder, N., Dohler, G. H., and Keil, U. D., Proceedings of 5th European Heterostructure Technology Workshop, 1995.
88. Brubaker, R. M., Wang., Q. N., Nolte, D. D., Harmon, E. S., and Melloch, M. R., J. Opt. Soc. Am., B11, 1038, 1994.
89. Knox, W. H., Henry, J. E., Goosen, K. W., Li, K. D., Tell, B., Miller, D.A.B., Chemla, D.S., Gossard, A.C., English, J., and Schmitt-Rink, S., IEEE J. Quant. Electron., 25, 2586. 1989.
90. Woodward, T.K., Knox, W.H., Tell, B., Vinattieri, A., and Asom, M.T., IEEE J. Quant. Electron, QE-30, 2854, 1994.
91. Jacobovitz-Vaselka, G. R., Keller, U., and Asom, M. T., Opt. Lett, 17, 1791, 1992.
92. Knox, W. H., Doran, G. E., Asom, M., Livescu, G., Leibenguth, R., and Chu, S. N. G., Appl. Phys. Lett., 59, 1491, 1991.
93. Lahiri, I., Nolte, D. D., Harmon, E. S., Melloch, M. R., and Woodall, J. M., Appl. Phys. Lett., 66, 2519, 1995.
94. Goossen, K. W., Cunningham, J. E., and Jan, W. Y., Appl. Phys. Lett., 64, 1071, 1994.
95. Melloch, M. R., Lahiri,I., Nolte, D. D., Chang, J. C. P., Harmon, E. S., Woodall, J. M., Li, N. Y., and Tu, C. W., J. Vac. Sci. Technol., B14, 2271, 1996.
96. Horikoshi Y, Kawashima, M., and Yamaguchi, H., Jpn. J. Appl. Phys., 25, L868, 1986.
97. Nolte, D. D., Ed., Photorefractive Effects and Materials, Kluwer Academic Publishers, Dordrecht, 1995.
98. Nolte, D. D., Melloch, M. R., Woodall, J. M., and Ralph, S. E., Appl. Phys. Lett., 61, 3098, 1992.
99. Wang, Q. N., Nolte, D. D., and Melloch, M. R., Appl. Phys. Lett., 59, 256, 1991.
100. Nolte, D. D., Olson, D. H., Doran, G. E., Knox, W. H., and Glass, A. M., J. Opt. Soc. Am., B7, 2217, 1990.
101. Wang, Q. N., Brubaker, R. M., Nolte, D. D., and Melloch, M. R., J. Opt. Soc. Am., B9, 1626, 1992.
102. Partovi, A., Glass, A. M., Chiu, T. H., and Liu, D. T. H., Opt. Lett., 18, 906, 1993.
103. Nuss, M. C., Li, M., Chiu, T. H., Weiner, A. M., and Partovi, A., Opt. Lett., 19, 664, 1994.
104. Jones, R., Hyde, S. C. W., Lynn, M. J., Barry, N. P., French, P. M. W., Kwolek, K. M., Nolte, D. D., and Melloch, M. R., in Proceedings of OSA, 1996.
105. Silverberg, Y., Smith, P. W., Miller, D. A. B., Tell, B., Gossard, A. C., and Wiegmann, W., Appl. Phys. Lett., 46, 701, 1985.
106. Kwolek, K. M., Melloch, M. R., Nolte, D. D., and Brost, G. A., Appl. Phys. Lett., 67, 736, 1995.
107. Partovi, A., Glass, A. M.,Olson, D. H., Zydzik, G. J., Short, K. T., Feldman, R. D., and Austin, R. F., Appl. Phys. Lett., 59, 1832, 1991.
108. Rabinovich, W. S., Bowman, S. R., Katzer, D. S., and Kyono, C. S., Appl. Phys. Lett., 66, 1044, 1995.
109. Lahiri, I., Kwolek, K. M., Nolte, D. D., and Melloch, M. R., Appl. Phys. Lett., 67, 1408, 1995.
110. Lahiri, I., Aguilar, M., Nolte, D. D., and Melloch, M. R., Appl. Phys. Lett., 68, 517, 1996.
111. Sipe, J. E. and Boyd, R. W., Phys. Rev., A46, 1614, 1992.
112. Dykaar, D. R., Eaglesham, D. J., Keil, U. D., Greene, B. I., Saete, P. N., Pfeiffer, L. N., Kopf, R. F., Darack, S. B., and West, K. W., Mater. Res. Soc. Symp. Proc., 245, 1992.
113. Benjamin, S. D., Othonos, A., and Smith, P. W. E., Electron. Lett., 30, 1704, 1994.
114. Lee, Y. H., Chavez-Pirson, A., Koch, S. W., Gibbs, H. M., Park, S. H., Morhange, J., Jeffrey, A., Peygambarian, N., Banyai, L., Gossard, A. C., and Wiegmann, W., Phys. Rev. Lett., 57, 2446, 1986.
115. Banyai, L. and Koch, S. W., Z. Phys., B63, 283, 1986.
116. Brown, E. R., Mcintosh, K. A., Smith, F. W., Manfra, M. J., and Dennis, C .L., Appl. Phys. Lett., 62, 1206, 1993.
117. Beernink, K. J., Sun, D., Treat, D. W., and Bour, B. P., Appl. Phys. Lett., 66, 3597, 1995.
118. Lahiri, I., Nolte, D. D., Chang, J. C. P., Woodall, J. M., and Melloch, M. R., Appl. Phys. Lett., 67, 1244, 1995.
119. Chang, J. C. P., Woodall, J. M., Melloch, M. R., Lahiri, I., Nolte, D. D., Li, N. Y., and Tu, C. W., Appl. Phys. Lett., 67, 3491, 1995.
120. Lahiri, I., Nolte, D. D., Melloch, M. R., Woodall, J. M., and Walukiewicz, W., Appl. Phys. Lett., 69, 239, 1996.
121. Chen, E. H., McInturff, D. T., Chin, T. P., Melloch, M. R., and Woodall, J. M., Appl. Phys. Lett., 68, 1678, 1996.
122. Gerische, H., J. Vac. Sci. Technol., 15, 1442, 1978.
123. Van De Ven, J. and Nabben, H. J. P., J. Electrochem. Soc., 137, 1603, 1990.
124. Witner, M., Finstad, T., and Nicolet, M.-A., J. Vac. Sci. Technol., 14 , 935, 1977.
125. Lustig, N., Mularami, M., Norcott, M., and McGann, K., Appl. Phys. Lett., 58, 2093, 1991.
126. Gyulai, J., Mayer, J. W., Rodriquez, V., Fu, A. Y. C., and Gopen, H. J., J. Appl. Phys., 42, 3758, 1971.
127. Pruniaux, B. R., J. Appl. Phys., 42, 3575, 1971.
128. Kirchner, P. D., Jackson, T. N., Petitt, G. D., and Woodall, J. M., Appl. Phys. Lett., 47, 26 1985.
129. Schubert, E. F., Cunningham, J. E., Tsang, W. T., and Chiu, T. H., Appl. Phys. Lett., 49, 292, 1986.
130. Yamamoto, H., Fang, Z.-Q., and Look, D. C., Appl. Phys. Lett., 57, 1537, 1990.
131. Patkar, M. P., Chin, T. P., Woodall, J. M., Lundstrom, M. S., and Melloch, M. R., Appl. Phys. Lett, 66, 1412, 1995.
132. Lievin, J. L., Dubon-Chevallier, C., Alexandre, F., Leroux, G., Dangla, J., and Ankri, D., IEEE Elec. Dev. Lett., 7, 129, 1986.
133. Mertzger, R. A., Hafiji, M., Stanchina, W. E., Liu, T., Wilson, R. G., and McCray, L. G., Appl. Phys. Lett., 63, 1360, 1993.
134. Katnani, A. D., Chiaradia, P., Sang, H. W., Jr., and Bauer, R. S., J. Vac. Sci. Technol., B2, 471, 1984.
135. Pollack, F. H., Parayanthal, P., and Woodall, J. M., Solar Energy Research Inst., final report for subcontract ZL-4-03032-9, submitted August 1985.
136. Pashley, M. D., Haberern, K. W., Friday, W., Woodall, J. M., and Kirchner, P. D., Phys. Rev. Lett., 60, 2176, 1988.
137. Melloch, M. R., Carpenter, M. S., Dungan, T. E., Li, D., and Otsuka, N., Appl. Phys. Lett., 56, 1064, 1990.
138. Gwo, S., Chao, K. -J., Smith, A. R., Shih, C. K., Sadra, K., and Streetman, B. G., J. Vac. Sci. Technol, B11, 1509, 1993.
139. Look, D. C., Stutz, C. E., and Evans, K. R., Appl. Phys. Lett., 57, 2570, 1990.
140. Look, D. C., Walters, D. C., Stutz, C. E., Evans, K. R., and Sizelove, J. R., J. Appl. Phys., 71, 5981 , 1992.
141. Warren, A. C., Woodall, J. M., Kirchner, P. D., Yin, X., Guo, X., Pollak, F. H., and Melloch, M. R., J. Vac. Sci. Technol., B10, 1904, 1992.
142. Shen, H., Rong, F. C., Lux, R., Pamulapati, J., Taysing-Lara, M., Dutta, M., Poindexter, E. H., Calderon, L., and Lu, Y., Appl. Phys. Lett., 61, 1585, 1992.
143. Kirchner, P. D., Woodall, J. M., and Wright, S. L., Appl. Phys. Lett., 47, 28, 1985.
144. Hong, S., Janes, D. B., McInturff, D., Reifenberger, R., and Woodall, J. M., Appl. Phys. Lett., 68, 2258, 1996.
145. Martensson, P. and Feenstra, R. M., Phys. Rev., B39, 7744, 1988.
146. Ng, T.-B., Janes, D. B., Mclnturff, D., and Woodall, J. M., submitted to Appl. Phys. Lett.
147. Spicer, W. E., Lindau, I., Pianetta, P., Chye, P. W., and Garner, C. M., Thin Solid Films, 56, 1, 1979.
148. Ishikawa, T. and Ikoma, H., Jpn. J. Appl. Phys., 31, 3981, 1992.
149. Ohno, H., Motomatsu, M., Mizutani, W., and Tokumoto, H., Jpn. J. Appl. Phys., 34, 1381, 1995.
150. Massies, J. and Contour, J. P., J. Appl. Phys., 58, 806, 1985.
151. Contour, J. P., Massies, J., and Salettes, A., Jpn. J. Appl. Phys., 24, L563, 1985.
152. Gerischer, H., J. Vac. Sci. Technol., 15, 1422, 1978.
153. Goddard, W. A., III, Barton, J. J., Redondo, A., and McGill, T. C., J. Vac. Sci. Technol., 15, 1274, 1978.
154. Melloch, M. R., Miller, D. C., and Das, B., Appl. Phys. Lett., 54, 943, 1989.
155. Pollak, F. H., private communication.