Molecular beam epitaxy of high-quality, nonstoichiometric multiple quantum wells

Journal of Vacuum Science and Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures

Volumn 14, Issue 3, 1996, Pages 2271-2274

  Melloch, M R ^a   Lahiri, I ^a   Nolte, D D ^a   Chang, J C P ^a   Harmon, E S ^b   Woodall, J M ^a   Li, N Y ^c   Tu, C W ^c  

^a PURDUE UNIVERSITY   (United States)

^b MellWood Laboratories Inc   (United States)

^c UNIVERSITY OF CALIFORNIA   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0009770806     PISSN: 10711023     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1116/1.588917     Document Type: Article

References (17)

1. M. Kaminska, E. R. Weber, Z. Liliental-Weber, R. Leon, and Z. U. Rek, J. Vac. Sci. Technol. B 7, 710 (1989).
2. R. J. Matyi, M. R. Melloch, and J. M. Woodall, J. Cryst. Growth 129, 719 (1993).
3. M. R. Melloch, N. Otsuka, J. M. Woodall, A. C. Warren, and J. L. Free-ouf, Appl. Phys. Lett. 57, 1531 (1990).
4. M. R. Melloch, D. D. Nolte, N. Otsuka, C. L. Chang, and J. M. Woodall, J. Vac. Sci. Technol. B 10, 795 (1993).
5. K. Mahalingam, N. Otsuka, M. R. Melloch J. M. Woodall, and A. C. Warren, J. Vac. Sci. Technol. B 9, 2328 (1991).
6. M. R. Melloch, J. M. Woodall, N. Otsuka, K. Mahalingam, C. L. Chang, and D. D. Nolte, Mater. Sci. Eng. B 22, 31 (1993).
7. M. R. Melloch, J. M. Woodall, E. S. Harmon, N. Otsuka, F. H. Pollak, D. D. Nolte, R. M. Feenstra, and M. A. Lutz, Annual Review of Materials Science (Annual Reviews, Palo Alto, CA, 1995), Vol. 25.
8. D. D. Nolte, M. R. Melloch, J. M. Woodall, and S. J. Ralph, Appl. Phys. Lett. 62, 1356 (1993).
9. K. Mahalingam, N. Otsuka, M. R. Melloch, and J. M. Woodall, Appl. Phys. Lett. 60, 3253 (1992).
10. T. M. Cheng, A. Chin, C. Y. Chang, M. F. Huang, K. Y. Hsieh, and J. H. Huang, Appl. Phys. Lett. 64, 1546 (1994).
11. W. H. Knox, G. E. Doran, M. Asom, G. Livescu, R. Leibenguth, and S. N. G. Chu, Appl. Phys. Lett. 59, 1491 (1991).
12. I. Lahiri, D. D. Nolte, E. S. Harmon, M. R. Melloch, and J. M. Woodall, Appl. Phys. Lett. 66, 2519 (1995).
13. Y. Horikoshi, M. Kawashima, and H. Yamaguchi, Jpn. J. Appl. Phys. 25, L868 (1986).
14. I. Lahiri, D. D. Nolte, J. C. P. Chang, J. M. Woodall, and M. R. Melloch, Appl. Phys. Lett. 67, 1244 (1995).
15. J. C. P. Chang, J. M. Woodall, M. R. Melloch, I. Lahiri, D. D. Nolte, N. Y. Li, and C. W. Tu, Appl. Phys. Lett. 67, 3491 (1995).
16. E. S. Harmon, M. R. Melloch, J. M. Woodall, D. D. Nolte, N. Otsuka, and C. L. Chang, Appl. Phys. Lett. 63, 2248 (1993).
17. P. M. Fauchet, G. W. Wicks, Y. Kostoulas, M. W. Koch, K. B. Ucer, and A. I. Lobad, 37th Electronic Materials Conference, University of Virginia, Charlottesville, VA, 21-23 June 1995 (unpublished).