Transparent conducting CdO thin film growth using a highly volatile, thermally and air-stable cadmium precursor

Chemical Vapor Deposition

Volumn 7, Issue 6, 2001, Pages 239-242

  Babcock, Jason R ^a   Wang, Anchuan ^a   Metz, Andrew W ^a   Edleman, Nikki L ^a   Metz, Matthew V ^a   Lane, Melissa A ^a   Kannewurf, Carl R ^a   Marks, Tobin J ^a  

^a Materials Research Center ^*  (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0012021956     PISSN: 09481907     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/1521-3862(200111)7:6<239::AID-CVDE239>3.0.CO;2-M     Document Type: Article

References (23)

1. MRS Bull. 2000, 25 (Eds: D. S. Ginley, C. Bright), special issue on transparent conducting oxides.
2. A. Martel, F. Caballero-Briones, A. I. Oliva, Phys. Status Solidi B 2000, 220, 261.
3. X. Wu, W. P. Mulligan, T. J. Coutts, Thin Solid Films 1996, 286, 274.
4. F. P. Koffyberg, Phys. Rev. B 1976, 13, 4470.
5. A. J. Freeman, K. R. Poeppelmeier, T. O. Mason, R. P. H. Chang, T. J. Marks, MRS Bull. 2000, 25, 45.
6. A. Wang, J. R. Babcock, N. L. Edleman, A. W. Metz, M. A. Lane, R. Asahi, V. P. Dravid, C. R. Kannewurf, A. J. Freeman, T. J. Marks, PNAS 2001, 98, 7113.
7. L. V. Morozova, A. V. Komarov, Zh. Prikl. Khim. (S.-Petersburg) 1995, 68, 1423.
8. J. R. Babcock, A. Wang, N. L. Edleman, D. D. Benson, A. W. Metz, M. V. Metz, T. J. Marks, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 2000, 623, 317.
9. Y. Dou, T. Fishlock, R. G. Egdell, D. S. L. Law, G. Beamson, Phys. Rev. B-Condens Matter 1997, 55, 13 381.
10. H. Dumont, S. Fujita, J. Cryst. Growth 1994, 145, 570.
11. P. J. Parbrook, A. Kamata, T. Uemoto, J. Cryst. Growth 1993, 128, 639.
12. M. Niraula, T. Aoki, Y. Nakanishi, Y. Hatanaka, J. Appl. Phys. 1998, 83, 2656.
13. T. J. Coutts, D. L. Young, X. Li, W. P. Mulligan, X. Wu, J. Vac. Sci. Technol. A 2000, 18, 2646.
14. A. Wang, unpublished results at Northwestern University, 2000.
15. J. R. Babcock, D. D. Benson, A. C. Wang, N. L. Edleman, J. A. Belot, M. V. Metz, T. J. Marks, Chem. Vap. Deposition 2000, 6, 180.
16. T. Hatanpaeae, J. Kansikas, I. Mutikainen, M. Leskelae, Inorg. Chem. 2001, 40, 788.
17. E. N. Maslen, T. M. Greaney, C. L. Raston, A. H. White, J. Chem. Soc., Dalton Trans. 1975, 400.
18. C. Pettinari, F. Marchetti, A. Cingolani, R. Pettinari, S. I. Troyanov, A. Drozdov, Dalton 2000, 831.
19. L. Bustos, J. H. Green, J. L. Hencher, M. A. Khan, D. G. Tuck, Can. J. Chem. 1983, 61, 2141.
20. B. J. Hinds, R. J. McNeely, D. B. Studebaker, T. J. Marks, T. P. Hogan, J. L. Schindler, C. R. Kannewurf, X. F. Zhang, D. J. Miller, J. Mater. Res. 1997, 12, 1214.
21. D. Y. Chung, T. Hogan, P. Brazis, M. Rocci-Lane, C. Kannewurf, M. Bastea, C. Uher, M. G. Kanatzidis, Science 2000, 287, 1024.
22. K. Gurumurugan, D. Mangalaraj, S. A. K. Narayandass, J. Electron. Mater. 1996, 25, 765.
23. G. Phatak, R. Lal, Thin Solid Films 1994, 245, 17.