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Volumn 74, Issue 5, 1999, Pages 653-655

Selective-area formation of Si microstructures using ultrathin SiO2 mask layers

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EID: 0001103374     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.123030     Document Type: Article
Times cited : (22)

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* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.