Enhanced damage due to light in low-damage reactive-ion etching processes

Applied Physics Letters

Volumn 76, Issue 20, 2000, Pages 2871-2873

  Deng, L G ^a   Rahman, M ^a   Wilkinson, C D W ^a  

^a UNIVERSITY OF GLASGOW   (United Kingdom)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0000635058     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.126501     Document Type: Article

References (17)

1. E. L. Hu, C. H. Chen, and D. L. Green, J. Vac. Sci. Technol. B 14, 3632 (1996).
2. S. K. Murad, M. Rahman, N. Johnson, S. Thoms, S. P. Beaumont, and C. D. W. Wilkinson, J. Vac. Sci. Technol. B 14, 3658 (1996).
3. N. G. Stoffel, J. Vac. Sci. Technol. B 10, 651 (1992).
4. L. G. Deng, M. Rahman, S. K. Murad, A. Boyd, and C. D. W. Wilkinson, J. Vac. Sci. Technol. B 16, 3334 (1998).
5. M. Rahman, J. Appl. Phys. 82, 2215 (1997).
6. C. H. Chen, D. L. Green, and E. L. Hu, Appl. Phys. Lett. 69, 58 (1996); C. H. Chen, D. G. Yu, and E. L. Hu, J. Vac. Sci. Technol. B 14, 3684 (1996).
7. C. H. Chen, D. L. Green, and E. L. Hu, Appl. Phys. Lett. 69, 58 (1996); C. H. Chen, D. G. Yu, and E. L. Hu, J. Vac. Sci. Technol. B 14, 3684 (1996).
8. K. Hikosaka, T. Mimura, and K. Joshin, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 20, L847 (1981).
9. S. K. Murad, C. D. W. Wilkinson, and S. P. Beaumont, Microelectron. Eng. 23, 357 (1994).
10. S. K. Murad, S. P. Beaumont, M. Holland, and C. D. W. Wilkinson, J. Vac. Sci. Technol. B 13, 2344 (1995).
11. L. G. Deng, M. Rahman, J. A. van den Berg, and C. D. W. Wilkinson, Appl. Phys. Lett. 75, 211 (1999); M. Rahman, L. G. Deng, A. Boyd, A. Ribayrol, C. D. W. Wilkinson, J. A. van den Berg, and D. G. Armour, Microelectron. Eng. 46, 299 (1999); M. Rahman, L. G. Deng, A. Boyd, C. D. W. Wilkinson, J. A. van den Berg, and D. G. Armour, in State of the Art Program on Compound Semiconductors, Electrochemical Society Proceedings, edited by F. Ren, D. N. Buckley, S. N. G. Chu, J. C. Zolper, C. R. Abernathy, S. J. Pearton, and J. M. Parslely (Electrochemical Society, 1998), Vol. 98-12, pp. 213.
12. L. G. Deng, M. Rahman, J. A. van den Berg, and C. D. W. Wilkinson, Appl. Phys. Lett. 75, 211 (1999); M. Rahman, L. G. Deng, A. Boyd, A. Ribayrol, C. D. W. Wilkinson, J. A. van den Berg, and D. G. Armour, Microelectron. Eng. 46, 299 (1999); M. Rahman, L. G. Deng, A. Boyd, C. D. W. Wilkinson, J. A. van den Berg, and D. G. Armour, in State of the Art Program on Compound Semiconductors, Electrochemical Society Proceedings, edited by F. Ren, D. N. Buckley, S. N. G. Chu, J. C. Zolper, C. R. Abernathy, S. J. Pearton, and J. M. Parslely (Electrochemical Society, 1998), Vol. 98-12, pp. 213.
13. L. G. Deng, M. Rahman, J. A. van den Berg, and C. D. W. Wilkinson, Appl. Phys. Lett. 75, 211 (1999); M. Rahman, L. G. Deng, A. Boyd, A. Ribayrol, C. D. W. Wilkinson, J. A. van den Berg, and D. G. Armour, Microelectron. Eng. 46, 299 (1999); M. Rahman, L. G. Deng, A. Boyd, C. D. W. Wilkinson, J. A. van den Berg, and D. G. Armour, in State of the Art Program on Compound Semiconductors, Electrochemical Society Proceedings, edited by F. Ren, D. N. Buckley, S. N. G. Chu, J. C. Zolper, C. R. Abernathy, S. J. Pearton, and J. M. Parslely (Electrochemical Society, 1998), Vol. 98-12, pp. 213.
14. D. Stievenard and J. C. Bourgoin, Phys. Rev. B 33, 8410 (1986); R. Car, P. J. Kelly, A. Oshiyama, and S. T. Pantelides, Phys. Rev. Lett. 52, 1814 (1984).
15. D. Stievenard and J. C. Bourgoin, Phys. Rev. B 33, 8410 (1986); R. Car, P. J. Kelly, A. Oshiyama, and S. T. Pantelides, Phys. Rev. Lett. 52, 1814 (1984).
16. D. E. Aspnes and A. A. Studna, Phys. Rev. B 27, 985 (1983).
17. S. E. Hicks, W. Parkes, J. A. H. Wilkinson, and C. D. W. Wilkinson, J. Vac. Sci. Technol. B 12, 3306 (1994).