Low temperature magnetic force microscopy with enhanced sensitivity based on piezoresistive detection

Review of Scientific Instruments

Volumn 71, Issue 12, 2000, Pages 4468-4473

  Volodin, A ^a   Temst, K ^a   Van Haesendonck, C ^a   Bruynseraede, Y ^a  

^a UNIVERSITY OF LEUVEN   (Belgium)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0000396309     PISSN: 00346748     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1322582     Document Type: Article

References (28)

1. A. Oral, S. J. Bending, and M. Henini, Appl. Phys. Lett. 69, 1324 (1996).
2. C. C. Tsuei, J. R. Kirtley, C. C. Chi, L. S. Yu-Jahnes, A. Gupta, T. Shaw, J. S. Sun, and M. B. Ketchen, Phys. Rev. Lett. 73, 593 (1994).
3. T. D. Stowe, K. Yasumura, T. W. Kenny, D. Botkin, K. Wago, and D. Rugar, Appl. Phys. Lett. 71, 288 (1997).
4. T. R. Albrecht, P. Grutter, and D. Rugar, Ultramicroscopy 42-44, 1638 (1992).
5. A. Moser, H. J. Hug, I. Parashikov, B. Stiefel, O. Fritz, H. Thomas, A. Baratoff, and H.-J. Güntherodt, Phys. Rev. Lett. 74, 1847 (1995).
6. W. Allers, A. Schwarz, U. D. Schwarz, and R. Wiesendanger, Rev. Sci. Instrum. 69, 221 (1998).
7. H. J. Hug, B. Stiefel, P. J. A. van Schendel, A. Moser, S. Martin, and H.-J. Güntherodt, Rev. Sci. Instrum. 70, 3625 (1999).
8. C. W. Yuan, E. Batalla, M. Zacher, A. L. de Lozanne, M. D. Kirk, and M. Tortonese, Appl. Phys. Lett. 65, 1308 (1994).
9. R. E. Thomson, Rev. Sci. Instrum. 70, 3369 (1999).
10. U. Rabe, K. Janser, and W. Arnold, Rev. Sci. Instrum. 67, 3281 (1996).
11. I. B. Altfeder and A. P. Volodin, Rev. Sci. Instrum. 64, 3157 (1993).
12. A. Lee, Rev. Sci. Instrum. 64, 2373 (1993).
13. M. S. Valera and A. N. Farley, Meas. Sci. Technol. 7, 30 (1996).
14. A. Wadas, P. Rice, and J. Moreland, Appl. Phys, A: Solids Surf. 59, 63 (1994).
15. L. Zhou, S. McVitie, and J. N. Chapman, J. Magn. Magn. Mater. 148, 237 (1995).
16. M. Dreier, D. Anselmetti, T. Richmond, U. Dammer, and H.-J. Güntherodt, J. Appl. Phys. 76, 5095 (1994).
17. S. C. Minne, S. R. Manalis, A. Atalar, and C. F. Quate, Appl. Phys. Lett. 68, 1427 (1996).
18. A. Volodin and C. Van Haesendonck, Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 66, S305 (1998).
19. G. Y. Chen, R. J. Warmack, T. Thundat, D. P. Allison, and A. Huang, Rev. Sci. Instrum. 65, 2532 (1994).
20. M. Tortonese, R. C. Barren, and C. F. Quate, Appl. Phys. Lett. 62, 834 (1993).
21. F. J. Giessibl and B. M. Trafas, Rev. Sci. Instrum. 65, 1923 (1994).
22. Y. Martin, C. C. Williams, and H. K. Wickramasinghe, J. Appl. Phys. 61, 4723 (1987).
23. M. Hoummady and E. Farnault, Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 66, S361 (1998).
24. J. Fritz, M. Wulfert, H. J. Hug, H. Thomas, and H.-J. Güntherodt, Phys. Rev. B 47, 384 (1993).
25. R. Berthe, U. Hartmann, and C. Heiden, Appl. Phys. Lett. 57, 2351 (1990).
26. A. Volodin, K. Temst, C. Van Haesendonck, and Y. Bruynseraede, Appl. Phys. Lett. 73, 1134 (1998).
27. G. Blatter, M. V. Feigelman, V. B. Geshkenbein, A. I. Larkin, and V. M. Vinokur, Rev. Mod. Phys. 66, 1125 (1994).
28. S. Behler, S. H. Pan, M. Bernasconi, P. Jess, H. J. Hug, O. Fritz, and H.-J. Güntherodt, J. Vac. Sci. Technol. B 12, 2209 (1994).