Long-time stability of high-concentration copper complexes in silicon crystals

Applied Physics Letters

Volumn 79, Issue 18, 2001, Pages 2904-2906

  Nakamura, Minoru ^a,b  

^a HITACHI LTD   (Japan)

^b NONE   (Japan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0000015859     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1415413     Document Type: Article

References (21)

1. P. Singer, Semicond. Int., 91 (1998).
2. K. P. Yap, H. Gong, J. Y. Dai, T. Osipowicz, L. H. Chan, and S. K. Lahiri, J. Electrochem. Soc. 147, 2312 (2000).
3. E. R. Weber, Appl. Phys. A: Solids Surf. 30, 1 (1983).
4. S. D. Brotherton, J. R. Ayres, A. Gill, H. W. van Kesteren, and F. J. A. M. Greidanus, J. Appl. Phys. 62, 1826 (1987).
5. H. B. Erzgräber and K. Schmalz, J. Appl. Phys. 78, 4066 (1995).
6. M. B. Shabani, T. Yoshimi, and H. Abe, J. Electrochem. Soc. 143, 2025 (1996).
7. M. Nakamura, S. Ishiwari, and A. Tanaka, Appl. Phys. Lett. 73, 2325 (1998).
8. C. McCarthy, M. Miyazaki, H. Horie, S. Okamoto, and H. Tsuya, in Semi-conductor Silicon 1998, edited by H. R. Huff, H. Tsuya, and U. Gosele, The Electrochemical Society Proceedings Series (Electrochemical Society, Pennington, NJ, 1998), Vol. 98-1, p. 629.
9. C. Flink, H. Feick, S. A. McHugo, W. Seifert, H. Hieslmair, T. Heiser, A. A. Istratov, and E. R. Weber, Phys. Rev. Lett. 85, 4900 (2000).
10. M. Nakamura, Appl. Phys. Lett. 76, 2089 (2000).
11. N. S. Minaev, A. V. Mudryi, and V. D. Tkachev, Sov. Phys. Semicond. 13, 233 (1979).
12. J. Weber, H. Bauch, and R. Sauer, Phys. Rev. B 25, 7688 (1982).
13. M. Nakamura and H. Iwasaki, J. Appl. Phys. 86, 5372 (1999).
14. M. Nakamura, J. Electrochem. Soc. 147, 796 (2000).
15. A. A. Istratov, C. Flink, H. Hieslmair, T. Heiser, and E. R. Weber, Appl. Phys. Lett. 71, 2121 (1997); 71, 2349 (1997).
16. A. A. Istratov, C. Flink, H. Hieslmair, T. Heiser, and E. R. Weber, Appl. Phys. Lett. 71, 2121 (1997); 71, 2349 (1997).
17. A. A. Istratov, H. Hedemann, M. Seibt, O. F. Vyvenko, W. Schröten T. Heiser, C. Flink, H. Hieslmair, and E. R. Weber, J. Electrochem. Soc. 145, 3889 (1998).
18. W. B. Henley, D. A. Ramappa, and L. Jastrezbski, Appl. Phys. Lett. 74, 278 (1999).
19. A. Mesli, T. Heiser, and E. Mulheim, Mater. Sci. Eng., B 25, 141 (1994).
20. A. Mesli and T. Heiser, Phys. Rev. B 45, 11632 (1992).
21. S. Koveshnikov and H. Mollenkopf, The Electrochem. Society Extended Abstracts (Electrochemical Society, Pennington, NJ, 1996), Vol. 96-2, p. 489.