Electrochemical impedance spectroscopy and first-principle investigations on the oxidation mechanism of hypophosphite anion in the electroless deposition system of nickel

Journal of Physical Chemistry C

Volumn 112, Issue 12, 2008, Pages 4601-4607

  Cui, Guofeng ^a   Liu, Hong ^a   Wu, Gang ^b   Zhao, Jianwei ^c   Song, Shuqin ^a   Shen, Pei Kang ^a  

^a SUN YAT SEN UNIVERSITY   (China)

^b The Department of Mechanical Engineering   (United States)

^c NANJING UNIVERSITY   (China)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

CHEMICAL OXYGEN DEMAND; ELECTROCHEMICAL CORROSION; ELECTROCHEMICAL OXIDATION; ELECTROLESS PLATING; MECHANISMS; NEGATIVE IONS; NICKEL; OXIDATION;

ELECTROCHEMICAL IMPEDANCE (EIS); ELECTROLESS DEPOSITION (ELD); HYPOPHOSPHITE (PCH); OXIDATION MECHANISMS;

ELECTROCHEMICAL IMPEDANCE SPECTROSCOPY;

EID: 84962449950     PISSN: 19327447     EISSN: 19327455     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/jp7097119     Document Type: Article

References (42)

1. Tierno, P.; Goedel, W. A. J. Phys. Chem. B 2006, 110, 3043.
2. Xie, S.; Qiao, M.; Zhou, W.; Luo, G.; He, H.; Fan, K.; Zhao, T.; Yuan, W. J. Phys. Chem. B 2005, 109, 24361.
3. Ishii, D.; Nagashima, T.; Udatsu, M.; Sun, R. D.; Ishikawa, Y.; Kawasaki, S.; Yamada, M.; Iyoda, T.; Nakagawa, M. Chem. Mater. 2006, 18, 2152.
4. Hendricks, T. R.; Dams, E. E.; Wensing, S. T.; Lee, I. Langmuir 2007, 23, 7404.
5. Nakagawa, M.; Nawa, N.; Iyoda, T. Langmuir 2004, 20, 9844.
6. Homma, T.; Komatsu, I.; Tamaki, A.; Nakai, H.; Osaka, T. Electrochim. Acta 2001, 47, 47.
7. Nakai, H.; Homma, T.; Komatsu, I.; Osaka, T. J. Phys. Chem. B 2001, 105, 1701.
8. Homma, T.; Tamaki, A.; Nakai, H.; Osaka, T. J. Electroanal. Chem. 2003, 559, 131.
9. Touhami, M. E.; Chassaing, E.; Cherkaoui, M. Electrochim. Acta 1998, 43, 1721.
10. Touhami, M. E.; Chassaing, E.; Cherkaoui, M. Electrochim. Acta 2003, 48, 3651.
11. Xukuforova, A. A.; Kabakov, G. A. Electrochemistry 1967, 3, 1207.
12. Han, K. P.; Fang, J. L. J. Appl. Electrochem. 1996, 26, 1273.
13. Jusys, Z.; Liaukonis, J.; Vaskelis, A. J. Electroanal. Chem. 1992, 325, 247.
14. Kim, Y. S.; Sohn, H. J. J. Electrochem. Soc. 1996, 143, 505.
15. Van der Meeraker, J. W. J. Appl. Electrochem. 1981, 11, 395.
16. Gafin, A. H.; Orchard, S. W. J. Appl. Electrochem. 1992, 22, 830.
17. Gafin, A. H.; Orchard, S. W. J. Electrochem. Soc. 1993, 140, 3458.
18. Guofeng, C.; Ning, L.; Deyu, L.; Minglei, C. J. Electrochem. Soc. 2005, 152, C669.
19. Guofeng, C.; Ning, L.; JianWei, Z.; Mingbo, Z. J. Electrochem. Soc. 2005, 152, C861.
20. Yin, X.; Hong, L.; Chen, B. H. J. Phys. Chem. B 2004, 108, 10919.
21. Yin, X.; Hong, L.; Chen, B.-H.; Ko, T.-M. J. Colloid. Interface Sci. 2003, 262, 89.
22. Chen, C. H.; Chen, B. H.; Hong, L. Chem. Mater. 2006, 18, 2959.
23. Lin, S. C.; Chen, S. Y.; Cheng, S. Y.; Lin, J. C. Solid State Sci. 2005, 7, 897.
24. Frisch, M. J.; Trucks, G. W.; Schlegel, H. B.; Scuseria, G. E.; Robb, M. A.; Cheeseman, J. R.; Montgomery, J. A., Jr.; Vreven, T.; Kudin, K. N.; Burant, J. C.; Millam, J. M.; Iyengar, S. S.; Tomasi, J.; Barone, V.; Mennucci, B.; Cossi, M.; Scalmani, G.; Rega, N.; Petersson, G. A.; Nakatsuji, H.; Hada, M.; Ehara, M.; Toyota, K.; Fukuda, R.; Hasegawa, J.; Ishida, M.; Nakajima, T.; Honda, Y.; Kitao, O.; Nakai, H.; Klene, M.; Li, X.; Knox, J. E.; Hratchian, H. P.; Cross, J. B.; Adamo, C.; Jaramillo, J.; Gomperts, R.; Stratmann, R. E.; Yazyev, O.; Austin, A. J.; Cammi, R.; Pomelli, C.; Ochterski, J. W.; Ayala, P. Y.; Morokuma, K.; Voth, G. A.; Salvador, P.; Dannenberg, J. J.; Zakrzewski, V. G.; Dapprich, S.; Daniels, A. D.; Strain, M. C.; Farkas, O.; Malick, D. K.; Rabuck, A. D.; Raghavachari, K.; Foresman, J. B.; Ortiz, J. V.; Cui, Q.; Baboul, A. G.; Clifford, S.; Cioslowski, J.; Stefanov, B. B.; Liu, G.; Liashenko, A.; Piskorz, P.; Komaromi, I.; Martin, R. L.; Fox, D. J.; Keith, T.; Al-Laham, M. A.; Peng, C. Y.; Nanayakkara, A.; Challacombe, M.; Gill, P. M. W.; Johnson, B.; Chen, W.; Wong, M. W.; Gonzalez, C.; Pople, J. A. Gaussian 03, revision C.02; Gaussian Inc.: Pittsburgh, PA, 2003.
25. Kohn, W.; Becke, A. D.; Parr, R. G. J. Phys. Chem. 1996, 100, 12974.
26. Becke, A. D. J. Chem. Phys. 1993, 98, 5648.
27. Lee, C.; Yang, W.; Parr, R. D. Phys. Rev. B: Condens. Matter Mater. Phys. 1988, 37, 785.
28. Hay, P. J.; Wadt, W. R. J. Chem. Phys. 1985, 82, 301.
29. Shimada, T.; Sakata, K.; Homma, T.; Nakai, H.; Osaka, T. Electrochim. Acta 2005, 51, 906.
30. Miertus, S.; Scrocco, E.; Tomasi, J. Chem. Phys. 1981, 55, 117.
31. Barone, V.; Cossi, M.; Mennucci, B.; Tomasi, J. J. Chem. Phys. 1997, 107, 3210.
32. Cossi, M.; Barone, V.; Mennucci, B.; Tomasi, J. Chem. Phys. Lett. 1998, 286, 253.
33. Barone, V.; Cossi, M.; Tomasi, J. J. Comput. Chem. 1998, 19, 404.
34. Dean, J. A. Lange's Handbook of Chemistry, 15th ed.; McGraw-Hill Book Co.: New York, 1999; Chapter 5, p 5.134.
35. Magagnin, L.; Sirtori, V.; Seregni, S.; Origo, A.; Cavallotti, P. L. Electrochim. Acta 2005, 50, 4622.
36. Gyliené; O.; Vaškelis, A.; Tarozaité, R.; Jagminiené; A. Chemija 2007, 18, 2.
37. Cao, C. N.; Zhang, J. Q. An Introduction to Electrochemical Impedance Spectroscopy; Science Press: Beijing, 2002; Chapter 4, p 78.
38. Kaneno, D.; Tomoda, S. Org. Lett. 2003, 5, 2947.
39. Alabugin, I. V.; Manoharan, M.; Weinhold, F. A. J. Phys. Chem. A 2004, 108, 4720.
40. Tormena, C. F.; Dias, L. C.; Rittner, R. J. Phys. Chem. A 2005, 109, 6077.
41. Ortega, D. T.; Pandiyan, T.; Cruz, J.; Ochoa, E. G. J. Phys. Chem. C 2007, 111, 9853.
42. Costa, D.; Martra, G.; Che, M.; Manceron, L.; Kermarec, M. J. Am. Chem. Soc. 2002, 124, 7210.