Enhanced Field Emission from a Carbon Nanotube Array Coated with a Hexagonal Boron Nitride Thin Film

Small

Volumn 11, Issue 30, 2015, Pages 3710-3716

  Yang, Xiaoxia ^a   Li, Zhenjun ^a   He, Feng ^b   Liu, Mingju ^a   Bai, Bing ^a   Liu, Wei ^c   Qiu, Xiaohui ^a   Zhou, Hang ^b   Li, Chi ^a   Dai, Qing ^a  

^a NATIONAL CENTER FOR NANOSCIENCE AND TECHNOLOGY   (China)

^b PEKING UNIVERSITY   (China)

^c UNIVERSITY OF CHINESE ACADEMY OF SCIENCES   (China)

Author keywords

carbon nanotubes; electron sources; field emission; h BN; long lifetimes arrays; thin films

Indexed keywords

BORON NITRIDE; CARBON; CARBON FILMS; DIAMOND FILMS; ELECTRON AFFINITY; ELECTRON EMISSION; ELECTRON SOURCES; FIELD EMISSION; NITRIDES; SCALABILITY; THIN FILMS; YARN;

ENHANCED FIELD EMISSION; FIELD EMISSION ELECTRON SOURCES; H-BN; HEXAGONAL BORON NITRIDE; HEXAGONAL BORON NITRIDE (H-BN); LONG LIFETIME; NEGATIVE ELECTRON AFFINITY; VACUUM ELECTRONIC DEVICES;

CARBON NANOTUBES;

EID: 84938748421     PISSN: 16136810     EISSN: 16136829     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/smll.201403323     Document Type: Article

References (43)

1. W. A. De Heer, A. Châtelain, D. Ugarte, Science 1995, 270, 5239.
2. K. B. K. Teo, M. Chhowalla, G. A. J. Amaratunga, W. I. Milne, G. Pirio, P. Legagneux, F. Wyczisk, D. Pribat, D. G. Hasko, Appl. Phys. Lett. 2002, 80, 11.
3. W. Wei, K. Jiang, Y. Wei, P. Liu, K. Liu, L. Zhang, Q. Li, S. Fan, Appl. Phys. Lett. 2006, 89, 20.
4. R. H. Baughman, A. A. Zakhidov, W. A. de Heer, Science 2002, 297, 5582.
5. Z. Liu, G. Yang, Y. Z. Lee, D. Bordelon, J. Lu, O. Zhou, Appl. Phys. Lett. 2006, 89, 10.
6. J. Zhang, G. Yang, Y. Cheng, B. Gao, Q. Qiu, Y. Z. Lee, J. P. Lu, O. Zhou, Appl. Phys. Lett. 2005, 86, 18.
7. W. I. Milne, K. B. K. Teo, G. A. J. Amaratunga, P. Legagneux, L. Gangloff, J. P. Schnell, V. Semet, V. T. Binh, O. Groening, J. Mater. Chem. 2004, 14, 6.
8. W. I. Milne, K. B. K. Teo, M. Mann, I. Y. Y. Bu, G. A. J. Amaratunga, N. De Jonge, M. Allioux, J. T. Oostveen, P. Legagneux, E. Minoux, L. Gangloff, L. Hudanski, J. P. Schnell, L. D. Dieumegard, F. Peauger, T. Wells, M. El-Gomati, Phys. Status Solidi A 2006, 203, 6.
9. X. W. Sun, J. Z. Huang, J. X. Wang, Z. Xu, Nano. Lett. 2008, 8, 1219.
10. N. de Jonge, M. Allioux, J. T. Oostveen, K. B. K. Teo, W. I. Milne, Appl. Phys. Lett. 2005, 87, 133118.
11. S. Fan, M. G. Chapline, N. R. Franklin, T. W. Tombler, A. M. Cassell, H. Dai, Science 1999, 283, 512.
12. S. G. Wang, X. Calderon, R. Peng, E. C. Schreiber, O. Zhou, S. Chang, Appl. Phys. Lett. 2011, 98, 213701.
13. J. W. Jeong, J. T. Kang, S. Y. Choi, J. W. Kim, S. J. Ahn, Y. H. Song, Appl. Phys. Lett. 2013, 102, 023504.
14. C. J. Park, D. K. Choi, J. Yoo, G. C. Yi, C. J. Lee, Appl. Phys. Lett. 2007, 90, 083107.
15. M. W. Geis, N. N. Efremow, J. D. Woodhouse, M. D. McAleese, M. Marchywka, D. G. Socker, J. F. Hochedez, IEEE Electron Device Lett. 1991, 12, 456.
16. M. J. Powers, M. C. Benjamin, L. M. Porter, R. J. Nemanich, R. F. Davis, J. J. Cuomo, G. L. Doll, S. J. Harris, Appl. Phys. Lett. 1995, 67, 3912.
17. M. C. Benjamin, C. Wang, R. F. Davis, R. J. Nemanich, Appl. Phys. Lett. 1994, 64, 3288.
18. C. X. Xu, X. W. Sun, B. J. Chen, Appl. Phys. Lett. 2004, 84, 1540.
19. C. J. Park, D. K. Choi, J. Yoo, G. C. Yi, C. J. Lee, Appl. Phys. Lett. 2007, 90, 083107.
20. Q. H. Li, Q. Wan, Y. J. Chen, T. H. Wang, H. B. Jia, D. P. Yu, Appl. Phys. Lett. 2004, 85, 636.
21. J. H. Jo, D. Banerjee, Z. F. Ren, Appl. Phys. Lett. 2004, 85, 8.
22. K. H. Lee, H. J. Shin, J. Y. Lee, I. Y. Lee, G. H. Kim, J. Y. Choi, S. W. Kim, Nano. Lett. 2012, 12, 714.
23. V. V. Zhirnov, W. B. Choi, J. J. Cuomo, J. J. Hren, Appl. Surf. Sci. 1996, 94/95, 123.
24. R. T. Paine, C. K. Narula, Chem. Rev. 1990, 90, 73.
25. S. P. S. Arya, A. D. Amico, Thin Solid Films 1988, 157, 267.
26. A. S. Rozenberg, Y. A. Sinenko, N. V. Chukanov, J. Mater. Sci. 1993, 28, 5528.
27. A. Ismach, H. Chou, D. A. Ferrer, Y. P. Wu, S. McDonnell, H. C. Floresca, A. Covacevich, C. Pope, R. Piner, M. J. Kim, R. M. Wallace, L. Colombo, R. S. Ruoff, ACS Nano. 2012, 6, 6378.
28. F. Rebillat, A. Guette, R. Naslain, C. Robin Brosse, J. Eur. Ceram. Soc. 1997, 17, 1403.
29. X. X. Yang, Z. X. Guan, M. Zeng, J. K. Wei, W. L. Wang, X. Bai, Small 2013, 9, 1353.
30. D. Kang, R. C. Sanwald, J. J. Hren, J. J. Cuomo, J. Vac. Sci. Technol. B 2001, 19, 50.
31. V. V. Zhirnov, G. J. Wojak, W. B. Choi, J. J. Cuomo, J. J. Hren, J. Vac. Sci. Technol. A 1997, 15, 1733.
32. R. Gomer, Field Emission and Field Ionization, Harvard University Press, Cambridge 1961.
33. J. L. Shaw, H. F. Gray, K. L. Jensen, T. M. Jung, J. Vac. Sci. Technol. B 1996, 14, 2072.
34. T. T. Tsong, Surf. Sci. 1979, 81, 28.
35. F. S. Baker, J. Williams, A. R. Osborn, Nature 1972, 239, 96.
36. M. J. G. Lee, Phys. Rev. Lett. 1973, 30, 1193.
37. X. H. Liang, S. Z. Deng, N. S. Xu, J. Chen, N. Y. Huang, J. C. She, Appl. Phys. Lett. 2006, 88, 1.
38. K. B. K. Teo, M. Chhowalla, G. A. J. Amaratunga, W. I. Milne, P. Legagneux, G. Pirio, L. Gangloff, D. Pribat, V. Semet, V. T. Binh, J. Vac. Sci. Technol. B 2003, 21, 693.
39. M. Nakamoto, J. Moon, K. Shiratori, J. Vac. Sci. Technol. B 2010, 28, C2B1.
40. H. Y. Tseng, Y. W. Wang, C. M. Chen, C. Y. Huang, S. S. Sheu, W. Y. Lin, Y. H. Chen, M. H. Lin, C. T. Lee, Proc. Int. Disp. Workshops 2004, 11, 1171.
41. C. Kim, Y. S. Choi, S. M. Lee, J. T. Park, B. Kim, Y. H. Lee, J. Am. Chem. Soc. 2002, 124, 9906.
42. X. Qian, A. Tucker, E. Gidcumb, J. Shan, G. Yang, X. Calderon-Colon, S. Sultana, J. P. Lu, Med. Phys. 2012, 39, 2090.
43. C. Li, M. Mann, D. Hasko, W. Lei, B. P. Wang, D. P. Chu, D. Pribat, G. A. J. Amaratunga, W. I. Milne, Appl. Phys. Lett. 2010, 97, 113107.