-
1
-
-
84893463184
-
-
K. R. McClain C. O'Donohue A. Koley R. O. Bonsu K. A. Abboud J. C. Revelli T. J. Anderson L. McElwee-White J. Am. Chem. Soc. 2014 136 1650 1662
-
(2014)
J. Am. Chem. Soc.
, vol.136
, pp. 1650-1662
-
-
Mcclain, K.R.1
O'Donohue, C.2
Koley, A.3
Bonsu, R.O.4
Abboud, K.A.5
Revelli, J.C.6
Anderson, T.J.7
McElwee-White, L.8
-
2
-
-
67650299741
-
-
D. Kim O. H. Kim T. Anderson J. Koller L. McElwee-White L.-C. Leu J. M. Tsai D. P. Norton J. Vac. Sci. Technol., A 2009 27 943 950
-
(2009)
J. Vac. Sci. Technol., A
, vol.27
, pp. 943-950
-
-
Kim, D.1
Kim, O.H.2
Anderson, T.3
Koller, J.4
Mcelwee-White, L.5
Leu, L.-C.6
Tsai, J.M.7
Norton, D.P.8
-
3
-
-
35948951624
-
-
M. G. Sung K.-Y. Lim H.-J. Cho S. R. Lee S.-A. Jang Y. S. Kim T.-Y. Kim H.-S. Yang J.-C. Ku J. W. Kim Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 2007 46 7256 7262
-
(2007)
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1
, vol.46
, pp. 7256-7262
-
-
Sung, M.G.1
Lim, K.-Y.2
Cho, H.-J.3
Lee, S.R.4
Jang, S.-A.5
Kim, Y.S.6
Kim, T.-Y.7
Yang, H.-S.8
Ku, J.-C.9
Kim, J.W.10
-
12
-
-
79961131920
-
-
K. Zhang H. Wang X. He Z. Liu L. Wang L. Gu H. Xu P. Han S. Dong C. Zhang J. Yao G. Cui L. Chen J. Mater. Chem. 2011 21 11916 11922
-
(2011)
J. Mater. Chem.
, vol.21
, pp. 11916-11922
-
-
Zhang, K.1
Wang, H.2
He, X.3
Liu, Z.4
Wang, L.5
Gu, L.6
Xu, H.7
Han, P.8
Dong, S.9
Zhang, C.10
Yao, J.11
Cui, G.12
Chen, L.13
-
13
-
-
84863156807
-
-
Y. Yue P. Han X. He K. Zhang Z. Liu C. Zhang S. Dong L. Gu G. Cui J. Mater. Chem. 2012 22 4938 4943
-
(2012)
J. Mater. Chem.
, vol.22
, pp. 4938-4943
-
-
Yue, Y.1
Han, P.2
He, X.3
Zhang, K.4
Liu, Z.5
Zhang, C.6
Dong, S.7
Gu, L.8
Cui, G.9
-
17
-
-
84865141444
-
-
S. Wang X. Yu Z. Lin R. Zhang D. He J. Qin J. Zhu J. Han L. Wang H.-k. Mao J. Zhang Y. Zhao Chem. Mater. 2012 24 3023 3028
-
(2012)
Chem. Mater.
, vol.24
, pp. 3023-3028
-
-
Wang, S.1
Yu, X.2
Lin, Z.3
Zhang, R.4
He, D.5
Qin, J.6
Zhu, J.7
Han, J.8
Wang, L.9
Mao, H.-K.10
Zhang, J.11
Zhao, Y.12
-
20
-
-
22644450444
-
-
J. E. Kelsey C. Goldberg G. Nuesca G. Peterson A. E. Kaloyeros B. Arkles J. Vac. Sci. Technol., B: Microelectron. Nanometer Struct.-Process., Meas., Phenom. 1999 17 1101 1104
-
(1999)
J. Vac. Sci. Technol., B: Microelectron. Nanometer Struct.-Process., Meas., Phenom.
, vol.17
, pp. 1101-1104
-
-
Kelsey, J.E.1
Goldberg, C.2
Nuesca, G.3
Peterson, G.4
Kaloyeros, A.E.5
Arkles, B.6
-
22
-
-
9644268968
-
-
M. Bereznai Z. Toth A. P. Caricato M. Fernandez A. Luches G. Majni P. Mengucci P. M. Nagy A. Juhasz L. Nanai Thin Solid Films 2005 473 16 23
-
(2005)
Thin Solid Films
, vol.473
, pp. 16-23
-
-
Bereznai, M.1
Toth, Z.2
Caricato, A.P.3
Fernandez, M.4
Luches, A.5
Majni, G.6
Mengucci, P.7
Nagy, P.M.8
Juhasz, A.9
Nanai, L.10
-
24
-
-
0141458248
-
-
H. S. Sim S. I. Kim Y. T. Kim J. Vac. Sci. Technol., B: Microelectron. Nanometer Struct.-Process., Meas., Phenom. 2003 21 1411 1414
-
(2003)
J. Vac. Sci. Technol., B: Microelectron. Nanometer Struct.-Process., Meas., Phenom.
, vol.21
, pp. 1411-1414
-
-
Sim, H.S.1
Kim, S.I.2
Kim, Y.T.3
-
25
-
-
34347345065
-
-
S.-H. Kim J.-K. Kim J. H. Lee N. Kwak J. Kim S.-H. Jung M.-R. Hong S. H. Lee J. Collins H. Sohn J. Electrochem. Soc. 2007 154 D435 D441
-
(2007)
J. Electrochem. Soc.
, vol.154
, pp. D435-D441
-
-
Kim, S.-H.1
Kim, J.-K.2
Lee, J.H.3
Kwak, N.4
Kim, J.5
Jung, S.-H.6
Hong, M.-R.7
Lee, S.H.8
Collins, J.9
Sohn, H.10
|