AACVD of molybdenum sulfide and oxide thin films from molybdenum(V)-based single-source precursors

Chemical Vapor Deposition

Volumn 21, Issue 1-3, 2015, Pages 71-77

  Savjani, Nicky ^a   Brent, Jack R ^a   O'Brien, Paul ^a  

^a UNIVERSITY OF MANCHESTER   (United Kingdom)

Author keywords

AACVD; Breakdown mechanism; Molybdenum oxides; Molybdenum sulfides; Two dimensional structures

Indexed keywords

LAYERED SEMICONDUCTORS; MOLYBDENUM OXIDE; NANOSTRUCTURES; OXIDE FILMS; SCANNING ELECTRON MICROSCOPY; SUBSTRATES; SULFUR COMPOUNDS;

AACVD; BREAKDOWN MECHANISM; DECOMPOSITION PROCESS; DEPOSITION TEMPERATURES; LOWER TEMPERATURES; MOLYBDENUM SULFIDE; SINGLE-SOURCE PRECURSOR; TWO-DIMENSIONAL STRUCTURES;

THIN FILMS;

EID: 84924245851     PISSN: 09481907     EISSN: 15213862     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/cvde.201407135     Document Type: Article

References (52)

1. a) H. Wang, H. Feng, J. Li, Small 2014, 10, 2165.
2. b) D. Jariwala, V. K. Sangwan, L. J. Lauhon, T. J. Marks, M. C. Hersam, ACS Nano 2014, 8, 1102;
3. c) X. Song, J. Hu, H. Zeng, J. Mater. Chem. C 2013, 1, 2952;
4. d) M. Chhowalla, H. S. Shin, G. Eda, L.-J. Li, K. P. Loh, H. Zhang, Nature Chem. 2013, 5, 263;
5. nd Saudi Japan Annual Symp; Catalysts in Petroleum Refining & Petrochemicals, Curran Associates, Inc., Saudi Arabia, 2012.
6. X. Huang, Z. Zeng, H. Zhang, Chem. Soc. Rev. 2013, 42, 1934.
7. a) X. Zhang, Y. Xie, Chem. Soc. Rev. 2013;
8. b) F. Bonaccorso, A. Lombardo, T. Hasan, Z. Sun, L. Colombo, A. C. Ferrari, Mater. Tod. 2012, 15, 564.
9. D. Kong, H. Wang, J. J. Cha, M. Pasta, K. J. Koski, J. Yao, Y. A. Cui, Nano Lett. 2013, 13, 1341.
10. Y.-H. Lee, X.-Q. Zhang, W. Zhang, M.-T. Chang, C.-T. Lin, K.-D. Chang, Y.-C. Yu, J.T. -W. Wang, C.-S. Chang, L.-J. Li, T.-W. Lin, Adv. Mater. 2012, 24, 2320.
11. a) X. Wang, H. Feng, Y. Wu, L. Jiao, J. Am. Chem. Soc. 2013, 135, 5304;
12. b) Y. Zhan, Z. Liu, S. Najmaei, P. M. Ajayan, J. Lou, Small 2012, 8, 966;
13. c) Y.-C. Lin, W. Zhang, J.-K. Huang, K.-K. Liu, Y.-H. Lee, C.-T. Liang, C.-W. Chu, L.-J. Li, Nanoscale 2012, 4, 6637.
14. a) D. J. Lewis, P. Kevin, O. Bakr, C. A. Muryn, M. A. Malik, P. O'Brien, Inorg. Chem. Front. 2014, 1, 577;
15. b) L. D. Nyamen, N. Revaprasadu, R. V. S. R. Pullabhotla, A. A. Nejo, P. T. Ndifon, M. A. Malik, P. O'Brien, Polyhedron 2013, 56, 62;
16. c) K. Ramasamy, V. L. Kuznetsov, K. Gopal, M. A. Malik, J. Raftery, P. P. Edwards, P. O'Brien, Chem. Mater. 2013, 25, 266;
17. d) M. Akhtar, A. L. Abdelhady, M. A. Malik, P. O'Brien, J. Cryst. Growth 2012, 346, 106;
18. e) M. Afzaal, C. L. Rosenberg, M. A. Malik, A. J. P. White, P. O'Brien, New J. Chem. 2011, 35, 2773.
19. a)A. Mietlarek-Kropidlowska, J. Chojnacki, M. Strankowski, A. Fahmi, M. Gazda, B. Becker, J. Therm. Anal. Calorim. 2014, 118, 993;
20. b) A. S. R. Chesman, N. W. Duffy, A. Martucci, L. D. O. Tozi, T. B. Singh, J. J. Jasieniak, J. Mater. Chem. C 2014, 2, 3247;
21. c) M. Deng, S. Shen, Y. Zhang, H. Xu, Q, Wang, New J. Chem. 2014, 38, 77;
22. d) A. K. Sahoo, S. K. Srivastava, J. Nanopart. Res. 2013, 15, 1591;
23. e) M. A. Ehsan, T. A. N. Peiris, K. G. U. Wijayantha, H. Khaledi, H. N. Ming, M. Misran, Z. Arifin, M. Mazhar, Thin Solid Films 2013, 540, 1;
24. f) P. A. Ajibade, D. C. Onwudiwe, Synth. React Inorg. Me. 2012, 43, 10.
25. a) M. A. Malik, P. O'Brien, A. Adeogun, M. Helliwell, J. Raftery, J. Coord. Chem. 2008, 61, 79;
26. b) A. Adeogun, M. Afzaal, P. O'Brien, Chem. Vap. Deposition 2006, 12, 597.
27. O. C. Monteiro, T. Trindade, Mater. Res. Bull. 2004, 39, 357.
28. T. M. Meulemans, G. A. Stork, F. Z. Macaev, B. J. M. Jansen, A. de Groot, J. Org. Chem. 1999, 64, 9178.
29. T. Lutz, A. MacLachlan, A. Sudlow, J. Nelson, M. S. Hill, K. C. Molloy, S. A. Haque, Phys. Chem. Chem. Phys. 2012, 14, 16192.
30. J. Akhtar, M. Afzaal, M. A. Vincent, N. A. Burton, I. H. Hillier, P. O'Brien, Chem. Commun. 2011, 47.
31. a) D. C. Onwudiwe, A. D. Mohammed, C. A. Strydom, D. A. Young, A. Jordaan, Superlattice Microst. 2014, 70, 98;
32. b) M. Akhtar, M. A. Malik, F. Tuna, P. O'Brien, J. Mater. Chem. A 2013, 1, 8766;
33. c) J. M. Behrendt, M. Afzaal, L. M. Alexander, M. Bradley, A. V. Hine, D. Nagel, P. O'Brien, K. Presland, A. J. Sutherland, J. Mater. Chem. 2009, 19, 215;
34. d) N. Alam, M. S. Hill, G. Kociok-Koehn, M. Zeller, M. Mazhar, K. C. Molloy, Chem. Mater. 2008, 20, 6157;
35. e) J. R. Castro, K. C. Molloy, Y. Liu, C. S. Lai, Z. L. Dong, T. J. White, E. R. T. Tiekink, J. Mater. Chem. 2008, 18, 5399;
36. f) D. Barreca, E. Tondello, D. Lydon, T. R. Spalding, M. Fabrizio, Chem. Vap. Deposition 2003, 9, 93;
37. g) L. Armelao, D. Barreca, G. Bottaro, A. Gasparotto, C. Maragno, C. Sada, T. R. Spalding, E. Tondello, Electrochem. Soc. Proc. 2003, 8, 1104;
38. h) P. S. Nair, T. Radhakrishnan, N. Revaprasadu, G. Kolawole, P. O'Brien, J. Mater. Chem. 2002, 12, 2722.
39. a) E. Nagatomi, N. Shinoda, Y. Aihara, Patent No. WO/2008/113814, Washington DC, U.S.A., 2008;
40. b) A. Nakamura, M. Kamada, K. Sugihashi, S. Otsuka, J. Molec. Catal. 1980, 8, 353;
41. c) W. E. Newton, J. L. Corbin, J. W. McDonald, J. Chem. Soc., Dalton Trans. 1974, 1044;
42. d) R. N. Jowitt, P. C. H. Mitchell, J. Chem. Soc. A 1970, 1702;
43. e) R. N. Jowitt, P. C. H. Mitchell, Chem. Commun. 1966, 605.
44. M. Chunggaze, M. A. Malik, P. O'Brien, J. Mater. Chem. 1999, 9, 2433.
45. P. C. H. Mitchell, Wear 1984, 100, 281.
46. C. H. Klute, W. D. Walters, J. Am. Chem. Soc. 1946, 68, 506.
47. S. L. Li, H. Miyazaki, H. Song, H. Kuramochi, S. Nakaharai, K. Tsukagoshi, ACS Nano 2012, 6, 7381.
48. V. Štengl, J. Henych, Nanoscale 2013, 5, 3387.
49. H. W. Wang, P. Skeldon, G. E. Thompson, J. Mater. Sci. 1998, 33, 3079.
50. S. Ashraf, C. S. Blackman, G. Hyett, I. P. Parkin, J. Mater. Chem. 2006, 16, 3575.
51. D. Barreca, E. Tondello, D. Lydon, T. R. Spalding, M. Fabrizio, Chem. Vap. Deposition 2003, 9, 93.
52. V. G. Bessergenev, E. N. Ivanova, Y. A. Kovalevskaya, S. A. Gromilov, V. N. Kirichenko, S. M. Zemskova, I. G. Vasilieva, B. M. Ayupov, N. L. Shwarz, Mater. Res. Bull. 1995, 30, 1393.