Effect of annealing temperature on microstructure and UV light photocatalytic activity of TiO2 films grown by atmospheric pressure CVD

Chemical Vapor Deposition

Volumn 20, Issue 1-3, 2014, Pages 44-50

  Chua, Chin Sheng ^a   Fang, Xiaoqin ^a   Chen, Xiaofeng ^a   Tan, Ooi Kiang ^a   Tse, Man Siu ^a   Soutar, Andrew McIntosh ^b   Ding, Xingzhao ^b  

^a NANYANG TECHNOLOGICAL UNIVERSITY   (Singapore)

^b SINGAPORE INSTITUTE OF MANUFACTURING TECHNOLOGY   (Singapore)

Author keywords

APCVD; Photocatalyst; Thermal annealing; Ti vacancies

Indexed keywords

ATMOSPHERIC PRESSURE; DEFECTS; MICROSTRUCTURE; PHOTOCATALYSIS; PHOTOCATALYSTS; QUARTZ; STEARIC ACID; TITANIUM DIOXIDE;

ANNEALING TEMPERATURES; APCVD; ATMOSPHERIC PRESSURE CVD; DEFECT CONCENTRATIONS; PHOTOCATALYTIC ACTIVITIES; PHOTOCATALYTIC PERFORMANCE; THERMAL-ANNEALING; TIO;

ANNEALING;

EID: 84901688679     PISSN: 09481907     EISSN: 15213862     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/cvde.201207015     Document Type: Article

References (52)

1. J. H. Noh, H. S. Jung, J. K. Lee, J. R. Kim, K. S. Hong, J. Eur. Ceram. Soc. 2007, 27, 2937.
2. K. Nakata, M. Sakai, T. Ochiai, T. Murakami, K. Takagi, A. Fujishima, Langmuir 2011, 27, 3275.
3. M. C. Yang, Y. Y. Lee, B. Xu, K. Powers, Y. S. Meng, J. Power Sources 2012, 207, 166.
4. K. Lee, D. Kim, S. Berger, R. Kirchgeorg, P. Schmuki, J. Mater. Chem. 2012, 22, 9821.
5. L. X. Zhong, F. Haghighat, P. Blondeau, J. Kozinski, Build Environ. 2010, 45, 2689.
6. C. Han, M. Pelaez, V. Likodimos, A. G. Kontos, P. Falaras, K. O'Shea, D. D. Dionysiou, Appl. Catal. B 2011, 107, 77.
7. W. Y. Su, S. C. Wang, X. X. Wang, X. Z. Fu, J. N. Weng, Surf. Coat. Technol. 2010, 205, 465.
8. V. Krishna, S. Pumprueg, S. H. Lee, J. Zhao,W. Sigmund, B. Koopman, B. M. Moudgil, Process Safety Environ. Prot. 2005, 83, 393.
9. G. W. Wagner, G. W. Peterson, J. J. Mahle, Ind. Eng. Chem. Res. 2012, 51, 3598.
10. N. Arconada, A. Duran, S. Suarez, R. Portela, J. M. Coronado, B. Sanchez, Y. Castro, Appl. Catal. B 2009, 86, 1.
11. S. Somekawa, Y. Kustimoto, M. Ikeda, B. Ahmmad, Y. Horie, Catal. Commun. 2008, 9, 437.
12. A. B. Haugen, I. Kumakiri, C. Simon, M. A. Einarsrud, J. Eur. Ceram. Soc. 2011, 31, 291.
13. G. Hyett, M. A. Green, I. P. Parkin, J Am. Chem. Soc. 2007, 129, 15541.
14. G. Hyett, J. A. Darr, A. Mills, I. P. Parkin, Chem. Eur. J. 2010, 16, 10546.
15. A. Kafizas, I. P. Parkin, J. Am. Chem. Soc. 2011, 133, 20458.
16. W. J. Zhang, Y. Li, S. L. Zhu, F. H. Wang, Surf. Coat. Technol. 2004, 182, 192.
17. O. Duyar, F. Placido, H. Z. Durusoy, J. Phys. D Appl. Phys. 2008, 41.
18. L. Borgese, M. Gelfi, E. Bontempi, P. Goudeau, G. Geandier, D. Thiaudiere, L. E. Depero, Surf. Coat. Technol. 2012, 206, 2459.
19. T. Ohno, K. Sarukawa, K. Tokieda, M. Matsumura, J. Catal. 2001, 203, 82.
20. D. C. Hurum, A. G. Agrios, K. A. Gray, T. Rajh, M. C. Thurnauer, J. Phys. Chem. B 2003, 107, 4545.
21. H. Z. Zhang, J. F. Banfield, J. Mater. Chem. 1998, 8, 2073.
22. J. Nair, P. Nair, F. Mizukami, Y. Oosawa, T. Okubo, Mater. Res. Bull. 1999, 34, 1275.
23. T. Sasamoto, S. Enomoto, Z. Shimoda, Y. Saeki, J Ceram. Soc. Jpn. 1993, 101, 230.
24. C. Su, B. Y. Hong, C. M. Tseng, Catal. Today 2004, 96, 119.
25. D. J. Kim, S. H. Hahn, S. H. Oh, E. J. Kim, Mater. Lett. 2002, 57, 355.
26. P. M. Kumar, S. Badrinarayanan, M. Sastry, Thin Solid Films 2000, 358, 122.
27. S. A. O'Neill, R. J. H. Clark, I. P. Parkin, N. Elliott, A. Mills, Chem. Mater. 2003, 15, 46.
28. D. N. Bui, S. Z. Kang, X. Q. Li, J. Mu, Catal. Commun. 2011, 13, 14.
29. Z. D. Lu, X. H. Jiang, B. Zhou, X. D. Wu, L. D. Lu, Appl. Surf. Sci. 2011, 257, 10715.
30. G. C. Bond, S. Flamerz, Appl. Catal. 1989, 46, 89.
31. J. C. Dupin, D. Gonbeau, P. Vinatier, A. Levasseur, Phys. Chem. Chem. Phys. 2000, 2, 1319.
32. D. W. Kwon, K. H. Park, S. C. Hong, Appl. Catal. A 2013, 451, 227.
33. J. Fang, X. Z. Bi, D. J. Si, Z. Q. Jiang, W. X. Huang, Appl. Surf. Sci. 2007, 253, 8952.
34. Y. V. Zubavichus, Y. L. Slovokhotov, M. K. Nazeeruddin, S. M. Zakeeruddin, M. Gratzel, V. Shklover, Chem. Mater. 2002, 14, 3556.
35. R. R. Thankalekshmi, A. C. Rastogi, J. Appl. Phys. 2012, 112.
36. A. Amri, Z. T. Jiang, T. Pryor, C. Y. Yin, Z. H. Xie, N. Mondinos, Surf. Coat. Technol. 2012, 207, 367.
37. N. Kruse, S. Chenakin, Appl. Catal. A 2011, 391, 367.
38. S. Music, M. Gotic, M. Ivanda, S. Popovic, A. Turkovic, R. Trojko, A. Sekulic, K. Furic, Mater. Sci. Eng. B 1997, 47, 33.
39. E. Konstantinova, J. Weidmann, T. Dittrich, J. Porous Mater. 2000, 7, 389.
40. T. Berger, M. Sterrer, O. Diwald, E. Knozinger, D. Panayotov, T. L. Thompson, J. T. Yates, J. Phys. Chem. B 2005, 109, 6061.
41. R. Hengerer, B. Bolliger, M. Erbudak, M. Gratzel, Surf. Sci. 2000, 460, 162.
42. M. Bowker, R. A. Bennett, J. Phys. Condens. Matter 2009, 21, 474224.
43. R. E. Tanner, Y. Liang, E. I. Altman, Surf. Sci. 2002, 506, 251.
44. I. E. Grey, N. C. Wilson, J. Solid State Chem. 2007, 180, 670.
45. G. Hyett, M. Green, I. P. Parkin, J. Am. Chem. Soc. 2006, 128, 12147.
46. M. A. Henderson, Surf. Science Rep. 2011, 66, 185.
47. J. M. Coronado, A. J. Maira, J. C. Conesa, K. L. Yeung, V. Augugliaro, J. Soria, Langmuir 2001, 17, 5368.
48. K. L. Yeung, A. J. Maira, J. Stolz, E. Hung, N. K. C. Ho, A. C. Wei, J. Soria, K. J. Chao, J. Phys. Chem. B 2002, 106, 4608.
49. J. Nowotny, T. Bak, M. K. Nowotny, L. R. Sheppard, J. Phys. Chem. B 2006, 110, 18492.
50. P. A. DeSario, M. E. Graham, R. M. Gelfand, K. A. Gray, Thin Solid Films 2011, 519, 3562.
51. A. Mattsson, M. Leideborg, K. Larsson, G. Westin, L. Osterlund, J. Phys. Chem. B 2006, 110, 1210.
52. C. Grove, D. A. Jerram, Comput. Geosci. 2011, 37, 1850.