Plasma interactions with organic materials in liquid through plasma/liquid interface

Japanese Journal of Applied Physics

Volumn 52, Issue 11 PART 2, 2013, Pages

  Takenaka, Kosuke ^a   Setsuhara, Yuichi ^a  

^a OSAKA UNIVERSITY   (Japan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

FOURIER TRANSFORM INFRA RED (FTIR) SPECTROSCOPY; METHYLENE BLUE; OH RADICAL; OPTICAL EMISSION SPECTRA; ORGANIC MATERIALS; PLASMA EXPOSURE; PLASMA MEDICINES; XPS ANALYSIS;

AROMATIC COMPOUNDS; EMISSION SPECTROSCOPY; FOURIER TRANSFORM INFRARED SPECTROSCOPY; FREE RADICALS; MIXTURES; PHOTOELECTRONS; PLASMA INTERACTIONS; X RAY PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY;

INTERFACES (MATERIALS);

EID: 84889014227     PISSN: 00214922     EISSN: 13474065     Source Type: Journal    
DOI: 10.7567/JJAP.52.11NE04     Document Type: Conference Paper

References (44)

1. M. Moisan, J. Barbeau, S. Moreau, J. Pelletier, M. Tabrizian, and L. H. Yahia: Int. J. Pharm. 226 (2001) 1.
2. M. Laroussi: Plasma Processes Polym. 2 (2005) 391.
3. M. K. Boudam, M. Moisan, B. Saoudi, C. Popovici, N. Gherardi, and F. Massines: J. Phys. D 39 (2006) 3494.
4. K.-D. Weltmann, R. Brandenburg, T. von Woedtke, J. Ehlbeck, R. Foest, M. Stieber, and E. Kindel: J. Phys. D 41 (2008) 194008.
5. J. Raiser and M. Zenker: J. Phys. D 39 (2006) 3520.
6. K. R. Stalder and J. Woloszko: Contrib. Plasma Phys. 47 (2007) 64.
7. S. Yonson, S. Coulombe, V. Léveillé, and R. L. Leask: J. Phys. D 39 (2006) 3508.
8. S. Coulombe, V. Léveillé, S. Yonson, and R. L. Leask: Pure Appl. Chem. 78 (2006) 1147.
9. E. Stoffels: Contrib. Plasma Phys. 47 (2007) 40.
10. G. Fridman, G. Friedman, A. Gutsol, A. B. Shekhter, V. N. Vasilets, and A. Fridman: Plasma Processes Polym. 5 (2008) 503.
11. M. G. Kong, G. Kroesen, G. Morfill, T. Nosenko, T. Shimizu, J. van Dijk, and J. L. Zimmermann: New J. Phys. 11 (2009) 115012.
12. G. E. Morfill, M. G. Kong, and J. L. Zimmermann: New J. Phys. 11 (2009) 115011.
13. S. Iseki, K. Nakamura, M. Hayashi, H. Tanaka, H. Kondo, H. Kajiyama, H. Kano, F. Kikkawa, and M. Hori: Appl. Phys. Lett. 100 (2012) 113702.
14. K. Ishikawa, H. Mizuno, H. Tanaka, K. Tamiya, H. Hashizume, T. Ohta, M. Ito, S. Iseki, K. Takeda, H. Kondo, M. Sekine, and M. Hori: Appl. Phys. Lett. 101 (2012) 013704.
15. S. Iseki, H. Hashizume, F. Jia, K. Takeda, K. Ishikawa, T. Ohta, M. Ito, and M. Hori: Appl. Phys. Express 4 (2011) 116201.
16. Y. Setsuhara, T. Shoji, A. Ebe, S. Baba, N. Yamamoto, K. Takahashi, K. Ono, and S. Miyake: Surf. Coatings Technol. 174-175 (2003) 33.
17. Y. Setsuhara, K. Takenaka, A. Ebe, and K. Nishisaka: Plasma Processes Polym. 4 (2007) S628.
18. Y. Setsuhara, K. Takenaka, and A. Ebe: Surf. Coatings Technol. 202 (2008) 5225.
19. K. Takenaka, K. Cho, Y. Setsuhara, M. Shiratani, M. Sekine, and M. Hori: J. Phys.: Conf. Ser. 441 (2013) 012001.
20. M. A. Malik: Plasma Chem. Plasma Process. 30 (2010) 21.
21. F. Huang, L. Chen, H. Wang, and Z. Yan: Chem. Eng. J. 162 (2010) 250.
22. T. Maehara, I. Miyamoto, K. Kurokawa, Y. Hashimoto, A. Iwamae, M. Kuramoto, H. Yamashita, S. Mukasa, H. Toyota, S. Nomura, and A. Kawashima: Plasma Chem. Plasma Process. 28 (2008) 467.
23. J. Blanco, S. Malato, P. Fernández-Ibañez, D. Alarcón, W. Gernjak, and M. I. Maldonado: Renewable Sustainable Energy Rev. 13 (2009) 1437.
24. F. Tochikubo, S. Uchida, and T. Watanabe: Jpn. J. Appl. Phys. 43 (2004) 315.
25. C. Chen and Y. Gao: Electrochim. Acta 52 (2007) 3143.
26. J. Tsukamoto and A. Takahashi: Jpn. J. Appl. Phys. 25 (1986) L338.
27. O. V. Ovchinnikov, S. V. Chernykh, M. S. Smirnov, D. V. Alpatova, R. P. Vorob'eva, A. N. Latyshev, A. B. Evlev, A. N. Utekhin, and A. N. Lukin: J. Appl. Spectrosc. 74 (2007) 809.
28. E. I. Sáez and R. M. Corn: Electrochim. Acta 38 (1993) 1619.
29. A. D. Meade, F. M. Lyng, P. Knief, and H. J. Byrne: Anal. Bioanal. Chem. 387 (2007) 1717.
30. Y. Yan, M. Zhang, K. Gong, L. Su, Z. Guo, and L. Mao: Chem. Mater. 17 (2005) 3457.
31. I. M. Eltantawy: Clay Sci. 5 (1979) 195.
32. N. Primeau, C. Vautey, and M. Langlet: Thin Solid Films 310 (1997) 47.
33. J. R. Pels, F. Kapteijn, J. A. Moulijn, Q. Zhu, and K. M. Thomas: Carbon 33 (1995) 1641.
34. F. Kapteijn, J. A. Moulijn, S. Matzner, and H.-P. Boehm: Carbon 37 (1999) 1143.
35. B. Valentim, A. Guedes, and D. Boavida: Org. Geochem. 42 (2011) 502.
36. R. A. Rincón, K. Artyushkova, M. Mojica, M. N. Germain, S. D. Minteer, and P. Atanassov: Electroanalysis 22 (2010) 799.
37. M.-C. Bourg, A. Badia, and R. B. Lennox: J. Phys. Chem. B 104 (2000) 6562.
38. A. P. Jackson, J. F. V. Vincent, D. Briggs, R. A. Crick, S. F. Davies, M. J. Hearn, and R. M. Turner: J. Mater. Sci. Lett. 5 (1986) 975.
39. J. A. Rodriguez, T. Jirsak, A. Freitag, J. Z. Larese, and A. Maiti: J. Phys. Chem. B 104 (2000) 7439.
40. J. A. Rodriguez and J. Hrbek: Acc. Chem. Res. 32 (1999) 719.
41. F. Li, M. An, G. Liu, and D. Duan: Mater. Chem. Phys. 113 (2009) 971.
42. K. Navaneetha Pandiyaraj, V. Selvarajan, R. R. Deshmukh, and C. Gao: Vacuum 83 (2008) 332.
43. N. De Geyter, R. Morent, C. Leys, L. Gengembre, E. Payen, S. Van Vlierberghe, and E. Schacht: Surf. Coatings Technol. 202 (2008) 3000.
44. C. Tlili, N. Jaffrezic-Renault, C. Martelet, J. P. Mahy, S. Lecomte, M. M. Chehimi, and H. Korri-Youssoufi: Mater. Sci. Eng. C 28 (2008) 861. Technology