Clean-lifting transfer of large-area residual-free graphene films

Advanced Materials

Volumn 25, Issue 32, 2013, Pages 4521-4526

  Wang, Di Yan ^a   Huang, I Sheng ^b   Ho, Po Hsun ^a   Li, Shao Sian ^a   Yeh, Yun Chieh ^a   Wang, Duan Wei ^b   Chen, Wei Liang ^a   Lee, Yu Yang ^a   Chang, Yu Ming ^a   Chen, Chia Chun ^b,c   Liang, Chi Te ^a   Chen, Chun Wei ^a  

^a NATIONAL TAIWAN UNIVERSITY   (Taiwan)

^b NATIONAL TAIWAN NORMAL UNIVERSITY   (Taiwan)

^c INSTITUTE OF ATOMIC AND MOLECULAR SCIENCES   (Taiwan)

Author keywords

clean transfer; CVD graphene; electrostatic force; graphene transfer; large area; residual free

Indexed keywords

CVD GRAPHENE; CVD-GROWN GRAPHENE; FLEXIBLE SUBSTRATE; GRAPHENE FILMS; INDUSTRIAL PRODUCTION; LARGE AREA; PROCESSABILITY; RESIDUAL FREE;

ELECTROSTATIC DEVICES; ELECTROSTATIC FORCE;

GRAPHENE;

EID: 84882649998     PISSN: 09359648     EISSN: 15214095     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/adma.201301152     Document Type: Article

References (34)

1. a) K. S. Novoselov, A. K. Geim, S. V. Morozov, D. Jiang, Y. Zhang, S. V. Dubonos, I. V. Grigorieva, A. A. Firsov, Science 2004, 306, 666-669
2. b) K. S. Novoselov, A. K. Geim, S. V. Morozov, D. Jiang, M. I. Katsnelson, I. V. Grigorieva, S. V. Dubonos, A. A. Firsov, Nature 2005, 438, 197-200
3. c) A. K. Geim, K. S. Novoselov, Nat. Mater. 2007, 6, 183-191
4. d) A. H. Castro Neto, F. Guinea, N. M. R. Peres, K. S. Novoselov, A. K. Geim, Rev. Mod. Phys. 2009, 81, 109-162.
5. K. S. Kim, Y. Zhao, H. Jang, S. Y. Lee, J. M. Kim, J. H. Ahn, P. Kim, J. Y. Choi, B. H. Hong, Nature 2009, 457, 706-710.
6. a) Y. Y. Lee, K. H. Tu, C. C. Yu, S. S. Li, J. Y. Hwang, C. C. Lin, K. H. Chen, L. C. Chen, H. L. Chen, C. W. Chen, ACS Nano 2011, 5, 6564-6570
7. b) L. G. De Arco, Y. Zhang, C. W. Schlenker, K. Ryu, M. E. Thompson, C. W. Zhou, ACS Nano 2010, 4, 2865-2873.
8. C. Mattevi, H. Kim, M. Chhowalla, J. Mater. Chem. 2011, 21, 3324-3334.
9. S. Y. Zhou, G. H. Gweon, A. V. Fedorov, P. N. First, W. A. De Heer, D. H. Lee, F. Guinea, A. H. C. Neto, A. Lanzara, Nat. Mater. 2007, 6, 770-775.
10. X. S. Li, W. W. Cai, J. H. An, S. Kim, J. Nah, D. X. Yang, R. Piner, A. Velamakanni, I. Jung, E. Tutuc, S. K. Banerjee, L. Colombo, R. S. Ruoff, Science 2009, 324, 1312-1314.
11. A. Reina, X. T. Jia, J. Ho, D. Nezich, H. B. Son, V. Bulovic, M. S. Dresselhaus, J. Kong, Nano Lett. 2009, 9, 30-35.
12. S. Y. Kwon, C. V. Ciobanu, V. Petrova, V. B. Shenoy, J. Bareno, V. Gambin, I. Petrov, S. Kodambaka, Nano Lett. 2009, 9, 3985-3990.
13. P. W. Sutter, J. I. Flege, E. A. Sutter, Nat. Mater. 2008, 7, 406-411.
14. J. Coraux, A. T. N'Diaye, C. Busse, T. Michely, Nano Lett. 2008, 8, 565-570.
15. J. Kang, D. Shin, S. Bae, B. H. Hong, Nanoscale 2012, 4, 5527-5537.
16. X. S. Li, Y. W. Zhu, W. W. Cai, M. Borysiak, B. Y. Han, D. Chen, R. D. Piner, L. Colombo, R. S. Ruoff, Nano Lett. 2009, 9, 4359-4363.
17. J. W. Suk, A. Kitt, C. W. Magnuson, Y. F. Hao, S. Ahmed, J. H. An, A. K. Swan, B. B. Goldberg, R. S. Ruoff, ACS Nano 2011, 5, 6916-6924.
18. X. L. Liang, B. A. Sperling, I. Calizo, G. J. Cheng, C. A. Hacker, Q. Zhang, Y. Obeng, K. Yan, H. L. Peng, Q. L. Li, X. X. Zhu, H. Yuan, A. R. H. Walker, Z. F. Liu, L. M. Peng, C. A. Richter, ACS Nano 2011, 5, 9144-9153.
19. S. Bae, H. Kim, Y. Lee, X. F. Xu, J. S. Park, Y. Zheng, J. Balakrishnan, T. Lei, H. R. Kim, Y. I. Song, Y. J. Kim, K. S. Kim, B. Ozyilmaz, J. H. Ahn, B. H. Hong, S. Iijima, Nat. Nanotechnol. 2010, 5, 574-578.
20. J. D. Caldwell, T. J. Anderson, J. C. Culbertson, G. G. Jernigan, K. D. Hobart, F. J. Kub, M. J. Tadjer, J. L. Tedesco, J. K. Hite, M. A. Mastro, R. L. Myers-Ward, C. R. Eddy, P. M. Campbell, D. K. Gaskill, ACS Nano 2010, 4, 1108-1114.
21. J. Kang, S. Hwang, J. H. Kim, M. H. Kim, J. Ryu, S. J. Seo, B. H. Hong, M. K. Kim, J. B. Choi, ACS Nano 2012, 6, 5360-5365.
22. a) A. N. Sidorov, M. M. Yazdanpanah, R. Jalilian, P. J. Ouseph, R. W. Cohn, G. U. Sumanasekera, Nanotechnology 2007, 18, 135301
23. b) X. Liang, A. S. P. Chang, Y. Zhang, B. D. Harteneck, H. Choo, D. L. Olynick, S. Cabrini, Nano Lett. 2009, 9, 467-472.
24. S. Y. Chen, P. H. Ho, R. J. Shiue, C. W. Chen, W. H. Wang, Nano Lett. 2012, 12, 964-969.
25. Y. C. Lin, C. C. Lu, C. H. Yeh, C. H. Jin, K. Suenaga, P. W. Chiu, Nano Lett. 2012, 12, 414-419.
26. H. Park, P. R. Brown, V. Buloyic, J. Kong, Nano Lett. 2012, 12, 133-140.
27. A. C. Ferrari, J. C. Meyer, V. Scardaci, C. Casiraghi, M. Lazzeri, F. Mauri, S. Piscanec, D. Jiang, K. S. Novoselov, S. Roth, A. K. Geim, Phys. Rev. Lett. 2006, 97, 187401.
28. Y. Wang, Y. Zheng, X. F. Xu, E. Dubuisson, Q. L. Bao, J. Lu, K. P. Loh, ACS Nano 2011, 5, 9927-9933.
29. Z. G. Cheng, Q. Y. Zhou, C. X. Wang, Q. A. Li, C. Wang, Y. Fang, Nano Lett. 2011, 11, 767-771.
30. a) K. Nomura, A. H. MacDonald, Phys. Rev. Lett. 2007, 98, 076602
31. b) N. Petrone, C. R. Dean, I. Meric, A. M. van der Zande, P. Y. Huang, L. Wang, D. Muller, K. L. Shepard, J. Hone, Nano Lett. 2012, 12, 2751-2756.
32. E. H. Lock, M. Baraket, M. Laskoski, S. P. Mulvaney, W. K. Lee, P. E. Sheehan, D. R. Hines, J. T. Robinson, J. Tosado, M. S. Fuhrer, S. C. Hernandez, S. G. Waltont, Nano Lett. 2012, 12, 102-107.
33. T. H. Han, Y. Lee, M. R. Choi, S. H. Woo, S. H. Bae, B. H. Hong, J. H. Ahn, T. W. Lee, Nat. Photonics 2012, 6, 105-110.
34. X. S. Li, C. W. Magnuson, A. Venugopal, R. M. Tromp, J. B. Hannon, E. M. Vogel, L. Colombo, R. S. Ruoff, J. Am. Chem. Soc. 2011, 133, 2816-2819.