Ab initio chemical kinetics for reactions of H atoms with SiHx (x = 1-3) radicals and related unimolecular decomposition processes

International Journal of Quantum Chemistry

Volumn 113, Issue 12, 2013, Pages 1735-1746

  Raghunath, Putikam ^a   Lee, Yun Min ^a   Wu, Shang Ying ^a   Wu, Jong Shinn ^a   Lin, Ming Chang ^a  

^a NATIONAL CHIAO TUNG UNIVERSITY   (Taiwan)

Author keywords

ab initio calculation; rate constant; reaction mechanism; silane chemistry

Indexed keywords

AB INITIO CALCULATIONS; CHEMICAL VAPOR DEPOSITIONS (CVD); ENTHALPIES OF FORMATION; HYDROGENATED AMORPHOUS SILICON (A-SI:H); REACTION MECHANISM; RICE-RAMSPERGER-KASSEL-MARCUS; TRANSITION STATE THEORIES; UNIMOLECULAR DECOMPOSITIONS;

ASSOCIATION REACTIONS; ATOMS; CALCULATIONS; CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; RATE CONSTANTS; REACTION KINETICS; SILICON;

REACTION INTERMEDIATES;

EID: 84877579931     PISSN: 00207608     EISSN: 1097461X     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/qua.24396     Document Type: Article

References (61)

1. (a), J. M. Jasinski, S. M. Gates, Acc. Chem. Res. 1991, 24, 9
2. (b), J. K. Rath, Solar Energy Mater. Solar Cells 2003, 76, 431
3. (c), H. Matsumura, H. Umemoto, A. Masuda, J. Non-Cryst. Solids 2004, 338-340, 19.
4. (a), H. Matsumura, Jpn. J. Appl. Phys. 1991, 30, L1522
5. (b), H. S. Reehal, M. J. Thwaites, T. M. Bruton, Phys. Stat. Sol. A 1996, 154, 623.
6. (a), H. Matsumura, J. Appl. Phys. 1989, 66, 3612
7. (b), I. Kobayashi, T. Ogawa, S. Hotta, Jpn. J. Appl. Phys. 1992, 31, 336.
8. (a), P. G. Lecomber, W. E. Spear, A. Ghaith, Electron. Lett. 1979, 15, 179
9. (b), D. E. Carlson, C. R. Wronski, Appl. Phys. Lett. 1976, 28, 671.
10. R. A. Street, Hydrogenated Amorphous Silicon; Cambridge University Press: New York, 1991.
11. M. J. Kushner, J. Appl. Phys. 1987, 62, 2803.
12. (a), N. Itabashi, N. Nishiwaki, M. Magane, T. Goto, A. Matsuda, C. Yamada,. Jpn. J. Appl. Phys. 1990, 29, 585
13. (b), M. Koshi, S. Kato, H. Matsui, J. Phys. Chem. 1991, 95, 1223.
14. H. Kawasaki, H. Ohkura, T. Fukuzawa, M. Shiratani, Y. Watanabe, Y. Yamamoto, S. Suganuma, M. Hori, T. Goto, Jpn. J. Appl. Phys. 1997, 36, 4985.
15. A. Matsuda, Jpn. J. Appl. Phys. 2004, 43, 7909.
16. H. J. Mick, P. Roth, V. N. Smirnov, I. S. Zaslonko, Kinet. Catal. 1994, 35, 439.
17. (a), J. P. M. Schmitt, P. Gressier, M. Krishnan, G. de Rosny, J. Perrin, Chem. Phys. 1984, 84, 281
18. (b), Y. Matsumi, T. Hayashi, H. Yoshikawa, S. Komiya, J. Vac. Sci. Technol. A 1986, 4, 1786.
19. (a), J. M. Jasinski, S. M. Gates, Acc. Chem. Res. 1991, 24, 136
20. (b), J. M. Jasinski, S. B. Meyerson, B. A. Scott, Ann. Rev. Phys. Chem. 1987, 38, 109.
21. N. Itabashi, K. Kato, N. Nishiwaki, T. Goto, C. Yamada, E. Hirota, Jpn. J. Appl. Phys. 1989, 28, L325.
22. R. Viswanathan, L. M. Raff, D. L. Thompson, J. Chem. Phys. 1984, 81, 828.
23. R. Viswanathan, D. L. Thompson, L. M. Raff, J. Chem. Phys. 1984, 80, 4230.
24. K. F. Roenigk, K. F. Jensen, R. W. Carr, J. Phys. Chem. 1987, 91, 5732.
25. J. G. Martin, H. E. O'Neal, M. A. Ring, Int. J. Chem. Kinet. 1990, 22, 613.
26. H. K. Moffat, K. F. Jensen, R. W. Carr, J. Phys. Chem. 1991, 95, 145.
27. M. D. Su, H. B. Schlegel, J. Phys. Chem. 1993, 97, 9981.
28. (a), M. T. Swihart, R. W. Carr, J. Phys. Chem. A. 1998, 102, 1542
29. (b), S. W. Hu, Y. Wang, X. Y. Wang, T. W. Chu, X. Q. Liu, J. Phys. Chem. A 2003, 107, 2954
30. (c), S. M. Islam, J. W. Hollett, R. A. Poirier, J. Phys. Chem. A 2007, 111, 526.
31. S. P. Walch, C. E. Dateo, J. Phys. Chem. A 2001, 105, 2015.
32. (a), A. Dollet, S. de Persis, F. Teyssandier, Phys. Chem. Chem. Phys. 2004, 6, 1203
33. (b), J. Takahashi, T. Momose, T. Shida, Bull. Chem. Soc. Jpn. 1994, 67, 74.
34. A. Barbato, C. Seghi, C. Cavalloti, J. Chem. Phys. 2009, 130, 074108.
35. J. M. Jasinski, R. Becerra, R. Walsh, Chem. Rev. 1995, 95, 1203.
36. M. S. Gordon, Y. Xie, Y. Yamaguchi, R. S. Grev, H. F. Schafer, III, J. Am. Chem. Soc. 1993, 115, 1503.
37. (a), S. Y. Wu, P. Raghunath, S. J. Wu, M. C. Lin, J. Phys. Chem. A 2010, 114, 633
38. (b), D. H. Varma, P. Raghunath, M. C. Lin, J. Phys. Chem. A 2010, 114, 3642
39. (c), P. Raghunath, M. C. Lin, J. Phys. Chem. A 2010, 114, 13353.
40. J. A. Pople, M. Head-Gordon, K. Raghavachari, J. Chem. Phys. 1987, 87, 5968.
41. K. A. Peterson, D. E. Woon, T. H. Dunning, Jr., J. Chem. Phys. 1994, 100, 7410.
42. D. E. Woon, Jr., T. H. Dunning, J. Chem. Phys. 1995, 103, 4572.
43. M. J. Frisch, G. W. Trucks, H. B. Schlegel, G. E. Scuseria, M. A. Robb, J. R. Cheeseman, J. A. Montgomery, Jr., T. Vreven, K. N. Kudin, J. C. Burant, J. M. Millam, S. S. Iyengar, J. Tomasi, V. Barone, B. Mennucci, M. Cossi, G. Scalmani, N. Rega, G. A. Petersson, H. Nakatsuji, M. Hada, M. Ehara, K. Toyota, R. Fukuda, J. Hasegawa, M. Ishida, T. Nakajima, Y. Honda, O. Kitao, H. Nakai, M. Klene, X. Li, J. E. Knox, H. P. Hratchian, J. B. Cross, C. Adamo, J. Jaramillo, R. Gomperts, R. E. Stratmann, O. Yazyev, A. J. Austin, R. Cammi, C. Pomelli, J. W. Ochterski, P. Y. Ayala, K. Morokuma, G. A. Voth, P. Salvador, J. J. Dannenberg, V. G. Zakrzewski, S. Dapprich, A. D. Daniels, M. C. Strain, O. Farkas, D. K. Malick, A. D. Rabuck, K. Raghavachari, J. B. Foresman, J. V. Ortiz, Q. Cui, A. G. Baboul, S. Clifford, J. Cioslowski, B. B. Stefanov, G. Liu, A. Liashenko, P. Piskorz, I. Komaromi, R. L. Martin, D. J. Fox, T. Keith, M. A. Al-Laham, C. Y. Peng, A. Nanayakkara, M. Challacombe, P. M. W. Gill, B. Johnson, W. Chen, M. W. Wong, C. Gonzalez, J. A. Pople, Gaussian 03, Revision C.02; Gaussian, Inc.: Wallingford, CT, 2004.
44. S. J. Klippenstein, A. F. Wagner, R. C. Dunbar, D. M. Wardlaw, S. H. Robertson, VARIFLEX: VERSION 1.00, 1999.
45. (a), S. J. Klippenstein, J. Phys. Chem. 1994, 98, 11459
46. (b), S. J. Klippenstein, J. Chem. Phys. 1991, 94, 6469.
47. J. A. Miller, S. J. Klippenstein, J. Phys. Chem. A 2000, 104, 2061.
48. J. C. Lorguet, B. Leyh-Nihant, J. Phys. Chem. 1998, 92, 4778.
49. J. N. Harvey, Phys. Chem. Chem. Phys. 2007, 9, 331.
50. H.-J. Werner, and, P. J. Knowles, MOLPRO Version 2009.1 (package of ab initio programs); with contributions from, J. Almlof, R. D. Amos, A. Berning, et al.
51. (a), J. Berkowitz, J. P. Greene, H. Cho, B. Ruscic, J. Chem. Phys. 1987, 86, 1235
52. (b), D. Husain, P. E. Norris, J. Chem. Soc. Faraday Trans. 2 1978, 74, 106.
53. J. S. Francisco, R. Barnes, J. W. Thoman, Jr., J. Chem. Phys. 1988, 88, 2334.
54. M. W. J. Chase, NIST-JANAF Thermochemical Tables, 4th ed.; J. Phys. Chem. Ref. Data Monogr. No. 9 (Parts I and II), 1998, NIST, Washington DC, USA.
55. A. M. Doncaster, R. Walsh, Int. J. Chem. Kinet. 1981, 13, 503.
56. B. Ruscic, J. E. Boggs, A. Burcat, A. G. Csaszar, J. Demaison, R. Janoschek, J. M. L. Martin, M. L. Morton, M. J. Rossi, J. F. Stanton, P. G. Szalay, P. R. Westmoreland, F. Zabel, T. Berces, J. Phys. Chem. Ref. Data 2005, 34, 573.
57. K. P. Huber, G. Herzberg, Molecular Spectra and Molecular Structure. Constants of Diatomic Molecules, Vol. 4; Van Nostrand Reinhold: New York, 1979.
58. M. E. Coltrin, R. J. Kee, J. A. Miller, J. Electrochem. Soc. 1986, 133, 1206.
59. S. K. Loh, J. M. Jasinski, J. Chem. Phys. 1991, 95, 4914.
60. N. Matsunaga, S. Koseki, M. S. Gordon, J. Chem. Phys. 1996, 104, 7988.
61. J. E. Johannes, J. G. Ekerdt, J. Electrochem. Soc. 1994, 141, 2135.