Load-controlled roll transfer of oxide transistors for stretchable electronics

Advanced Functional Materials

Volumn 23, Issue 16, 2013, Pages 2024-2032

  Sharma, Bhupendra K ^a   Jang, Bongkyun ^b   Lee, Jeong Eun ^a   Bae, Sang Hoon ^a   Kim, Tae Woong ^c   Lee, Hak Joo ^b   Kim, Jae Hyun ^b   Ahn, Jong Hyun ^a  

^a Sungkyunkwan University   (South Korea)

^b Korea Institute of Machine and Materials   (South Korea)

^c Samsung Advanced Institute of Technology (SAIT)   (South Korea)

Author keywords

InGaZnO; load controlled roll transfer mechanics; roll transfer printing; stretchable electronics; thin film transistor

Indexed keywords

ELASTOMERIC SUBSTRATES; ELECTRICAL PERFORMANCE; IN-GA-ZN-O (IGZO); INGAZNO; STRETCHABLE ELECTRONICS; THIN-FILM TRANSISTOR (TFTS); TRANSFER PRINTING; TRANSFERRING PROCESS;

CYCLIC LOADS; FRACTURE; GALLIUM; GALLIUM ALLOYS; MECHANICS; PRINTING; THIN FILMS; ZINC;

THIN FILM TRANSISTORS;

EID: 84876263071     PISSN: 1616301X     EISSN: 16163028     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/adfm.201202519     Document Type: Article

References (34)

1. T. Kamiya, H. Hosono, NPG Asia Mater. 2010, 2, 15.
2. J.-S. Park, T.-W. Kim, D. Stryakhilev, J.-S. Lee, S.-G. An, Y.-S. Pyo, D.-B. Lee, Y. G. Mo, D.-U. Jin, H. K. Chung, Appl. Phys. Lett. 2009, 95, 013503.
3. M. Ito, M. Kon, C. Miyazaki, N. Ikeda, M. Ishizaki, Y. Ugazin, N. Sekine, IEICE Trans. Electron. 2007, E90-C, 2105.
4. Z. Yu, X. Niu, Z. Liu, Q. Pei, Adv. Mater. 2011, 23, 3989.
5. R. Carta, P. Jourand, B. Hermans, J. Thone, D. Brosteaux, T. Vervust, F. Bossuyt, F. Axisa, J. Vanfleteren, R. Puers, Sens. Actuators, A 2009, 156, 79.
6. F. Axisa, D. Brosteaux, E. D. Leersnyder, F. Bossuyt, J. Vanfleteren, B. Hermans, R. Puers, Proc. 29th Annual International Conference of the IEEE EMBS, Lyon, France 2007, 5687.
7. F. Axisa, F. Bossuyt, T. Vervust, J. Vanfleteren, 2nd Electronics Systemintegration Technology Conference, Greenwich, UK 2008, 1387.
8. S. G. Lee, D. Y. Lee, H. S. Lim, D. H. Lee, S. Lee, K. Cho, Adv. Mater. 2010, 22, 5013.
9. G. A. Niklasson, C. G. Granqvist, J. Mater. Chem. 2007, 17, 127.
10. K. Cherenack, C. Zysset, T. Kinkeldi, N. Munzenrieder, G. Troster, Adv. Mater. 2010, 22, 5178.
11. J. Coosemans, B. Hermans, R. Puers, Sens. Actuators, A 2006, 130-131, 48.
12. C. Zysset, N. Munzenrieder, T. Kinkeldi, K. Cherenack, G. Troster, IEEE Electron Device Lett. 2012, 59, 721.
13. E. R. Post, M. Orth, P. R. Russo, N. Gershenfeld, IBM Syst. J. 2000, 29, 840.
14. T. Kinkeldi, C. Zysset, K. Cherenack, G. Troester, IEEE Sensors Conf. 2009, 1580.
15. S.-H. K. Park, C. S. Hwang, M. Ryu, S. Yang, C. Byun, J. Shin, J.-I. Lee, K. Lee, M. S. Oh, S. Im, Adv. Mater. 2009, 21, 678.
16. J. S. Park, W.-J. Maeng, H.-S. Kim, J.-S. Park, Thin Solid Films 2012, 520, 1679.
17. J. Liu, D. B. Buchholz, J. W. Hennek, R. P. H. Chang, A. Facchetti, T. J. Marks, J. Am. Chem. Soc. 2010, 132, 11934.
18. K. Nomura, T. Kamiya, H. Hosono, Adv. Mater. 2011, 23, 3431.
19. H. Q. Chiang, J. F. Wager, R. L. Hoffman, J. Jeong, D. A. Keszler, Appl. Phys. Lett. 2005, 86, 013503.
20. E. Fortunato, P. Barquinha, R. Martins, Adv. Mater. 2012, 24, 2945.
21. P. Wellenius, A. Suresh, H. Luo, L. M. Lunardi, J. F. Muth, J. Disp. Technol. 2009, 5, 438.
22. K. Nomura, H. Ohta, A. Takagi, T. Kamiya, M. Hirano, H. Hosono, Nature 2004, 432, 488.
23. T. Kamiya, K. Nomura, H. Hosono, Sci. Technol. Adv. Mater. 2010, 11, 044305.
24. K. H. Cherenack, N. Munzenrieder, G. Troster, IEEE Electron Device Lett. 2010, 31, 1254.
25. S. Jeong, Y.-G. Ha, J. Moon, A. Facchetti, T. J. Marks, Adv. Mater. 2010, 22, 1346.
26. N. Munzenrieder, K. H. Cherenack, G. Troster, IEEE Trans. Electron Devices 2011, 58, 2041.
27. D.-H. Kim, J. Song, W. M. Choi, H.-S. Kim, R.-H. Kim, Z. Liu, Y. Y. Huang, K.-C. Hwang, Y.-W. Zhang, J. A. Rogers, Proc. Natl. Acad. Sci. USA 2008, 105, 18675.
28. D.-H. Kim, N. Lu, R. Ma, Y.-S. Kim, R.-H. Kim, S. Wang, J. Wu, S. M. Won, H. Tao, A. Islam, K. J. Yu, T.-I. Kim, R. Chowdhury, M. Ying, L. Xu, M. Li, H.-J. Chung, H. Keum, M. McCormick, P. Liu, Y.-W. Zhang, F. G. Omenetto, Y. Huang, T. Coleman, J. A. Rogers, Science 2011, 333, 838.
29. S. Bae, H. Kim, Y. Lee, X. Xu, J.-S. Park, Y. Zheng, J. Balakrishnan, T. Lei, H. R. Kim, Y. Song, Y.-J. Kim, K. S. Kim, B. Ozyilmaz, J.-H. Ahn, B. H. Hong, S. Iijima, Nat. Nanotechnol. 2010, 5, 574.
30. M. H. Lee, N. Lim, D. J. Ruebusch, A. Jamshidi, R. Kapadia, R. Lee, T. J. Seok, K. Takei, K. Y. Cho, Z. Fan, H. Jang, M. Wu, G. Cho, A. Javey, Nano Lett. 2011, 11, 3425.
31. L. Tavares, J. Kjelstrup-Hansen, H. Rubahn, Small 2011, 7, 2460.
32. Y. Yang, Y. Hwang, H. A. Cho, J.-H. Song, S.-J. Park, J. A. Rogers, H. C. Ko, Small 2011, 7, 484.
33. K. Park, D.-K. Lee, B.-S. Kim, H. Jeon, N.-E. Lee, D. Whang, H.-J. Lee, Y. J. Kim, J. H. Ahn, Adv. Funct. Mater. 2010, 20, 3577.
34. G. Sengupta, H. S. Ahluwalia, S. P. Sen, J. Colloid Interface Sci. 1979, 69, 217.