Functionalization of reduced graphite oxide sheets with a zwitterionic surfactant

ChemPhysChem

Volumn 13, Issue 16, 2012, Pages 3682-3690

  Martín García, Beatriz ^a   Velázquez, M Mercedes ^a   Rossella, Francesco ^b   Bellani, Vittorio ^b   Diez, Enrique ^a   García Fierro, Jose Luis ^c   Pérez Hernández, Jose Antonio ^d   Hernández Toro, Juan ^a   Claramunt, Sergi ^e   Cirera, Albert ^e  

^a UNIVERSITY OF SALAMANCA   (Spain)

^b UNIVERSITY OF PAVIA   (Italy)

^c INSTITUTO DE CATÁLISIS Y PETROLEOQUÍMICA   (Spain)

^d CENTRO DE LÁSERES PULSADOS CLPU   (Spain)

^e UNIVERSITY OF BARCELONA   (Spain)

Author keywords

conducting materials; graphene; graphite oxide; Langmuir Blodgett films; surfactants

Indexed keywords

GRAPHITE; OXIDE; QUATERNARY AMMONIUM DERIVATIVE; SURFACTANT; ZWITTERGENT 3 12; ZWITTERGENT 3-12;

ARTICLE; ATOMIC FORCE MICROSCOPY; CHEMISTRY; ELECTRIC CONDUCTIVITY; OXIDATION REDUCTION REACTION; RAMAN SPECTROMETRY; X RAY PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY;

ELECTRIC CONDUCTIVITY; GRAPHITE; MICROSCOPY, ATOMIC FORCE; OXIDATION-REDUCTION; OXIDES; PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY; QUATERNARY AMMONIUM COMPOUNDS; SPECTRUM ANALYSIS, RAMAN; SURFACE-ACTIVE AGENTS;

EID: 84868553920     PISSN: 14394235     EISSN: 14397641     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/cphc.201200501     Document Type: Article

References (79)

1. A. K. Geim, K. S. Novoselov, Nat. Mater. 2007, 6, 183-191.
2. A. K. Geim, Science 2009, 324, 1530-1534.
3. M. J. Allen, V. C. Tung, R. B. Kaner, Chem. Rev. 2010, 110, 132-145.
4. C. N. R. Rao, A. K. Sood, K. S. Subrahmanyam, A. Govindaraj, Angew. Chem. 2009, 121, 7890-7916
5. Angew. Chem. Int. Ed. 2009, 48, 7752-7777.
6. S. Park, R. S. Ruoff, Nat. Nanotechnol. 2009, 4, 217-224.
7. X. Cui, C. Zhang, R. Hao, Y. Hou, Nanoscale 2011, 3, 2118-2129.
8. A. Liscio, G. P. Veronese, E. Treossi, F. Suriano, F. Rosella, V. Bellani, R. Rizzoli, P. Samori, V. Palermo, J. Mater. Chem. 2011, 21, 2924-2931.
9. W. Hu, C. Peng, W. Luo, X. Li, D. Li, Q. Huang, C. Fan, ACS Nano 2010, 4, 4317-4343.
10. K. S. Novoselov, A. K. Geim, S. V. Morozov, D. Jiang, Y. Zhang, S. V. Dubones, I. V. Grigorieva, A. A. Firsov, Science 2004, 306, 666-669.
11. T. A. Land, T. Michely, R. J. Behm, C. Hemminger, G. Comsa, Surf. Sci. 1992, 264, 261-270.
12. C. Berger, Z. M. Song, X. B. Li, X. S. Wu, N. Brown, C. Naud, D. Mayou, T. B. Li, J. Hass, A. N. Marchenkov, E. H. Conrad, P. N. First, W. A. de Heer, Science 2006, 312, 1191-1196.
13. X. Du, I. Skachko, A. Barker, E. Y. Andrei, Nat. Nanotechnol. 2008, 3, 491-495.
14. S. Stankovich, R. D. Piner, X. Chen, N. Wu, S. T. Nguyen, R. S. Ruoff, J. Mater. Chem. 2006, 16, 155-158.
15. J. R. Lomeda, C. D. Doyle, D. V. Kosynkin, W. F. Hwang, J. M. Tour, J. Am. Chem. Soc. 2008, 130, 16201-16206.
16. S. Stankovich, R. D. Piner, S. T. Nguyen, R. S. Ruoff, Carbon 2006, 44, 3342-3347.
17. J. Zheng, C. A. Di, Y. Q. Liu, H. T. Liu, Y. L. Guo, C. Y. Du, T. Wu, G. Yu, D. B. Zhu, Chem. Commun. 2010, 46, 5728-5730.
18. V. Singh, D. Joung, L. Zhai, S. Das, S. I. Khondaker, S. Seal, Prog. Mater. Sci. 2011, 56, 1178-1271.
19. J. Xiao, D. Mei, X. Li, W. Xu, D. Wang, G. L. Graff, W. D. Bennett, Z. Nie, L. V. Saraf, I. A. Aksay, J. Liu, J.-G. Zhang, Nano Lett. 2011, 11, 5071-5078.
20. X. Qi, K.-Y. Pu, H. Li, X. Zhou, S. Wu, Q.-L. Fan, B. Liu, F. Boey, W. Huang, H. Zhang, Angew. Chem. 2010, 122, 9616-9619
21. Angew. Chem. Int. Ed. 2010, 49, 9426-9429.
22. W. A. Ducker, L. M. Grant, J. Phys. Chem. 1996, 100, 11507-11511.
23. F. Tiberg, J. Brinck, L. Grant, Curr. Opin. Colloid Interface Sci. 1999, 4, 411-419.
24. R. Ribera, M. M. Velázquez, Langmuir 1999, 15, 6686-6691.
25. C. Delgado, M. D. Merchán, M. M. Velázquez, J. Phys. Chem. B 2008, 112, 687-693.
26. M. D. Merchán, M. M. Velázquez, Colloids Surf. A 2010, 366, 12-17.
27. S. Heisig, M. D. Merchán, M. M. Velázquez, J. Colloid Sci. Biotechnol. 2012, 1, 33-41.
28. Y. Shao, J. Wang, H. Wu, J. Liu, I. A. Aksay, Y. Lin, Electroanalysis 2010, 22, 1027-1036.
29. D. Luo, G. Zhang, J. Liu, X. Sun, J. Phys. Chem. C 2011, 115, 11327-11335.
30. M. J. Fernández-Merino, L. Guardia, J. I. Paredes, S. Villar-Rodil, P. Solís-Fernández, A. Martínez-Alonso, J. M. D. Tascón, J. Phys. Chem. C 2010, 114, 6426-6432.
31. J. Zhang, H. Yung, G. Shen, P. Chen, J. Zhang, S. Guo, Chem. Commun. 2010, 46, 1112-1114.
32. X. Zhou, J. Zhang, H. Wu, J. Zhang, S. Guo, J. Phys. Chem. C 2011, 115, 11957-11961.
33. T. A. Pham, J. S. Kim, J. S. Kim, Y. T. Jeong, Colloids Surf. A 2011, 384, 543-548.
34. J. I. Paredes, S. Villar-Rodil, M. J. Fernández-Merino, L. Guardia, A. Martínez-Alonso, J. M. D. Tascón, J. Mater. Chem. 2011, 21, 298-306.
35. V. Dua, S. P. Surwade, S. Ammu, S. R. Agnihotra, S. Jain, K. E. Roberts, S. Park, R. S. Ruoff, S. K. Manohar, Angew. Chem. 2010, 122, 2200-2203
36. Angew. Chem. Int. Ed. 2010, 49, 2154-2157.
37. H. C. Schniepp, J. L. Li, M. J. McAllister, H. Sai, M. Herrera-Alonso, D. H. Adamson, R. K. Prud'homme, R. Car, D. A. Saville, I. A. Aksay, J. Phys. Chem. B 2006, 110, 8535-8539.
38. H. A. Becerril, J. Man, Z. Liu, R. M. Stoltenberg, Z. Bao, Y. Chen, ACS Nano 2008, 2, 463-470.
39. G. G. Roberts, Langmuir-Blodgett Films, Plenum, New York, 1990.
40. P. Yang, F. Kim, ChemPhysChem 2002, 3, 503-506.
41. B. Martín-García, M. M. Velázquez, unpublished results.
42. L. J. Cote, F. Kim, J. Huang, J. Am. Chem. Soc. 2009, 131, 1043-1049.
43. X. Li, G. Zhang, X. Bai, X. Sun, X. Wang, E. Wang, H. Dai, Nat. Nanotechnol. 2008, 3, 538-542.
44. W. Hummers, R. Offeman, J. Am. Chem. Soc. 1958, 80, 1339.
45. C. Hontoria-Lucas, A. J. López-Peinado, J. D. López- González, M. L. Rojas-Cervantes, R. M. Martín-Aranda, Carbon 1995, 33, 1585-1592.
46. S. Stankovich, D. A. Dikin, R. D. Piner, K. A. Kohlhaas, A. Kleinhammes, Y. Jia, Y. Wu, S. T. Nguyen, R. S. Ruoff, Carbon 2007, 45, 1558-1565.
47. D. Li, M. B. Müller, S. Gilje, R. B. Kaner, G. G. Wallace, Nat. Nanotechnol. 2008, 3, 101-105.
48. J. I. Paredes, S. Villar-Rodil, P. Solís-Fernandez, A. Martínez-Alonso, J. M. D. Tascón, Langmuir 2009, 25, 5957-5968.
49. J. Gao, F. Liu, Y. Liu, N. Ma, Z. Wang, X. Zhang, Chem. Mater. 2010, 22, 2213-2218.
50. Y. Gao, J. Jang, S. Nagase, J. Phys. Chem. C 2010, 114, 832-842.
51. L. S. Panchakarla, K. S. Subrahmanyam, S. K. Saha, A. Govindaraj, H. R. Krishnamurthy, U. V. Waghmare, C. N. R. Rao, Adv. Mater. 2009, 21, 4726-4730.
52. R. R. Nair, P. Blake, A. N. Grigorenko, K. S. Novoselov, T. J. Booth, T. Stauber, N. M. R. Peres, A. K. Geim, Science 2008, 320, 1308.
53. S. Vadukumpully, J. Paul, S. Valiayavetti, Carbon 2009, 47, 3288-3294.
54. M. A. Pimenta, G. Dresselhaus, M. S. Dresselhaus, L. G. Cançado, A. Jorio, R. Saito, Phys. Chem. Chem. Phys. 2007, 9, 1276-1291.
55. A. Nourbakhsh, M. Cantoro, T. Vosch, G. Pourtois, F. Clemente, M. H. van der Veen, J. Hofkens, M. M. Heyns, S. De Gendt, B. F. Sels, Nanotechnology 2010, 21, 435203.
56. R. P. Vidano, D. B. Fischbach, L. J. Willis, T. M. Loehr, Solid State Commun. 1981, 39, 341-344.
57. F. Tuinstra, J. L. Koening, J. Chem. Phys. 1970, 53, 1126-1130.
58. S.-D. Chen, C.-Y. Tsai, S. C. Lee, J. Nanopart. Res. 2004, 6, 407-410.
59. R. Huisgen, H. Mader, J. Am. Chem. Soc. 1971, 93, 1777-1779.
60. H. W. Heine, R. Peavy, A. J. Durbetaki, J. Org. Chem. 1966, 31, 3924-3927
61. P. B. Woller, N. H. Cromwell, J. Org. Chem. 1970, 35, 888-898.
62. A. C. Ferrari, J. Robertson, Phys. Rev. B 2000, 61, 14095-14107.
63. A. C. Ferrari, J. Robertson, Phys. Rev. B 2001, 64, 075414.
64. D. Wang, R. Kou, D. Choi, Z. Yang, Z. Nie, J. Li, L. V. Saraf, et al., ACS Nano 2010, 4, 1587-1595.
65. P. Eaton, P. West, Atomic Force Microscopy, Oxford University Press, Oxford, 2010, chap. 6.
66. M. Lotya, Y. Hernández, P. J. King, R. J. Smith, V. Nocilosi, L.-S. Karlsson, F. M. Blighe, S. De, Z. Wang, I. T. McGoven, G. S. Duesberg, J. N. Coleman, J. Am. Chem. Soc. 2009, 131, 3611-3620.
67. M. Lotya, P. J. King, U. Khan, S. De, J. N. Coleman, ACS Nano 2010, 4, 3155-3162.
68. W. Gao, L. B. Alemany, L. Ci, P. M. Ajayan, Nat. Chem. 2009, 1, 403-408.
69. M. J. Fernández-Merino, J. I. Paredes, S. Villar-Rodil, L. Guardia, P. Solís-Fernández, D. Salinas-Torres, D. Cazorla-Amorós, E. Morallón, A. Martínez-Alonso, J. M. D. Tascón, Carbon 2012, 50, 3184-3194.
70. H. Wang, X. Wang, X. Li, H. Dai, Nano Res. 2009, 2, 336-342.
71. D. López-Díaz, I. García-Mateos, M. M. Velázquez, J. Colloid Interface Sci. 2006, 299, 858-866.
72. P. Blake, E. W. Hill, A. H. C. Neto, K. S. Novoselov, D. Jiang, R. Yang, T. J. Booth, A. K. Geim, Appl. Phys. Lett. 2007, 91, 063124.
73. I. Horcas, R. Fernández, J. M. Gómez-Rodríguez, J. Colchero, J. Gómez-Herrero, A. M. Baro, Rev. Sci. Instrum. 2007, 78, 013705.
74. W. Kern, Handbook of Semiconductor Wafer Cleaning Technology: Science Technology and Applications, Noyes, New Jersey, 1993.
75. J. M. Caridad, F. Rossella, V. Bellani, M. S. Grandi, E. Diez, J. Raman Spectrosc. 2010, 42, 286-293
76. J. M. Caridad, F. Rossella, V. Bellani, M. Maicas, M. Tatrini, E. Diez, J. Appl. Phys. 2010, 108, 084321.
77. N. Rubio, C. Fabbro, M. A. Herrero, A. de La Hoz, E. Meneghetti, J. L. G. Fierro, M. Prato, E. Vázquez, Small 2011, 7, 665-674.
78. D. A. Dikin, S. Stankovich, E. J. Zimney, R. D. Piner, G. H. B. Dommett, G. Evmenenko, S. T. Nguyen, R. S. Ruoff, Nature 2007, 448, 457-460.
79. P. C. Angelomé, I. Pastoriza-Santos, J. Pérez-Juste, B. Rodríguez-González, A. Zelcer, G. J. A. A. Soler-Illia, L. M. Liz-Marzán, Nanoscale 2012, 4, 931-939.