Modeling study on the generation of reactive oxygen species in atmospheric radio-frequency helium-oxygen discharges

Plasma Processes and Polymers

Volumn 9, Issue 9, 2012, Pages 919-928

  He, Jin ^a   Zhang, Yuantao T ^a  

^a SHANDONG UNIVERSITY   (China)

Author keywords

atmospheric radio frequency discharges; atomic oxygen density; modeling reactive oxygen species; single delta oxygen

Indexed keywords

ATMOSPHERIC RADIO FREQUENCY; ATOMIC OXYGEN DENSITY; COMPUTATIONAL DATA; CONSTANT POWER DENSITY; GENERATION MECHANISM; KEY REACTIONS; MODELING STUDIES; ONE-DIMENSIONAL FLUID MODEL; POWER DENSITIES; RADIO FREQUENCIES; RADIO FREQUENCY PLASMA; REACTIVE OXYGEN SPECIES; RF DISCHARGE; SINGLE DELTA OXYGEN;

HELIUM;

OXYGEN;

EID: 84866383172     PISSN: 16128850     EISSN: 16128869     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/ppap.201200067     Document Type: Article

References (42)

1. J. R. Roth, " Industrial Plasma Engineering Principles," Vol. 1, Institute of Physics, Bristol 1995.
2. J. Park, I. Henins, H. W. Herrmann, G. S. Selwyn, J. Appl. Phys. 2001, 89, 20.
3. F. Iza, G. J. Kim, S. M. Lee, J. K. Lee, J. L. Walsh, Y. T. Zhang, M. G. Kong, Plasma Process. Polym. 2008, 5, 322.
4. G. Fridman, A. Gutsol, A. B. Shekhter, V. N. Vasilets, A. Fridman, Plasma Process. Polym. 2008, 5, 503.
5. N. Knake, K. Niemi, S. Reuter, V. S. Gathen, J. Winter, Appl. Phys. Lett. 2008, 93, 131503.
6. K. Niemi, S. Reuter, L. M. Graham, J. Waskoenig, T. Gans, Appl. Phys. Lett. 2009, 95, 151504.
7. J. Waskoenig, K. Niemi, N. Knake, L. M. Graham, S. Reuter, V. S. D. Gathen, T. Gans, Plasma Source Sci. Technol. 2010, 19, 045018.
8. J. S. Sousa, K. Niemi, L. J. Cox, Q. Th. Algwari, T. Gans, D. O'Connell, J. Appl. Phys. 2011, 109, 123302.
9. J. Y. Jeong, J. Park, I. Henins, S. E. Babayan, V. J. Tu, G. S. Selwyn, G. Ding, R. F. Hicks, J. Phys. Chem. A 2000, 104, 8027.
10. G. Y. Park, H. Lee, G. Kim, J. K. Lee, Plasma Process. Polym. 2008, 5, 569.
11. G. Y. Park, Y. J. Hong, H. W. Lee, J. Y. Sim, J. K. Lee, Plasma Process. Polym. 2010, 7, 281.
12. D.-X. Liu, M.-Z. Rong, X.-H. Wang, F. Iza, M. G. Kong, P. Bruggeman, Plasma Process. Polym. 2010, 7, 846.
13. A. Yang, X. Wang, M. Rong, D. Liu, F. Iza, M. G. Kong, Phys. Plasmas 2011, 18, 113503.
14. nd 2011, Belfast, Northern Ireland, UK.
15. Y. T. Zhang, S. Y. Cui, Phys. Plasmas. 2011, 18, 083509.
16. Y. T. Zhang, W. L. Shang, Phys. Plasmas 2011, 18, 110701.
17. S. Rauf, M. J. Kushner, J. Appl. Phys. 1999, 85, 3460.
18. Q. Wang, D. J. Economou, V. M. Donnelly, J. Appl. Phys. 2006, 100, 023301.
19. R. Deloche, P. Monchicourt, M. Cheret, F. Lambert, Phys. Rev. 1976, 13, 1140.
20. Y. B. Golubovskii, V. A. Maiorov, J. Behnke, J. F. Behnke, J. Phys. D: Appl. Phys. 2003, 36, 39.
21. S. J. Kim, M. A. Lieberman, A. J. Lichtenberg, J. T. Gunmunds-Son, J. Vac. Sci. Technol. 2006, 24, 2025.
22. M. A. Lieberman, A. J. Lichtenberg, " Principle of Plasma Discharges and Materials Processing," Wiley, New York 2005.
23. V. Leveille, S. Coulombe, Plasma Source Sci. Technol. 2005, 14, 467.
24. J. T. Gudmundsson, I. G. Kouznetsov, K. K. Patel, M. A. Lieberman, J. Phys. D: Appl. phys. 2001, 34, 1100.
25. D. S. Stafford, M. J. Kushner, J. Appl. Phys. 2004, 96, 2451.
26. F. J. Gordillo-Vazquez, J. Phys. D: Appl. Phys. 2008, 41, 234016.
27. S. Hadi-Ziane, B. Held, P. Pignolet, J. Phys. D: Appl. Phys. 1992, 25, 677.
28. D. L. Baulch, R. A. Cox, P. J. Crutzen, R. F. Hampson, Jr, J. A. Kerr, J. Troe, R. T. Watson, J. Phys. Chem. 1982, 11, 327.
29. C. Soria, F. Pontiga, A. Castellanos, Plasma Sources Sci. Technol. 2004, 13, 95.
30. D. Lee, J. M. Park, S. H. Hong, Y. Kim, IEEE Plasma Sci. 2005, 33, 949.
31. F. Emmert, H. H. Angermann, R. Dux, H. Langhoff, J. Phys. D: Appl. Phys. 1988, 21, 667.
32. X. Yuan, L. L. Raja, IEEE Trans. Plasma Sci. 2003, 31, 495.
33. Y. T. Zhang, D. Z. Wang, M. G. Kong, J. Appl. Phys. 2006, 100, 063304.
34. R. Brandenbrug, V. A. Maiorov, Yu. B. Golubovskii, H.-E. Wagner, J. Behnke, J. F. Behnke, J. Phys. D: Appl. Phys. 2005, 38, 2187.
35. K. Yanallah, F. Pontiga, A. F. Rueda, A. Castellanos, J. Phys. D: Appl. Phys. 2009, 42, 065202.
36. J. J. Shi, M. G. Kong, J. Appl. Phys. 2005, 97, 023306.
37. S. -Z. Li, J. -P. Lim, J. G. Kang, H. S. Uhm, Phys. Plasmas 2006, 13, 093503.
38. S.-Z. Li, Q. Wu, W. Yan, D. Wang, H. S. Uhm, Phys. Plasmas 2011, 18, 103502.
39. A. J. Lichtenberg, I. G. Kouznetsov, Y. T. Lee, M. A. Lieberman, I. D. Kaganovich, L. D. Tsendin, Plasma Sources Sci. Technol. 1997, 6, 437.
40. A. S. Chiper, B. G. Rusu, A. V. Nastuta, G. Popa, IEEE Trans. Plasma Sci. 2009, 37, 2098.
41. V. Leveille, S. Coulombe, Plasma Process. Polym. 2006, 3, 587.
42. D. Ellerweg, J. Benedikt, A. V. Keudell, N. Knake, V. S. D. Gathen, New J. Phys. 2010, 12, 013021.