Atomic oxygen production and exploration of reaction mechanisms in a He-O2 atmospheric pressure glow discharge torch

Plasma Processes and Polymers

Volumn 3, Issue 8, 2006, Pages 587-596

  Léveillé, Valérie ^a   Coulombe, Sylvain ^a  

^a MCGILL UNIVERSITY   (Canada)

Author keywords

Atmospheric pressure glow discharge (APGD); Atomic oxygen production; Nonthermal plasma; Plasma jet; Reactive species

Indexed keywords

AIR ENTRAINMENT; ATMOSPHERIC PRESSURE; GLOW DISCHARGES; PLASMA FLOW; REACTION KINETICS;

ATMOSPHERIC PRESSURE GLOW DISCHARGE; ATOMIC OXYGEN PRODUCTION; NONTHERMAL PLASMA; PLASMA-FORMING GAS FLOW RATE;

PLASMA TORCHES;

EID: 33750343157     PISSN: 16128850     EISSN: 16128869     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/ppap.200600051     Document Type: Article

References (54)

1. M. Laroussi, X. Lu, Appl. Phys. Lett. 2005, 87, 113902.
2. J. R. Roth, D. M. Sherman, R. Ben Gadri, F. Karakaya, Z. Chen, T. C. Montie, K. Kelly-Wintenberg, P. P.-Y. Tsai, IEEE Trans. Plasma Sci. 2000, 28, 56.
3. A. Bruil, L. M. Brenneisen, J. G. A. Terlingen, T. Beugeling, W. G. van Aken, J. Feijen, J. Colloid Interface Sci. 1994, 165, 72.
4. K. E. Schmalenberg, H. M. Buettner, K. E. Uhrich, Biomaterials 2004, 25, 1851.
5. E. Stoffels, I. E. Kieft, R. E. J. Sladek, J. Phys. D: Appl. Phys. 2003, 36, 2908.
6. E. Stoffels, A. J. Flikweert, W. W. Stoffels, G. M. W. Kroesen, Plasma Sources Sci. Technol. 2002, 11, 383.
7. I. E. Kieft, D. Darios, A. J. M. Roks, E. Stoffels, IEEE Trans. Plasma Sci. 2005, 33, 771.
8. V. Léveillé, S. Coulombe, Plasma Sources Sci. Technol. 2005, 14, 467.
9. J. Y. Jeong, S. E. Babayan, A. Schulze, V. J. Tu, J. Park, I. Hennins, G. S. Selwyn, R. F. Hicks, J. Vac. Sci. Technol. A 1999, 17, 2581.
10. M. Moisan, J. Barbeau, S. Moreau, J. Pelletier, M. Tabrizian, L'H Yahia, Int. J. Pharm. 2001, 226, 1.
11. S. Moreau, M. Moisan, M. Tabrizian, J. Barbeau, J. Pelletier, A. Ricard, L'H. Yahia, J. Appl. Phys. 2000, 88, 1166.
12. E Clèment, B. Held, N. Soulem, C. Guimon, Eur. Phys. J. Appl. Phys. 2002, 18, 135.
13. S. Coulombe, V. Lèveillè, S. Yonson, R. L. Leask, Pure Appl. Chem. 2005, 78, 1137.
14. I. E. Kieft, E. P. V. D. Laan, E. Stoffels, New J. Phys. 2004, 6, 1.
15. G. Nersisyan, T. Morrow, W. G. Graham, Appl. Phys. Lett. 2004, 85, 1487.
16. M. A. Lieberman, A. J. Litchenberg, "Principles of Plasma Discharges and Materials Processing", Wiley, New York 1994.
17. C. Gorse, S. De Benedictis, G. Dilecce, M. Capitelli, Spectrochim. Acta, Part B: At. Spectrosc. 1990, 45, 521.
18. K. Tsuchida, Jap. J. Appl. Phys. 1984, 23, 338.
19. J. Jolly, M. Touzeau, A. Ricard, J. Phys. B: At. Mol. Phys. 1981, 14, 473.
20. S. De Benedictis, G. Dilecce, J. Phys. D: Appl. Phys. 1995, 28, 2067.
21. Q. Chen, Y. Zhang, E. Han, Y. Ge, Plasma Sources Sci. Technol. 2005, 14, 670.
22. R. F. Barrow, D. A. Long, D. J. Millen, "Molecular Spectroscopy", Billing & Sons, London 1974.
23. P. Zhang, U. Kortshagen, J. Phys. D: Appl. Phys. 2006, 39, 153.
24. J. M. Pouvesle, A. Khacef, J. Stevefelt, H. Jahani, V. T. Gylys, C. B. Collins, J. Chem. Phys. 1988, 88, 3061.
25. W. S. Struve, "Fundamentals of Molecular Spectroscopy", Wiley, New York 1989.
26. 2: Physical-Chemical Aspects", Chemical Rubber Company, Boca Raton 1985.
27. U. Kogelschatz, B. Eliasson, IEEE Trans. Plasma Sci. 1991, 19, 1063.
28. J. Y. Jeong, J. Park, I. Henins, S. E. Babayan, V. J. Tu, G. S. Selwyn, G. Ding, R. F. Hicks, J. Phys. Chem. A 2000, 104, 8027.
29. R. Álvarez, M. C. Quintero, A. Rodero, J. Phys. D: Appl. Phys. 2005, 38, 3768.
30. D. Lee, J. Park, S. H. Hong, Y. Kim, IEEE Trans. Plasma Sci. 2005, 33, 949.
31. A. Kunde, N. J. Wiegart, H.-J. Kunze, J. Phys. B: At. Mol. Phys. 1985, 18, 567.
32. J. M. Pouvesle, A. Bouchoule, J. Stevefelt, J. Chem. Phys. 1982, 77, 817.
33. S. V. Kvitov, B. N. Lomakin, V. R. Solov'ev, A. A. Sunarchin, M. G. Tikhonov, N. V. Cherkasskii, Fiz. Plazmy 1996, 22, 1134.
34. K. L. Bell, A. Dalgarno, A. E. Kingston, J. Phys. B: At. Mol. Phys. 1968, 1, 18.
35. C. Lee, D. B. Graves, M. N. Lieberman, D. W. Hess, J. Electrochem. Soc. 1994, 141, 1546.
36. B. Eliasson, U. Kogelschatz, "Basic Data for Modeling of Electrical Discharge in Gases: Oxygen", Research, Asea Brown Boveri Corporate, KLR-11C CH5405, 1986.
37. S. T. Amimoto, A. P. Force, J. R. Wiesenfeld, Chem. Phys. Lett. 1978, 60, 40.
38. J. Heicklen, "Atmospheric Chemistry", Academic Press, New York 1976.
39. R. F. I. Heidner, D. Husain, J. R. Wiesenfeld, Chem. Phys. Lett. 1972, 16, 530.
40. R. Atkinson, D. L. Baulch, R. A. Cox, R. F. Hampson, Jr., J. A. Kerr, M. J. Rossi, J. Troe, J. Phys. Chem. Ref. Data 1997, 26, 1329.
41. H. G. Yu, A. J. C. Varandas, J. Chem. Soc., Faraday Trans. 1997, 93, 2651.
42. R. Atkinson, D. L. Baulch, R. A. Cox, J. N. Crowley, R. F. Hampson, Jr., J. A. Kerr, M. J. Rossi, J. Troe, Web Version of the IUPAC Subcommittee on Gas Kinetic Data Evaluation for Atmospheric Chemistry 2001, 1.
43. K. Schofield, Int. J. Chem. Kinet. 1972, 9, 255.
44. S. P. Sharma, B. A. Cruden, M. V. V. S. Rao, A. A. Bolshakov, J. Appl. Phys. 2004, 95, 3324.
45. S. W. Benson, A. E. Axworthy, Jr., J. Chem. Phys. Plasmas 1957, 26, 1718.
46. R. K. Datta, K. N. Rao, Ind. J. Chem. A 1979, 18, 102.
47. D. L. Baulch, C. J. Cobos, R. A. Cox, P. Frank, G. Hayman, T. Just, J. A. Kerr, T. Murrells, M. J. Pilling, J. Troe, R. W. Walker, J. Warnatz, J. Phys. Chem. Ref. Data 1994, 23, 847.
48. S. Hatakeyama, M.-T. Leu, J. Phys. Chem. A 1989, 93, 5784.
49. W. Tsang, R. F. Hampson, J. Phys. Chem. Ref. Data 1986, 15, 1087.
50. J. T. Gudmundsson, J. Phys. D: Appl. Phys. 2004, 37, 2073.
51. F. W. Lee, C. B. Collins, J. Chem. Phys. 1976, 65, 5189.
52. Y. B. Golubovskii, V A. Maiorov, J. Behnke, J. F. Behnke, J. Phys. D: Appl. Phys. 2003, 36, 39.
53. K. Thielen, P. Roth, Am. Inst. Aeronautics Astronautics J. 1986, 24, 1102.
54. V. Nemchinsky, J. Phys. D: Appl. Phys. 2005, 38, 3825.