Fabrication of a carbon-nanotube-based field-effect transistor by microcontact printing

Small

Volumn 8, Issue 14, 2012, Pages 2258-2263

  Mehlich, Jan ^a   Miyata, Yasumitsu ^b   Shinohara, Hisanori ^b   Ravoo, Bart Jan ^a  

^a UNIVERSITY OF MÜNSTER   (Germany)

^b NAGOYA UNIVERSITY   (Japan)

Author keywords

carbon nanotubes; field effect transistors; microcontact printing; nanoelectronics; pattern formation

Indexed keywords

CARBON-NANOTUBE-BASED FIELD-EFFECT TRANSISTORS; CHANNEL MATERIALS; CNT FILMS; DENSE FILMS; GATE ELECTRODES; GEL FILTRATION; METALLIC FRACTION; MICRO CONTACT PRINTING; MICROPATTERNS; PATTERN FORMATION; PATTERNED DEPOSITION; PATTERNED FILMS; POLYDIMETHYLSILOXANE STAMPS; SEMICONDUCTIVE; SILICON SUBSTRATES; SINGLE-WALLED; SOURCE AND DRAIN ELECTRODES;

ATOMIC FORCE MICROSCOPY; CARBON NANOTUBES; DENDRIMERS; ELECTRODES; ELECTRONIC PROPERTIES; FIELD EFFECT TRANSISTORS; NANOELECTRONICS; PRINTING; SEMICONDUCTING FILMS; SILICON WAFERS; SILICONES; SURFACE ACTIVE AGENTS;

ELECTRON DEVICE MANUFACTURE;

EID: 84864127842     PISSN: 16136810     EISSN: 16136829     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/smll.201102248     Document Type: Article

References (34)

1. J. Mehlich, B. J. Ravoo, in Nanotechnology, Volume 8: Nanostructured Surfaces (Ed:, L. Chi,), Wiley-VCH, Weinheim, 2010, Ch. 3, and references therein.
2. a) P. Q. Gao, Q. Zhang, H. Li, M. B. Chan-Park, Small 2011, 7, 2195
3. b) Y. J. Lu, M. Meyyappan, J. Li, Small 2011, 7, 1714
4. c) E. S. Jeng, J. D. Nelson, K. L. J. Prather, M. S. Strano, Small 2010, 6, 40.
5. a) S. Huang, L. Dai, A. Mau, Physica B 2002, 322, 333
6. b) H. Kind, J. Bonard, K. Hernadi, L. Forró, K. Kern, L. O. Nilsson, L. Schlapbach, Langmuir 2000, 16, 6877
7. c) G. Gu, G. Philipp, X. Wu, M. Burghard, A. M. Bittner, S. Roth, Adv. Funct. Mater. 2001, 11, 295
8. d) J. Im, I. H. Lee, B. Y. Lee, B. Kim, J. Park, W. Yu, U. J. Kim, Y. H. Lee, M. J. Seong, E. H. Lee, Y. S. Min, S. Hong, Appl. Phys. Lett. 2009, 94, 53109.
9. a) M. A. Meitl, Y. Zhou, A. Gaur, S. Jeon, M. L. Usrey, M. S. Strano, J. A. Rogers, Nano Lett. 2004, 4, 1643
10. b) Y. Zhou, L. Hu, G. Grüner, Appl. Phys. Lett. 2006, 88, 123109
11. c) S. W. Choi, W. S. Kang, J. H. Lee, C. K. Najeeb, H. S. Chun, J. H. Kim, Langmuir 2010, 26, 15680
12. d) K. Fuchsberger, A. Le Goff, L. Gambazzi, F. M. Toma, A. Goldoni, M. Giugliano, M. Stelzle, M. Prato, Small 2011, 7, 524
13. e) V. K. Sangwan, A. Southard, T. L. Moore, V. W. Ballarotto, D. R. Hines, M. S. Fuhrer, E. D. Williams, Microelectron. Eng. 2011, 88, 3150.
14. a) M. Engel, J. P. Small, M. Steiner, M. Freitag, A. A. Green, M. C. Hersam, P. Avouris, ACS Nano 2008, 2, 2445
15. b) V. K. Sangwan, A. Behnam, V. W. Ballarotto, M. S. Fuhrer, A. Ural, E. D. Williams, Appl. Phys. Lett. 2010, 97, 043111
16. c) Q. Cao, H. S. Kim, N. Pimparkar, J. P. Kulkarni, C. Wang, M. Shim, K. Roy, M. A. Alam, J. A. Rogers, Nature 2008, 454, 495.
17. a) Q. Cao, Z. T. Zhu, M. G. Lemaitre, M. G. Xia, M. Shim, J. A. Rogers, Appl. Phys. Lett. 2006, 88, 113511
18. b) A. Southard, V. Sangwan, J. Cheng, E. D. Williams, M. S. Fuhrer, Org. Electron. 2009, 10, 1556
19. c) G. Grüner, J. Mater. Chem. 2006, 16, 3533
20. d) D. S. Leem, S. Kim, J. W. Kim, J. I. Sohn, A. Edwards, J. Huang, X. Wang, J. J. Kim, D. D. C. Bradley, J. C. de Mello, Small 2010, 6, 2530.
21. S. Aikawa, R. Xiang, E. Einarsson, S. Chiashi, J. Shiomi, E. Nishikawa, S. Maruyama, Nano Res. 2011, 4, 580.
22. K. Moshammer, F. Hennrich, M. M. Kappes, Nano Res. 2009, 2, 599.
23. C. Backes, C. D. Schmidt, F. Hauke, C. Böttcher, A. Hirsch, J. Am. Chem. Soc. 2009, 131, 2172.
24. C. W. Lee, X. Han, F. Chen, J. Wei, Y. Chen, M. B. Chan-Park, L. J. Li, Adv. Mater. 2010, 22, 1278.
25. D. I. Rozkiewicz, W. Brugman, R. Kerkhoven, B. J. Ravoo, D. N. Reinhoudt, J. Am. Chem. Soc. 2007, 129, 11593.
26. a) W. J. Yu, B. R. Kang, I. H. Lee, Y. S. Min, Y. H. Lee, Adv. Mater. 2009, 21, 4821
27. b) Y. F. Chen, M. S. Fuhrer, Nano Lett. 2006, 6, 2158.
28. R. Martel, V. Derycke, C. Lavoie, J. Appenzeller, K. K. Chan, J. Tersoff, P. Avouris, Phys. Rev. Lett. 2001, 87, 256805.
29. S. J. Tans, A. R. M. Verschueren, C. Dekker, Nature 1998, 393, 49.
30. U. J. Kim, E. H. Lee, J. M. Kim, Y. S. Min, E. Kim, W. Park, Nanotechnology 2009, 20, 295201.
31. K. Xiao, Y. Liu, P. Hu, G. Yu, X. Wang, D. Zhu, Appl. Phys. Lett. 2003, 83, 150.
32. E. S. Snow, J. P. Novak, P. M. Campbell, D. Park, Appl. Phys. Lett. 2003, 82, 2145.
33. Y. Miyata, K. Shiozawa, Y. Asada, Y. Ohno, R. Kitaura, T. Mizutani, H. Shinohara, Nano Res. 2011, 4, 963.
34. N. Balachander, C. N. Sukenik, Langmuir 1990, 6, 1621.