Post-synthesis carbon nanowalls transformation under hydrogen, oxygen, nitrogen, tetrafluoroethane and sulfur hexafluoride plasma treatments

Plasma Processes and Polymers

Volumn 9, Issue 4, 2012, Pages 363-370

  Vizireanu, Sorin ^a,b   Ionita, Maria Daniela ^a   Dinescu, Gheorghe ^a   Enculescu, Ionut ^c   Baibarac, Mihaela ^c   Baltog, Ioan ^c  

^a NATIONAL INSTITUTE FOR LASER   (Romania)

^b PETROLEUM GAS UNIVERSITY OF PLOIESTI   (Romania)

^c National Institute of Materials Physics   (Romania)

Author keywords

carbon nanowalls (CNW); graphene nanosheets; plasma functionalization; superhydrophobic surface; surface modification

Indexed keywords

CARBON NANOWALLS; CHEMICAL COMPOSITIONS; CONFORMAL FILMS; FILM COVERAGE; FTIR; FUNCTIONALIZATIONS; GAS TYPE; MATERIAL PROPERTY; MATERIAL STRUCTURE; MORPHOLOGICAL CHANGES; PLASMA EROSION; PLASMA FUNCTIONALIZATION; PLASMA TREATMENT; POSTSYNTHESIS; RADIO FREQUENCY PLASMA; SUPER-HYDROPHILIC; SUPER-HYDROPHOBIC SURFACES; SURFACE EROSION; TETRAFLUOROETHANE;

ARGON; EROSION; FUNCTIONAL GROUPS; GRAPHENE; HYDROGEN; HYDROPHOBICITY; MORPHOLOGY; OXYGEN; PLASMA DEPOSITION; RAMAN SPECTROSCOPY; SULFUR HEXAFLUORIDE; SURFACE CHEMISTRY; SURFACE PROPERTIES; SURFACE TREATMENT;

NITROGEN PLASMA;

EID: 84859842873     PISSN: 16128850     EISSN: 16128869     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/ppap.201100153     Document Type: Article

References (48)

1. W. Choi, I. Lahiri, R. Seelaboyina, Y. S. Kang, Crit. Rev. Solid State Mater. Sci. 2010, 35, 52.
2. Y. H. Wu, T. Yu, Z. X. Shen, J. Appl. Phys. 2010, 108, 071301.
3. S. Vizireanu, L. Nistor, M. Haupt, V. Katzenmaier, C. Oehr, G. Dinescu, Plasma Process. Polym. 2008, 5, 263.
4. A. Malesevic, S. Vizireanu, R. Kemps, A. Vanhulsel, C. Van Haesendonck, G. Dinescu, Carbon 2007, 45, 2932.
5. S. Vizireanu, S. D. Stoica, C. Luculescu, L. C. Nistor, B. Mitu, G. Dinescu, Plasma Sources Sci. Technol. 2010, 19, 034016.
6. E. C. Stancu, M. D. Ionita, S. Vizireanu, A. M. Stanciuc, L. Moldovan, G. Dinescu, Mater. Sci. Eng. 2010, 169, 119.
7. K. Ostrikov, Rev. Mod. Phys. 2005, 77, 489.
8. C. H. Weng, K. C. Leou, H. W. Wei, Z. Y. Juang, M. T. Wei, C. H. Tung, C. H. Tsai, Appl. Phys. Lett. 2004, 85, 4732.
9. A. Felten, C. Bittencourt, J.-F. Colomer, G. Van Tendeloo, J.-J. Pireaux, Carbon 2007, 45, 110.
10. L. T. Sun, J. L. Gong, Z. Y. Zhu, D. Z. Zhu, Z. X. Wang, W. Zhang, J. G. Hu, Q. T. Li, Diam. Relat. Mater. 2005, 14, 749.
11. L. Zeng, D. Lei, W. Wang, J. Liang, Z. Wang, N. Yao, B. Zhang, Appl. Surf. Sci. 2008, 254, 1700.
12. Y. Zhou, B. Wang, X. Zhang, M. Zhao, Er Li, Hui Yan, Colloids Surf., A 2009, 335, 128.
13. T. Xu, J. Yang, J. Liu, Q. Fu, Appl. Surf. Sci. 2007, 253, 8945.
14. W. Brandl, G. Marginean, Thin Solid Films 2004, 447, 181.
15. S. C. Ramos, G. Vasconcelos, E. F. Antunes, A. O. Lobo, V. J. Trava-Airoldi, E. J. Corat, Diam. Relat. Mater. 2010, 19, 752.
16. S. H. Lee, C. H. Lin, J.-M. Chiou, C. T. Kuo, Diam. Relat. Mater. 2006, 15, 854.
17. A. Felten, C. Bittencourt, J. J. Pireaux, G. Van Lier, J. C. Charlier, J. Appl. Phys. 2005, 98, 074308.
18. J. Chen, Z. H. Zhu, S. Wang, Q. Ma, V. Rudolph, G. Q. Luc, Chem. Eng. J. 2010, 156, 404.
19. H. Muguruma, Y. Shibayama, Y. Matsui, Biosens. Bioelectron. 2008, 23, 827.
20. U. Vohrer, N. P. Zschoerper, Y. Koehne, S. Langowski, C. Oehr, Plasma Process. Polym. 2007, 4, S871.
21. S. Jung, S. Hong, B. Park, J. Choi, Y. Kim, G. Yeom, S. Baik, Carbon 2008, 46, 24
22. L. B. Zhu, Y. H. Xiu, J. W. Xu, P. A. Tamirisa, D. W. Hess, C. P. Wong, Langmuir 2005, 21, 11208.
23. N. O. V. Plank, L. Jiang, R. Cheung, Appl. Phys. Lett. 2003, 83, 2426.
24. S. Guruvenket, G. R. S. Iyer, L. Shestakova, P. Morgen, c. N. B. Larsen, G. M. Rao, Appl. Surf. Sci. 2008, 254, 5722.
25. C. B. Labelle, K. K. Gleason, J. Appl. Polym. Sci. 1999, 74, 2439.
26. N. Jiang, H. X. Wang, H. Zhang, H. Sasaoka, K. Nishimura, J. Mater. Chem. 2010, 20, 5070.
27. W. Takeuchi, M. Ura, M. Hiramatsu, Y. Tokuda, H. Kanoand, M. Hori, Appl. Phys. Lett. 2008, 92, 213103.
28. W. Takeuchi, H. Kondo, T. i. Obayashi, M. Hiramatsu, M. Hori, Appl. Phys. Lett. 2011, 98, 123107.
29. P. Hojati-Talemi, G. P. Simon, Carbon 2011, 49, 2869.
30. M. Strobel, C. S. Lyons, Plasma Process. Polym. 2011, 8, 8.
31. R. D. Mundo, F. Palumbo, Plasma Process. Polym. 2011, 8, 14.
32. M. Muller, C. Oehr, Plasma Process. Polym. 2011, 8, 19.
33. S. Kurita, A. Yoshimura, H. Kawamoto, T. Uchida, K. Kojima, M. Tachibana, P. Molina-Morales, H. Nakai, J. Appl. Phys. 2005, 97, 104320.
34. Z. H. Ni, H. M. Fan, X. F. Fan, H. M. Wang, Z. Zheng, Y. P. Feng, Y. H. Wu, Z. X. Shen, J. Raman Spectrosc. 2007, 38, 1449.
35. M. Zhu, C. J. Weber, Y. Yang, M. Konuma, U. Starke, K. Kern, A. M. Bittner, Carbon 2008, 46, 1829.
36. S. Qiu, L. Liu, X. Jin, A. Zhang, K. Wu, L. Wang, Spectrochim. Acta, Part A 2010, 77, 572.
37. A. El-Hendawy, J. Anal. Appl. Pyrol. 2006, 75, 159.
38. G.-H. Moon, Y. Park, W. Kim, W. Choi, Carbon 2011, 49, 3454.
39. S. Quillard, G. Louarn, S. Lefrant, A. G. MacDiarmid, Phys. Rev. B: Condens. Matter 1994, 50, 12496.
40. C. Cirak, S. Demir, F. Ucun, O. Cubuk, Spectrochim. Acta, Part A 2011, 79, 529.
41. D. A. Ayala, J. M. Romero, N. L. Jorge, M. E. Gomez-Vara, A. H. Jibert, E. A. Castro, Spectrochim. Acta, Part A 2006, 64, 717.
42. D. Chen, D. Xu, J. Wang, B. Zhao, Y. Zhang, Vacuum 2009, 83, 282.
43. P. He, D. Shi, J. Lian, L. M. Wang, R. C. Ewing, W. van Ooji, W. Z. Li, Z. F. Ren, Appl. Phys. Lett. 2005, 86, 053107.
44. L. N. Ignatieva, A. Y. Beloliptsev, S. G. Kozlova, V. M. Buznik, J. Struct. Chem. 2004, 45, 599.
45. L. N. Ignatieva, A. K. Tsvetnikov, O. N. Gorbenko, T. A. Kaidalova, V. M. Buznik, J. Struct. Chem. 2004, 45, 786.
46. A. V. Cherevatova, T. D. Kolomiitsova, D. N. Shchepkin, K. G. Tokhadze, Z. Mielke, S. Coussan, P. Roubin, J. Mol. Spectrosc. 2006, 238, 64.
47. X. Xiao, Y. T. Cheng, B. W. Sheldon, J. Rankin, J. Mater. Res. 2008, 23, 2174.
48. N. G. Shang, P. Papakonstantinou, M. McMullan, M. Chu, A. Stamboulis, A. Potenza, S. S. Dhesi, H. Marchetto, Adv. Funct. Mater. 2008, 18, 3506.