Thickness control of graphene overlayer via layer-by-layer growth on graphene templates by chemical vapor deposition

Japanese Journal of Applied Physics

Volumn 50, Issue 6 PART 2, 2011, Pages

  Negishi, Ryota ^a   Hirano, Hiroki ^a   Ohno, Yasuhide ^a   Haehashi, Kenzo ^a   Matsumoto, Kazuhiko ^a   Kobayashi, Yoshihiro ^a  

^a OSAKA UNIVERSITY   (Japan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

CHANNEL MATERIALS; GRAPHENE GROWTH; GRAPHENE LAYERS; GRAPHITE CRYSTAL; GROWTH TIME; LAYER-BY-LAYER GROWTH; MECHANICAL EXFOLIATION; OVERLAYERS; STRUCTURAL CHARACTERIZATION;

ATOMIC FORCE MICROSCOPY; ATOMIC SPECTROSCOPY; CRYSTAL ATOMIC STRUCTURE; DEPOSITION; ELECTRIC FIELD EFFECTS; ELECTRIC PROPERTIES; ETHANOL; FIELD EFFECT TRANSISTORS; FILM GROWTH; GRAPHENE; RAMAN SPECTROSCOPY;

CHEMICAL VAPOR DEPOSITION;

EID: 79959485866     PISSN: 00214922     EISSN: 13474065     Source Type: Journal    
DOI: 10.1143/JJAP.50.06GE04     Document Type: Article

References (31)

1. K. S. Novoselov, A. K. Geim, S. V. Morozov, D. Jiang, Y. Zhang, S. V. Dubonos, I. V. Grigorieva, and A. A. Firsov: Science 306 (2004) 666.
2. K. I. Bolotin, K. J. Sikes, Z. Jiang, M. Klima, G. Fudenberg, J. Hone, P. Kim, and H. L. Stormer: Solid State Commun. 146 (2008) 351.
3. E. McCann: Phys. Rev. B 74 (2006) 161403.
4. M. Y. Han, B. Özyilmaz, Y. Zhang, and P. Kim: Phys. Rev. Lett. 98 (2007) 206805.
5. S. Moriyama, D. Tsuya, E. Watanabe, S. Uji, M. Shimizu, T. Mori, T. Yamaguchi, and K. Ishibashi: Nano Lett. 9 (2009) 2891.
6. D. Graf, F. Molitor, K. Ensslin, C. Stampfer, A. Jungen, C. Hierold, and L. Wirtz: Nano Lett. 7 (2007) 238.
7. Y. M. Lin, K. A. Jenkins, A. Valdes-Garcia, J. P. Small, D. B. Farmer, and P. Avouris: Nano Lett. 9 (2009) 422.
8. S. Kim, J. Nah, I. Jo, D. Shahrjerdi, L. Colombo, Z. Yao, E. Tutuc, and S. K. Banerjee: Appl. Phys. Lett. 94 (2009) 062107.
9. C. Berger, Z. Song, X. Li, X. Wu, N. Brown, C. Naud, D. Mayou, T. B. Li, J. Hass, A. N. Marchenkov, E. H. Conrad, P. N. First, and W. A. de Heer: Science 312 (2006) 1191.
10. A. Reina, X. Jia, J. Ho, D. Nezich, H. Son, V. Bulovic, M. S. Dresselhaus, and J. Kong: Nano Lett. 9 (2009) 30.
11. Q. Yu, J. Lian, S. Siriponglert, H. Li, Y. P. Chen, and S. S. Pei: Appl. Phys. Lett. 93 (2008) 113103.
12. K. S. Kim, Y. Zhao, H. Jang, S. Y. Lee, J. M. Kim, K. S. Kim, J. H. Ahn, P. Kim, J. Y. Choi, and B. H. Hong: Nature 457 (2009) 706.
13. J. Coraux, A. T. N'Diaye, C. Busse, and T. Michely: Nano Lett. 8 (2008) 565.
14. P. W. Sutter, J. I. Flege, and E. A. Sutter: Nat. Mater. 7 (2008) 406.
15. A. L. V. de Parga, F. Calleja, B. Borca, M. C. G. Passeggi, J. J. Hinarejos, F. Guinea, and R. Miranda: Phys. Rev. Lett. 100 (2008) 056807.
16. H. A. Becerril, J. Mao, Z. Liu, R. M. Stoltenberg, Z. Bao, and Y. Chen: ACS Nano 2 (2008) 463.
17. D. Yang, A. Velamakanni, G. Bozoklu, S. Park, M. Stoller, D. Piner, S. Stankovich, I. Jung, D. A. Field, C. A. Ventrice, and R. S. Ruoff: Carbon 47 (2009) 145.
18. I. N. Kholmanov, E. Cavaliere, C. Cepek, and L. Gavioli: Carbon 48 (2010) 1619.
19. N. W. Nicholas, L. M. Connors, F. Ding, B. I. Yakobson, H. K. Schmidt, and R. H. Hauge: Nanotechnology 20 (2009) 245607.
20. Y. H. Lee and J. H. Lee: Appl. Phys. Lett. 95 (2009) 143102.
21. R. Negishi, H. Hirano, Y. Kobayashi, Y. Ohno, K. Maehashi, and K. Matsumoto: to be published in Thin Solid Films [DOI: 10.1016/j.tsf.2011. 04.229].
22. P. Blake, E. W. Hill, A. H. C. Neto, K. S. Novoselov, D. Jiang, R. Yang, T. J. Booth, and A. K. Geim: Appl. Phys. Lett. 91 (2007) 063124.
23. A. C. Ferrari, J. C. Meyer, V. Scardaci, C. Casiraghi, M. Lazzeri, F. Mauri, S. Piscanec, D. Jiang, K. S. Novoselov, S. Roth, and A. K. Geim: Phys. Rev. Lett. 97 (2006) 187401.
24. H. Amara, S. Latil, V. Meunier, P. Lambin, and J. C. Charlier: Phys. Rev. B 76 (2007) 115423.
25. L. G. Cançado, K. Takai, T. Enoki, M. Endo, Y. A. Kim, H. Mizusaki, N. L. Speziali, A. Jorio, and M. A. Pimenta: Carbon 46 (2008) 272.
26. M. A. Pimenta, G. Dresselhaus, M. S. Dresselhaus, L. G. Cançado, A. Jorio, and R. Saito: Phys. Chem. Chem. Phys. 9 (2007) 1276.
27. C. Qiu, H. Zhou, M. Chen, Z. Liu, and L. Sun: J. Nanosci. Nanotechnol. 10 (2010) 7481.
28. C. Q. Jin, X. Wang, Z. X. Liu, Y. L. Zhang, F. Y. Li, and R. C. Yu: Braz. J. Phys. 33 (2003) 723.
29. L. G. Cançado, K. Takai, and T. Enoki: Appl. Phys. Lett. 88 (2006) 163106.
30. M. P. Levendorf, C. S. Rulz-Vargas, S. Garg, and J. Park: Nano Lett. 9 (2009) 4479.
31. X. Li, W. Cai, J. An, S. Kim, J. Nah, D. Yang, R. Piner, A. Velamakanni, I. Jung, E. Tutuc, S. K. Banerjee, L. Colombo, and R. S. Ruoff: Science 324 (2009) 1312.