-
1
-
-
67650102619
-
-
ADVMEW 0935-9648,. 10.1002/adma.200900375
-
R. Waser, R. Dittmann, G. Staikov, and K. Szot, Adv. Mater. ADVMEW 0935-9648 21, 2632 (2009). 10.1002/adma.200900375
-
(2009)
Adv. Mater.
, vol.21
, pp. 2632
-
-
Waser, R.1
Dittmann, R.2
Staikov, G.3
Szot, K.4
-
2
-
-
34250327548
-
-
ESLEF6 1099-0062,. 10.1149/1.2742989
-
D. S. Jeong, H. Schroeder, and R. Waser, Electrochem. Solid-State Lett. ESLEF6 1099-0062 10, G51 (2007). 10.1149/1.2742989
-
(2007)
Electrochem. Solid-State Lett.
, vol.10
, pp. 51
-
-
Jeong, D.S.1
Schroeder, H.2
Waser, R.3
-
3
-
-
85135532425
-
-
NNOTER 0957-4484,. 10.1088/0957-4484/21/30/305203
-
K. M. Kim, G. H. Kim, S. J. Song, J. Y. Seok, M. H. Lee, J. H. Yoon, and C. S. Hwang, Nanotechnology NNOTER 0957-4484 21, 305203 (2010). 10.1088/0957-4484/21/30/305203
-
(2010)
Nanotechnology
, vol.21
, pp. 305203
-
-
Kim, K.M.1
Kim, G.H.2
Song, S.J.3
Seok, J.Y.4
Lee, M.H.5
Yoon, J.H.6
Hwang, C.S.7
-
4
-
-
77951572497
-
-
APPLAB 0003-6951,. 10.1063/1.3400222
-
M. H. Lee, K. M. Kim, G. H. Kim, J. Y. Seok, S. J. Song, J. H. Yoon, and C. S. Hwang, Appl. Phys. Lett. APPLAB 0003-6951 96, 152909 (2010). 10.1063/1.3400222
-
(2010)
Appl. Phys. Lett.
, vol.96
, pp. 152909
-
-
Lee, M.H.1
Kim, K.M.2
Kim, G.H.3
Seok, J.Y.4
Song, S.J.5
Yoon, J.H.6
Hwang, C.S.7
-
5
-
-
76649133422
-
-
NNAABX 1748-3387,. 10.1038/nnano.2009.456
-
D. -H. Kwon, K. M. Kim, J. H. Jang, J. M. Jeon, M. H. Lee, G. H. Kim, X. -S. Li, G. -S. Park, B. Lee, S. Han, M. Kim, and C. S. Hwang, Nat. Nanotechnol. NNAABX 1748-3387 5, 148 (2010). 10.1038/nnano.2009.456
-
(2010)
Nat. Nanotechnol.
, vol.5
, pp. 148
-
-
Kwon, D.-H.1
Kim, K.M.2
Jang, J.H.3
Jeon, J.M.4
Lee, M.H.5
Kim, G.H.6
Li, X.-S.7
Park, G.-S.8
Lee, B.9
Han, S.10
Kim, M.11
Hwang, C.S.12
-
6
-
-
23944447615
-
-
JAPIAU 0021-8979,. 10.1063/1.2001146
-
B. J. Choi, D. S. Jeong, S. K. Kim, S. Choi, J. H. Oh, C. Rohde, H. J. Kim, C. S. Hwang, K. Szot, R. Waser, B. Reichenberg, and S. Tiedke, J. Appl. Phys. JAPIAU 0021-8979 98, 033715 (2005). 10.1063/1.2001146
-
(2005)
J. Appl. Phys.
, vol.98
, pp. 033715
-
-
Choi, B.J.1
Jeong, D.S.2
Kim, S.K.3
Choi, S.4
Oh, J.H.5
Rohde, C.6
Kim, H.J.7
Hwang, C.S.8
Szot, K.9
Waser, R.10
Reichenberg, B.11
Tiedke, S.12
-
7
-
-
36048964246
-
-
APPLAB 0003-6951,. 10.1063/1.2749846
-
K. M. Kim, B. J. Choi, Y. C. Shin, S. Choi, and C. S. Hwang, Appl. Phys. Lett. APPLAB 0003-6951 91, 012907 (2007). 10.1063/1.2749846
-
(2007)
Appl. Phys. Lett.
, vol.91
, pp. 012907
-
-
Kim, K.M.1
Choi, B.J.2
Shin, Y.C.3
Choi, S.4
Hwang, C.S.5
-
8
-
-
49649132094
-
-
PSSTAW 0079-6786,. 10.1016/0079-6786(72)90008-8
-
L. A. Bursill and B. G. Hyde, Prog. Solid State Chem. PSSTAW 0079-6786 7, 177 (1972). 10.1016/0079-6786(72)90008-8
-
(1972)
Prog. Solid State Chem.
, vol.7
, pp. 177
-
-
Bursill, L.A.1
Hyde, B.G.2
-
9
-
-
77957585627
-
-
ADVMEW 0935-9648,. 10.1002/adma.201000663
-
J. J. Yang, J. P. Strachan, Q. Xia, D. A. A. Ohlberg, P. J. Kuekes, R. D. Kelley, W. F. Stickle, D. R. Stewart, G. Meeiros-Ribeiro, and R. S. Williams, Adv. Mater. ADVMEW 0935-9648 22, 4034 (2010). 10.1002/adma.201000663
-
(2010)
Adv. Mater.
, vol.22
, pp. 4034
-
-
Yang, J.J.1
Strachan, J.P.2
Xia, Q.3
Ohlberg, D.A.A.4
Kuekes, P.J.5
Kelley, R.D.6
Stickle, W.F.7
Stewart, D.R.8
Meeiros-Ribeiro, G.9
Williams, R.S.10
-
10
-
-
78049340534
-
-
ANCAC3 1936-0851,. 10.1021/nn1017582
-
Q. Liu, S. Long, S. Lv, W. Wang, J. Niu, Z. Huo, J. Chen, and M. Liu, ACS Nano ANCAC3 1936-0851 4, 6162 (2010). 10.1021/nn1017582
-
(2010)
ACS Nano
, vol.4
, pp. 6162
-
-
Liu, Q.1
Long, S.2
Lv, S.3
Wang, W.4
Niu, J.5
Huo, Z.6
Chen, J.7
Liu, M.8
-
11
-
-
10044271096
-
-
APPLAB 0003-6951,. 10.1063/1.1812832
-
S. K. Kim, K. M. Kim, W. D. Kim, C. S. Hwang, and J. H. Jeong, Appl. Phys. Lett. APPLAB 0003-6951 85, 4112 (2004). 10.1063/1.1812832
-
(2004)
Appl. Phys. Lett.
, vol.85
, pp. 4112
-
-
Kim, S.K.1
Kim, K.M.2
Kim, W.D.3
Hwang, C.S.4
Jeong, J.H.5
-
12
-
-
77951972779
-
-
CMATEX 0897-4756,. 10.1021/cm100057y
-
S. K. Kim, J. H. Han, G. H. Kim, and C. S. Hwang, Chem. Mater. CMATEX 0897-4756 22, 2850 (2010). 10.1021/cm100057y
-
(2010)
Chem. Mater.
, vol.22
, pp. 2850
-
-
Kim, S.K.1
Han, J.H.2
Kim, G.H.3
Hwang, C.S.4
-
13
-
-
68249108599
-
-
APPLAB 0003-6951,. 10.1063/1.3193656
-
W. -Y. Chang, K. -J. Chen, J. -M. Tsai, H. -J. Chen, F. Chen, M. -J. Tsai, and T. -B. Wu, Appl. Phys. Lett. APPLAB 0003-6951 95, 042104 (2009). 10.1063/1.3193656
-
(2009)
Appl. Phys. Lett.
, vol.95
, pp. 042104
-
-
Chang, W.-Y.1
Chen, K.-J.2
Tsai, J.-M.3
Chen, H.-J.4
Chen, F.5
Tsai, M.-J.6
Wu, T.-B.7
|