Reactions of plasma-polymerised pentafluorophenyl methacrylate with simple amines

Plasma Processes and Polymers

Volumn 7, Issue 11, 2010, Pages 915-925

  Duque, Luis ^a   Queralto, Nuria ^a   Francesch, Laia ^a,b,c   Bumbu, Gina Gabriela ^a,c   Borros, Salvador ^b   Berger, Rüdiger ^a   Förch, Renate ^a  

^a MAX PLANCK INSTITUTE FOR POLYMER RESEARCH   (Germany)

^b INSTITUT QUÍMIC DE SARRIÀ   (Spain)

^c Fundació Privada CETEMMSA ^*  (Spain)

Author keywords

amines; interfacial stress; microcantilever sensors; pentafluorophenyl methacrylate; pulsed plasma polymerisation; reactivity

Indexed keywords

INTERFACIAL STRESS; MICRO CANTILEVER SENSORS; PENTAFLUOROPHENYL METHACRYLATE; PULSED PLASMA; REACTIVITY;

AMINATION; AMINES; COMPOSITE MICROMECHANICS; ESTERS; PHASE INTERFACES; PLASMA POLYMERIZATION; PLASMAS; PLASTIC FILMS; POLYMER FILMS; POLYMERS; SCANNING TUNNELING MICROSCOPY; SENSORS; SURFACE PROPERTIES;

SURFACE REACTIONS;

EID: 78649536011     PISSN: 16128850     EISSN: 16128869     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/ppap.201000058     Document Type: Article

References (54)

1. K. S. Siow, L. Britcher, S. Kumar, H. J. Griesser, Plasma Process. Polym. 2006, 3, 392.
2. R. Forch, A. N. Chifen, A. Bousquet, H. L. Khor, M. Jungblut, L. Q. Chu, Z. Zhang, I. Osey-Mensah, E. K. Sinner, W. Knoll, Chem. Vapor Depos. 2007, 13, 280.
3. P. Favia, R. d'Agostino, Vide Sci. Tech. Appl. 2002, 57, 40.
4. M. R. Alexander, T. M. Duc, J. Mater. Chem. 1998, 8, 937.
5. F. Fally, C. Doneux, J. Riga, J. J. Verbist, J. Appl. Polym. Sci. 1995, 56, 597.
6. H. Yasuda, T. Hsu, J. Polym. Sci. Part A: Polym. Chem. 1977, 15, 81.
7. H. Yasuda, " Plasma Polymerization ", Academic Press, Inc, New York 1985.
8. M. E. Ryan, A. M. Hynes, J. P. S. Badyal, Chem. Mater. 1996, 8, 37.
9. C. R. Savage, R. B. Timmons, J. W. Lin, Chem. Mater. 1991, 3, 575.
10. C. L. Rinsch, X. Chen, V. Panchalingam, C. R. Savage, Y. H. Wang, R. C. Eberhart, R. B. Timmons, Am. Chem. Soc. 1995, 209 141-POLY
11. I. P. S. G. Llewellyn, R. A. Heinecke, Proc. SPIE Int. Soc. Opt. Eng. 1990, 1148, 84.
12. H. Schonherr, M. T. van Os, R. Foerch, R. B. Timmons, W. Knoll, G. J. Vancso, Chem. Mater. 2000, 12, 3689.
13. S. Kurosawa, T. Hirokawa, K. Kashima, H. Aizawa, J. W. Park, M. Tozuka, Y. Yoshimi, K. Hirano, J. Photopolym. Sci. Technol. 2002, 15, 323.
14. Z. Zhang, W. Knoll, R. Foerch, R. Holcomb, D. Roitman, Macromolecules 2005, 38, 1271.
15. A. Choukourov, H. Biederman, D. Slavinska, L. Hanley, A. Grinevich, H. Boldyryeva, A. Mackova, J. Phys. Chem. B 2005, 109, 23086.
16. L. Otoole, A. J. Beck, R. D. Short, Macromolecules 1996, 29, 5172.
17. R. Daw, S. Candan, A. J. Beck, A. J. Devlin, I. M. Brook, S. MacNeil, R. A. Dawson, R. D. Short, Biomaterials 1998, 19, 1717.
18. M. Mattioli-Belmonte, G. Lucarini, L. Virgili, G. Biagini, L. Detomaso, P. Favia, R. D'Agostino, R. Gristina, A. Gigante, C. Bevilacqua, J. Bioact. Compat. Polym. 2005, 20, 343.
19. J. M. Kelly, A. M. Scutt, R. D. Short, I. M. Brook, J. Dent. Res. 2000, 79, 1184.
20. A. N. Chifen, R. Forch, W. Knoll, P. J. Cameron, H. L. Khor, T. L. Williams, A. T. A. Jenkins, Langmuir 2007, 23, 6294.
21. A. T. A. Jenkins, J. Hu, Y. Z. Wang, S. Schiller, R. Foerch, W. Knoll, Langmuir 2000, 16, 6381.
22. L. Francesch, S. Borros, W. Knoll, R. Forch, Langmuir 2007, 23, 3927.
23. L. Francesch, E. Garreta, M. Balcells, E. R. Edelman, S. Borros, Plasma Process. Polym. 2005, 2, 605.
24. L. A. Pinnaduwage, T. Thundat, J. E. Hawk, D. L. Hedden, P. F. Britt, E. J. Houser, S. Stepnowski, R. A. McGillb, D. Bubb, Sens. Actuators B 2004, 99, 223.
25. R. Raiteri, M. Grattarola, H.-J. Butt, P. Skladal, Sens. Actuators B 2001, 79, 115.
26. J. Fritz, M. K. Baller, H. P. Lang, H. Rothuizen, P. Vettiger, E. Meyer, H.-J. Guntherodt, C. Gerber, J. K. Gimzewski, Science 2000, 288, 316.
27. G.-H. Wu, H. F. Ji, K. Hansen, T. Thundat, R. Datar, R. Cote, M. F. Hagan, A. K. Chakraborty, A. Majumdar, Proc. Natl Acad. Sci. U. S. A. 2001, 98, 1560.
28. M. K. Baller, H. P. Lang, J. Fritz, C. Gerber, J. K. Gimzewski, U. Drechsler, H. Rothuizen, M. Despont, P. Vettiger, F. M. Battiston, J. P. Ramseyer, P. Fornaro, E. Meyer, H. J. Guntherodt, Ultramicroscopy 2000, 82, 1.
29. H. Lang, M. Hegner, E. Meyer, C. Gerber, Nanotechnology 2002, 13, R29.
30. R. Berger, C. Gerber, J. K. Gimzewski, E. Meyer, H. J. Guntherodt, Appl. Phys. Lett. 1996, 69, 40.
31. M. Toda, Y. Joseph, R. Berger, J. Phys. Chem. C 2010, 114, 2012.
32. R. Berger, H. P. Lang, C. Gerber, J. K. Gimzewski, J. H. Fabian, L. Scandella, E. Meyer, H. J. Guntherodt, Chem. Phys. Lett. 1998, 294, 363.
33. S. Igarashi, A. N. Itakura, M. Toda, M. Kitajima, L. Chu, A. N. Chifene, R. Forch, R. Berger, Sens. Actuators B 2006, 117, 43.
34. S. Igarashi, A. N. Itakura, M. Kitajima, A. N. Chifen, R. Forch, R. Berger, Appl. Phys. Lett. 2006, 88, 143119.
35. A. Kooser, R. L. Gunter, W. D. Delinger, T. L. Porter, M. P. Eastman, Sens. Actuators B 2004, 99, 474.
36. G. G. Bumbu, G. Kircher, M. Wolkenhauer, R. Berger, J. S. Gutmann, Macromol. Chem. Phys. 2004, 205, 1713.
37. G. G. Bumbu, M. Wolkenhauer, G. Kircher, J. S. Gutmann, R. Berger, Langmuir 2007, 23, 2203.
38. M. Toda, A. N. Itakura, S. Igarashi, K. Buscher, J. S. Gutmann, K. Graf, R. Berger, Langmuir 2008, 24, 3191.
39. N. Queralto, G. G. Bumbu, L. Francesch, W. Knoll, S. Borros, R. Berger, R. Förch, Plasma Process. Polym. 2007, 4, S790.
40. R. Advincula, A. Baba, C. J. Xia, W. Knoll, Am. Chem. Soc. 2002, 223, 004-ANYL
41. R. Forch, Z. H. Zhang, W. Knoll, Plasma Process. Polym. 2005, 2, 351.
42. E. F. Aust, S. Ito, M. Sawodny, W. Knoll, Trends Polym. Sci. 1994, 2, 313.
43. W. Knoll, " Guided Wave Optics for the Characterisation of Polymeric Thin Films and Interfaces ", in: " Handbook of Optical Properties ", Vol. II, R. E. Hummel, P. Wißmann, Eds., CRC Press, London, New York, Tokyo 1997, p. 373.
44. W. Knoll, " Optics of Small Particles, Interfaces and Surfaces ", in: " Handbook of Optical Properties ", Vol. II, R. E. Hummel, P. Wißmann, Eds., CRC Press, Boca Raton, New York, London, Tokyo 1997, p. 373.
45. V. Barranco, J. Carpentier, G. Grundmeier, Electrochim. Acta 2004, 49, 1999.
46. M. Haiedopoulos, F. Mirabella, M. Horgnies, C. Volcke, P. A. Thiry, P. Rouxhet, J. J. Pireaux, J. Microsc. Oxford 2007, 228, 227.
47. J. J. Hu, Y. Zong, Y. Z. Wang, R. Forch, W. Knoll, Thin Solid Films 2005, 472, 58.
48. W.-H. Chu, M. Mehregany, R. L. Mullen, J. Micromech. Microeng. 1993, 3, 4.
49. V. L. Spiering, S. Bouwstra, R. Spiering, Sens. Actuators 1993, A39, 149.
50. K. E. Petersen, Proc. IEEE 1982, 70, 420.
51. F. Ericson, Mater. Sci. Eng. 1988, A105/106, 131.
52. C. Serrea, P. Gorostiza, A. Pérez-Rodríguez, F. Sanz, J. R. Morante, Sens. Actuators A 1998, 67, 215.
53. K. Harris, R. Cuypers, P. Scheibe, C. L. Van Oosten, C. W. M. Bastiaansen, J. Lub, D. J. Broer, J. Mater. Chem. 2005, 15, 5043.
54. L. H. Van Vlack, " Materials for Engineering ", Addison-Wesley Publishing Company, Reading, MA 1982, p. 588.