Understanding structure-property relationship of resistive switching oxide thin films using a conical filament model

Applied Physics Letters

Volumn 97, Issue 16, 2010, Pages

  Kim, Kyung Min ^a   Lee, Min Hwan ^a   Kim, Gun Hwan ^a   Song, Seul Ji ^a   Seok, Jun Yeong ^a   Yoon, Jung Ho ^a   Hwang, Cheol Seong ^a  

^a Seoul National University   (South Korea)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

CONICAL FILAMENTS; OXIDE THIN FILMS; RESET CURRENTS; RESISTIVE SWITCHING; ROOM TEMPERATURE; STRUCTURE PROPERTY RELATIONSHIPS; SWITCHING MECHANISM; THIRD HARMONIC; TIO;

MATERIALS PROPERTIES; OXIDE FILMS;

FILAMENTS (LAMP);

EID: 77958463591     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.3505354     Document Type: Article

References (16)

1. A. Beck, J. G. Bednorz, Ch. Gerber, C. Rossel, and D. Widmer, Appl. Phys. Lett. 0003-6951 77, 139 (2000). 10.1063/1.126902
2. B. J. Choi, D. S. Jeong, S. K. Kim, S. Choi, J. H. Oh, C. Rohde, H. J. Kim, C. S. Hwang, K. Szot, R. Waser, B. Reichenberg, and S. Tiedke, J. Appl. Phys. 0021-8979 98, 033715 (2005). 10.1063/1.2001146
3. S. Seo, M. J. Lee, D. H. Seo, E. J. Jeoung, D. -S. Suh, Y. S. Joung, I. K. Yoo, I. R. Hwang, S. H. Kim, I. S. Byun, J. -S. Kim, J. S. Choi, and B. H. Park, Appl. Phys. Lett. 0003-6951 85, 5655 (2004). 10.1063/1.1831560
4. R. Waser, R. Dittmann, G. Staikov, and K. Szot, Adv. Mater. (Weinheim, Ger.) 0935-9648 21, 2632 (2009). 10.1002/adma.200900375
5. D. -H. Kwon, K. M. Kim, J. H. Jang, J. M. Jeon, M. H. Lee, G. H. Kim, X. -S. Li, G. -S. Park, B. Lee, S. Han, M. Kim, and C. S. Hwang, Nat. Nanotechnol. 1748-3387 5, 148 (2010). 10.1038/nnano.2009.456
6. J. P. Strachan, M. D. Pickett, J. J. Yang, S. Aloni, A. L. D. Kilcoyne, G. Medeiros-Ribeiro, and R. S. Williams, Adv. Mater. (Weinheim, Ger.) 0935-9648 22, 3573 (2010). 10.1002/adma.201000186
7. K. M. Kim and C. S. Hwang, Appl. Phys. Lett. 0003-6951 94, 122109 (2009). 10.1063/1.3108088
8. K. M. Kim, B. J. Choi, Y. C. Shin, S. Choi, and C. S. Hwang, Appl. Phys. Lett. 0003-6951 91, 012907 (2007). 10.1063/1.2749846
9. S. C. Chae, J. S. Lee, S. Kim, S. B. Lee, S. H. Chang, C. Liu, B. Kahng, H. Shin, D. -W. Kim, C. U. Jung, S. Seo, M. -J. Lee, and T. W. Noh, Adv. Mater. (Weinheim, Ger.) 0935-9648 20, 1154 (2008). 10.1002/adma.200702024
10. G. -S. Park, X. -S. Li, D. -C. Kim, R. -J. Jung, M. -J. Lee, and S. Seo, Appl. Phys. Lett. 0003-6951 91, 222103 (2007). 10.1063/1.2813617
11. C. Park, S. H. Jeon, S. C. Chae, S. Han, B. H. Park, S. Seo, and D. -W. Kim, Appl. Phys. Lett. 0003-6951 93, 042102 (2008). 10.1063/1.2963983
12. S. B. Lee, S. C. Chae, S. H. Chang, and T. W. Noh, Appl. Phys. Lett. 0003-6951 94, 173504 (2009). 10.1063/1.3126019
13. C. Rohde, B. J. Choi, D. S. Jeong, S. Choi, J. -S. Zhao, and C. S. Hwang, Appl. Phys. Lett. 0003-6951 86, 262907 (2005). 10.1063/1.1968416
14. S. B. Lee, S. Park, J. S. Lee, S. C. Chae, S. H. Chang, M. H. Jung, Y. Jo, B. Kahng, B. S. Kang, M. -J. Lee, and T. W. Noh, Appl. Phys. Lett. 0003-6951 95, 122112 (2009). 10.1063/1.3237167
15. U. Russo, D. Ielmini, C. Cagli, A. L. Lacaita, S. Spiga, C. Wiemer, M. Perego, and M. Fanciulli, Tech. Dig.-Int. Electron Devices Meet. 0163-1918 2007, 775.
16. S. B. Lee, S. C. Chae, S. H. Chang, J. S. Lee, S. Seo, B. Kahng, and T. W. Noh, Appl. Phys. Lett. 0003-6951 93, 212105 (2008). 10.1063/1.3036532