Synthesis of a closely packed carbon nanotube forest by a multi-step growth method using plasma-based chemical vapor deposition

Applied Physics Express

Volumn 3, Issue 5, 2010, Pages

  Yamazaki, Yuichi ^a   Katagiri, Masayuki ^a   Sakuma, Naoshi ^a   Suzuki, Mariko ^a   Sato, Shintaro ^a,b   Nihei, Mizuhisa ^a,b   Wada, Makoto ^a   Matsunaga, Noriaki ^a   Sakai, Tadashi ^a   Awano, Yuji ^a,b  

^a TOSHIBA CORPORATION   (Japan)

^b SEMICONDUCTOR LEADING EDGE TECHNOLOGIES INC   (Japan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

AS-GROWN; CATALYTIC NANOPARTICLE; CONVENTIONAL METHODS; GROWTH METHOD; MULTI-STEP; NEW APPROACHES; ORDER OF MAGNITUDE; PACKING DENSITY; RESTRICTED REGIONS; THEORETICAL VALUES; VIA HOLE;

CARBON NANOTUBES; CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; PLASMA DEPOSITION; SYNTHESIS (CHEMICAL);

MULTIWALLED CARBON NANOTUBES (MWCN);

EID: 77952758637     PISSN: 18820778     EISSN: 18820786     Source Type: Journal    
DOI: 10.1143/APEX.3.055002     Document Type: Article

References (25)

1. S. J. Tans, A. R. M. Verschueren, and C. Dekker: Nature 393 (1998) 49.
2. J. Kong, N. R. Franklin, C. Zhou, M. G. Chapline, S. Peng, K. Cho, and H. Dai: Science 287 (2000) 622.
3. Y. Saito and S. Uemura: Carbon 38 (2000) 169.
4. J. A. Misewich, R. Martel, Ph. Avouris, J. C. Tsang, S. Heinze, and J. Tersoff: Science 300 (2003) 783.
5. J. Li, Q. Ye, A. Cassell, H. T. Ng, R. Stevens, J. Han, and M. Meyyappan: Appl. Phys. Lett. 82 (2003) 2491.
6. Y. Xu, Y. Zhang, E. Suhir, and X. Wang: J. Appl. Phys. 100 (2006) 074302.
7. W. Z. Li, D. Z. Wang, S. X. Yang, J. G. Wen, and Z. F. Ren: Chem. Phys. Lett. 335 (2001) 141.
8. T. Yamada, T. Namai, K. Hata, D. N. Futaba, K. Mizuno, J. Fan, M. Yudasaka, M. Yumura, and S. Iijima: Nat. Nanotechnol. 1 (2006) 131.
9. M. Ishida, H. Hongo, F. Nihey, and Y. Ochiai: Jpn. J. Appl. Phys. 43 (2004) L1356.
10. G. Zhong, T. Iwasaki, K. Honda, Y. Furukawa, I. Ohdomari, and H. Kawarada: Jpn. J. Appl. Phys. 44 (2005) 1558.
11. D. N. Futaba, K. Hata, T. Yamada, T. Hiraoka, Y. Hayamizu, Y. Kakudate, O. Tanaike, H. Hatori, M. Yumura, and S. Iijima: Nat. Mater. 5 (2006) 987.
12. H. Hongo, F. Nihey, T. Ichihashi, Y. Ochiai, M. Yudasaka, and S. Iijima: Chem. Phys. Lett. 380 (2003) 158.
13. H. Ohno, D. Takagi, K. Yamada, S. Chiashi, A. Tokura, and Y. Homma: Jpn. J. Appl. Phys. 47 (2008) 1956.
14. Y. Yamazaki, N. Sakuma, M. Katagiri, M. Suzuki, T. Sakai, S. Sato, M. Nihei, and Y. Awano: Appl. Phys. Express 1 (2008) 034004.
15. M. Cantoro, S. Hofmann, S. Pisana, V. Scardaci, A. Parvez, C. Ducati, A. C. Ferrari, A. M. Blackburn, K. Y. Wang, and J. Robertson: Nano Lett. 6 (2006) 1107.
16. S. Hoffmann, M. Cantoro, B. Kleinsorge, C. Casiraghi, A. Parvez, J. Robertson, and C. Ducati: J. Appl. Phys. 98 (2005) 034308.
17. J. H. Choi, T. Y. Lee, S. H. Choi, J. H. Han, J. B. Yoo, C. Y. Park, T. Jung, S. Yu, W. Yi, I. T. Han, and J. M. Kim: Thin Solid Films 435 (2003) 318.
18. H. C. Wen, K. Yang, K. L. Ou, W. F. Wu, R. C. Luo, and C. P. Chou: Microelectron. Eng. 82 (2005) 221.
19. C. Bower, O. Zhou, W. Zhu, D. J. Werder, and S. Jin: Appl. Phys. Lett. 77 (2000) 2767.
20. Y. C. Choi, Y. M. Shin, Y. H. Lee, B. S. Lee, G. S. Park, W. B. Choi, N. S. Lee, and J. M. Kim: Appl. Phys. Lett. 76 (2000) 2367.
21. W. E. Alvarez, B. Kitiyanan, A. Borgna, and D. E. Resasco: Carbon 39 (2001) 547.
22. A. Okita, A. Ozeki, Y. Suda, J. Nakamura, A. Oda, K. Bhattacharyya, H. Sugawara, and Y. Sakai: Jpn. J. Appl. Phys. 45 (2006) 8323.
23. S. Hofmann, G. Csányi, A. C. Ferrari, M. C. Payne, and J. Robertson: Phys. Rev. Lett. 95 (2005) 036101.
24. G. F. Zhong, T. Iwasaki, and H. Kawarada: Carbon 44 (2006) 2009.
25. M. Yu, H. H. Funke, J. L. Falconer, and R. D. Noble: Nano Lett. 9 (2009) 225.