Role of thin Fe catalyst in the synthesis of double- And single-wall carbon nanotubes via microwave chemical vapor deposition

Applied Physics Letters

Volumn 85, Issue 13, 2004, Pages 2601-2603

  Wang, Y Y ^a   Gupta, S ^a   Nemanich, R J ^a  

^a NORTH CAROLINA STATE UNIVERSITY   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

DEPOSITION TEMPERATURE; MICROWAVE PLASMA CHEMICAL VAPOR DEPOSITION (MPCVD); SEMICONDUCTOR NANOTUBES; SINGLE WALL CARBON NANOTUBE (SWCNT);

ACETYLENE; DIFFUSION; GRAPHITIZATION; IRON; MATHEMATICAL MODELS; MICROSTRUCTURE; NUCLEATION; OXIDATION; PLASMA ENHANCED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; PRECIPITATION (CHEMICAL); RAMAN SPECTROSCOPY; REDUCTION; SILICON WAFERS; SYNTHESIS (CHEMICAL); THIN FILMS; TRANSMISSION ELECTRON MICROSCOPY;

CARBON NANOTUBES;

EID: 7544247163     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1796529     Document Type: Article

References (19)

1. S. Huang, A. W. H. Mau, T. W. Turney, P. A. Whit, and L. Dai, J. Phys. Chem. B 104, 2193 (2000).
2. M. Meyyappan, L. Delzeit, A. Cassell, and D. Hash, Plasma Sources Sci. Technol. 12, 205 (2003).
3. J. H. Hafner, C. L. Cheung, T. H. Oosterkamp, and C. M. Lieber, J. Phys. Chem. B 105, 743 (2001); L. C. Qin, D. Zhou, A. R. Krauss, and D. M. Gruen, Appl. Phys. Lett. 72, 3437 (1998).
4. J. H. Hafner, C. L. Cheung, T. H. Oosterkamp, and C. M. Lieber, J. Phys. Chem. B 105, 743 (2001); L. C. Qin, D. Zhou, A. R. Krauss, and D. M. Gruen, Appl. Phys. Lett. 72, 3437 (1998).
5. C. Bower, O. Zhou, W. Zhu, D. J. Werder, and S. Jin, Appl. Phys. Lett. 77, 2767 (2000).
6. J. R. Petherbridge, P. W. May, G. M. Fuge, K. N. Rosser, and N. M. R. Ashfold, Diamond Relat. Mater. 11, 301 (2002), and references therein.
7. M. Chhowalla, K. B. K. Teo, C. Ducati, N. L. Rupesinghe, G. A. J. Amaratunga, A. C. Ferrari, D. Roy, J. Robertson, and W. I. Milne, J. Appl. Phys. 90, 5308 (2001), and references therein.
8. L. Valentini, J. M. Kenny, L. Lozzi, and S. Santucci, J. Appl. Phys. 92, 6188 (2002), and references therein.
9. R. G. Lacerda, A. S. Teh, M. H. Yang, K. B. K. Teo, N. L. Rupesinghe, S. H. Dalal, K. K. K. Koziol, D. Roy, G. A. J. Amaratunga, W. I. Milne, M. Chhowalla, D. G. Hasko, F. Wyczisk, and P. Legagneux, Appl. Phys. Lett. 84, 269 (2004).
10. Y. J. Yoon, J. C. Bae, H. K. Baik, S. J. Cho, S. J. Lee, K. M. Song, and N. S. Myung, Phys. Plasmas 323, 318 (2002); H. B. Peng, T. G. Ristroph, G. M. Schurmann, G. M. King, J. Yoon, V. Narayanamurthi, and J. A. Golovchenko, Appl. Phys. Lett. 83, 4238 (2003).
11. Y. J. Yoon, J. C. Bae, H. K. Baik, S. J. Cho, S. J. Lee, K. M. Song, and N. S. Myung, Phys. Plasmas 323, 318 (2002); H. B. Peng, T. G. Ristroph, G. M. Schurmann, G. M. King, J. Yoon, V. Narayanamurthi, and J. A. Golovchenko, Appl. Phys. Lett. 83, 4238 (2003).
12. F. A. M. Köck, J. M. Garguillo, R. J. Nemanich, S. Gupta, B. R. Weiner, and G. Morell, Diamond Relat. Mater. 12, 474 (2003).
13. W. Kim, H. C. Choi, M. Shim, Y. Li, D. Wang, and H. Dai, Nano Lett. 2, 703 (2002).
14. C. Bower, W. Zhu, S. Jin, and O. Zhou, Appl. Phys. Lett. 77, 830 (2000).
15. Y. Y. Wang, F. A. M. Kock, J. M. Garguilo, and R. J. Nemanich, Diamond Relat. Mater. 13, 1287 (2004).
16. A. M. Rao, E. Richter, S. Bandow, B. Chase, P. C. Eklund, K. A. Williams, S. Fang, K. R. Subbaswamy, M. Menon, A. Thess, and R. E. Smalley, Science 275, 187 (1997).
17. S. Bandow, G. Chen, G. Sumanasekera, R. Gupta, M. Yudasaka, S. Iijima, and P. C. Ecklund, Phys. Rev. B 66, 075416 (2002).
18. R. S. Wagner and W. C. Ellis, Appl. Phys. Lett. 4, 89 (1964).
19. A. Maid, C. J. Brabec, and J. Bernholc, Phys. Rev. B 55, R6097 (1997).