Formation of carbon nanotubes by plasma enhanced chemical vapor deposition: Role of nitrogen and catalyst layer thickness

Journal of Applied Physics

Volumn 92, Issue 10, 2002, Pages 6188-6194

  Valentini, L ^a   Kenny, J M ^a   Lozzi, L ^b   Santucci, S ^b  

^a UNIVERSITY OF PERUGIA   (Italy)

^b UNIVERSITY OF L'AQUILA   (Italy)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ALIGNED CNTS; CATALYST LAYER THICKNESS; GAS RATIO; GROWTH BEHAVIOR; MAXIMUM VALUES; NANOTUBE FORMATION; NI CATALYSTS; NITROGEN FRACTION; RADIO FREQUENCY PLASMA ENHANCED CHEMICAL VAPOR DEPOSITIONS; SUBSTRATE SURFACE; VALENCE BAND PHOTOEMISSION SPECTROSCOPIES;

AMORPHOUS CARBON; CARBON NANOTUBES; CATALYSTS; CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; ELECTRONIC STRUCTURE; GRAPHENE; MECHANICAL PROPERTIES; METHANE; NITROGEN PLASMA; PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY; PLASMA ENHANCED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; SCANNING ELECTRON MICROSCOPY; VAPORS;

NITROGEN;

EID: 0037112979     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1515126     Document Type: Article

References (34)

1. R. H. Baughman, C. X. Cui, A. A. Zakhidov, Z. Iqbal, J. N. Barisci, G. M. Spinks, G. G. Wallace, A. Mazzoldi, D. De Rossi, A. G. Rinzier, O. Jaschinski, S. Roth and V. Kertesz, Science 284, 1340 (1999). sci SCIEAS 0036-8075
2. A. C. Dillon, K. M. Jones, T. A. Bekkedahl, C. H. Kiang, D. S. Bethune, M. J. Heben, Nature (London) 386, 377 (1997). nat NATUAS 0028-0836
3. B. Gao, A. Kleinhammes, X. P. Tang, C. Bower, L. Fleming, Y. Wu, O. Zhou, Chem. Phys. Lett. 307, 153 (1999). cph CHPLBC 0009-2614
4. C. M. Niu, E. K. Sichel, R. Hoch, D. Moy, H. Tennent, Appl. Phys. Lett. 70, 1480 (1997). apl APPLAB 0003-6951
5. J. N. Barisci, G. G. Wallace, R. H. Baughman, J. Electroanal. Chem. 488, 92 (2000). jea JECHES 0022-0728
6. E. Frackowiak, K. Metenier, V. Bertagna, F. Beguin, Appl. Phys. Lett. 77, 2421 (2000). apl APPLAB 0003-6951
7. S. Ijima, Nature (London) 354, 56 (1991). nat NATUAS 0028-0836
8. S. Ijima and T. Ichihashi, Nature (London) 363, 603 (1993). nat NATUAS 0028-0836
9. C. Joumet, W. K. Maser, P. Bemier, A. Loiseau, M. L. delaChappelle, S. Lefrant, P. Deniard, R. Lee and J. E. Fischer, Nature (London) 388, 756 (1997). nat NATUAS 0028-0836
10. A. Thess, R. Lee, P. Nikolaev, H. J. Dai, P. Petit, J. Robert, C. H. Xu, Y. H. Iee, S. G. Kirn, A. G. Rinzier, D. T. Colbert, G. E. Scuseria, D. Tomanek, J. E. Fischer, R. E. Smalley, Science 273, 483 (1996). sci SCIEAS 0036-8075
11. C. Joumet and P. Bemier, Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 67, 1 (1998). mfc APAMFC 0947-8396
12. A. M. Cassell, J. A. Raymakers, J. Kong, H. J. Dai, J. Phys. Chem. 103, 6484 (1999). jch JPCHAX 0022-3654
13. W. Z. Li, S. S. Xie, L. X. Qian, B. H. Chang, B. S. Zou, W. Y. Zhou, R. A. Zhao, G. Wang, Science 274, 1701 (1996). sci SCIEAS 0036-8075
14. Z. F. Ren, Z. P. Huang, J. W. Xu, J. H. Wang, P. Bush, M. P. Siegal, P. N. Provencio, Science 282, 1105 (1998). sci SCIEAS 0036-8075
15. M. Chhowalla, K. B. K. Teo, C. Ducati, N. L. Rupesinghe, G. A. J. Amaratunga, A. C. Ferrari, D. Roy, J. Robertson, W. I. Milne, J. Appl. Phys. 90, 5308 (2001). jap JAPIAU 0021-8979
16. S. S. Fan, M. G. Chapline, N. R. Franklin, T. W. Tombler, A. M. Cassell, H. J. Dai, Science 283, 512 (1999). sci SCIEAS 0036-8075
17. C. Bower, O. Zhou, W. Zhu, D. J. Werder, S. Jin, Appl. Phys. Lett. 77, 2767 (2000). apl APPLAB 0003-6951
18. V. I. Merkulov, D. H. Lowndes, Y. Y. Wei, G. Eres, E. Voelkl, Appl. Phys. Lett. 76, 3555 (2000). apl APPLAB 0003-6951
19. R. Andrews, D. Jacques, A. M. Rao, F. Derbyshire, D. Qian, X. Fan, E. C. Dickey, J. Chen, Chem. Phys. Lett. 303, 467 (1999). cph CHPLBC 0009-2614
20. S. Suzuki, Y. Watanabe, T. Kiyokura, K. G. Nath, T. Ogino, S. Heun, W. Zhu, C. Bower, O. Zhou, Phys. Rev. B 63, 245418 (2001). prb PRBMDO 0163-1829
21. K. Umishita, Y. Ochiai, K. Iwasaki, S. Hino, Synth. Met. 121, 1159 (2001). sym SYMEDZ 0379-6779
22. W. C. Oliver and G. M. Pharr, J. Mater. Res. 10, 1564 (1992). jmr JMREEE 0884-2914
23. Y. Y. Wei, G. Eres, V. Merkulov, D. H. Lowndes, Appl. Phys. Lett. 78, 1394 (2001). apl APPLAB 0003-6951
24. M. Yudasaka, R. Kikuchi, Y. Ohki, E. Ota, S. Yoshimura, Appl. Phys. Lett. 70, 1817 (1997). apl APPLAB 0003-6951
25. M. Yudasaka, R. Kikuchi, Y. Ohki, E. Ota, S. Yoshimura, Appl. Phys. Lett. 67, 2477 (1995). apl APPLAB 0003-6951
26. M. A. Baker and P. Hammer, Surf. Interface Anal. 25, 629 (1997). sia SIANDQ 0142-2421
27. S. Souto, M. Pickhloz, M. C. dos Santos, F. Alvarez, Phys. Rev. B 57, 2536 (1998). prb PRBMDO 0163-1829
28. G. H. Wertheim and P. Citrin, in Photoemission in Solids I, edited by M. Cardona and L. Ley (Springer, Berlin, 1978).
29. H. Ago, T. Kugler, F. Cacialli, W. R. Salaneck, M. S. P. Shaffer, A. H. Windle, R. H. Friend, J. Phys. Chem. B 103, 8116 (1999). bfk JPCBFK 1089-5647
30. M. S. Dresselhaus and P. C. Eklund, Adv. Phys. 49, 705 (2000)
31. A. M. Rao, A. Jorio, M. A. Pimenta, M. S. Dantas, R. Saito, G. Dresselhaus, M. S. Dresselhaus, Phys. Rev. Lett. 84, 1820 (2000). prl PRLTAO 0031-9007
32. L. Valentini, J. M. Kenny, Y. Gerbig, H. Haefke, L. Lozzi, S. Santucci, Thin Solid Films 398, 124 (2001). tsf THSFAP 0040-6090
33. D. L. Caroll, P. Redlich, P. M. Ajayan, J. C. Charlier, X. Blasè, A. D. Vita, R. Car, Phys. Rev. Lett. 78, 2811 (1997). prl PRLTAO 0031-9007
34. P. Kim, T. W. Odom, J. Huang, C. M. Lieber, Phys. Rev. Lett. 82, 1225 (1999).