-
1
-
-
3242729293
-
-
R. Nötzel, T. Mano, Q. Gong, and J. H. Wolter, Proc. IEEE 91, 1898 (2003).
-
(2003)
Proc. IEEE
, vol.91
, pp. 1898
-
-
Nötzel, R.1
Mano, T.2
Gong, Q.3
Wolter, J.H.4
-
3
-
-
36449006681
-
-
M. Kitamura, M. Nishioka, J. Oshinowo, and Y. Arakawa, Appl. Phys. Lett. 66, 3663 (1995).
-
(1995)
Appl. Phys. Lett.
, vol.66
, pp. 3663
-
-
Kitamura, M.1
Nishioka, M.2
Oshinowo, J.3
Arakawa, Y.4
-
4
-
-
0032561378
-
-
G. Springhoz, V. Holy, M. Pinczolits, and G. Bauer, Science 282, 734 (1998).
-
(1998)
Science
, vol.282
, pp. 734
-
-
Springhoz, G.1
Holy, V.2
Pinczolits, M.3
Bauer, G.4
-
5
-
-
79955993622
-
-
T. Mano, R. Nötzel, G. J. Hamhuis, T. J. Eijkemans, and J. H. Wolter, Appl. Phys. Lett. 81, 1705 (2002).
-
(2002)
Appl. Phys. Lett.
, vol.81
, pp. 1705
-
-
Mano, T.1
Nötzel, R.2
Hamhuis, G.J.3
Eijkemans, T.J.4
Wolter, J.H.5
-
6
-
-
3242694425
-
-
T. v. Lippen, R. Nötzel, G. J. Hamhuis, and J. H. Wolter, Appl. Phys. Lett. 85, 118 (2004).
-
(2004)
Appl. Phys. Lett.
, vol.85
, pp. 118
-
-
T.Lippen, v.1
Nötzel, R.2
Hamhuis, G.J.3
Wolter, J.H.4
-
7
-
-
19944432394
-
-
T. Mano, R. Nötzel, D. Zhou, G. J. Hamhuis, T. J. Eijkemans, and J. H. Wolter, J. Appl. Phys. 97, 014304 (2005).
-
(2005)
J. Appl. Phys.
, vol.97
, pp. 014304
-
-
Mano, T.1
Nötzel, R.2
Zhou, D.3
Hamhuis, G.J.4
Eijkemans, T.J.5
Wolter, J.H.6
-
8
-
-
35548980396
-
-
P. M. Lytvyn, V. V. Strelchuk, O. F. Kolomys, I. V. Prokopenko, M. Ya. Valakh, Yu. I. Mazur, Z. M. Wang, G. J. Salamo, and M. Hanke, Appl. Phys. Lett. 91, 173118 (2007).
-
(2007)
Appl. Phys. Lett.
, vol.91
, pp. 173118
-
-
Lytvyn, P.M.1
Strelchuk, V.V.2
Kolomys, O.F.3
Prokopenko, I.V.4
Ya Valakh, M.5
Yu Mazur, I.6
Wang, Z.M.7
Salamo, G.J.8
Hanke, M.9
-
12
-
-
33745218526
-
-
J. S. Kim, M. S. Jeong, C. C. Byeon, D. K. Ko, J. Lee, J. S. Kim, and N. Koguchi, Appl. Phys. Lett. 88, 241911 (2006).
-
(2006)
Appl. Phys. Lett.
, vol.88
, pp. 241911
-
-
Kim, J.S.1
Jeong, M.S.2
Byeon, C.C.3
Ko, D.K.4
Lee, J.5
Kim, J.S.6
Koguchi, N.7
-
13
-
-
33748886720
-
-
Z. Y. AbuWaar, Z. M. Wang, J. H. Lee, and G. Salamo, Nanotechnology 17, 4037 (2006).
-
(2006)
Nanotechnology
, vol.17
, pp. 4037
-
-
AbuWaar, Z.Y.1
Wang, Z.M.2
Lee, J.H.3
Salamo, G.4
-
14
-
-
33947330294
-
-
T. Mano, T. Kuroda, K. Mitsuishi, M. Yamagiwa, X. J. Guo, K. Furuya, K. Sakoda, and N. Koguchi, J. Cryst. Growth 301/302, 740 (2007).
-
(2007)
J. Cryst. Growth
, vol.301-302
, pp. 740
-
-
Mano, T.1
Kuroda, T.2
Mitsuishi, K.3
Yamagiwa, M.4
Guo, X.J.5
Furuya, K.6
Sakoda, K.7
Koguchi, N.8
-
15
-
-
79956018073
-
-
M. Yoshita, H. Akiyama, L. N. Pfeiffer, and K. W. West, Appl. Phys. Lett. 81, 49 (2002).
-
(2002)
Appl. Phys. Lett.
, vol.81
, pp. 49
-
-
Yoshita, M.1
Akiyama, H.2
Pfeiffer, L.N.3
West, K.W.4
-
16
-
-
0346342974
-
-
A. Ishii, T. Aisaka, J. W. Oh, M. Yoshita, and H. Akiyama, Appl. Phys. Lett. 83, 4187 (2003).
-
(2003)
Appl. Phys. Lett.
, vol.83
, pp. 4187
-
-
Ishii, A.1
Aisaka, T.2
Oh, J.W.3
Yoshita, M.4
Akiyama, H.5
-
17
-
-
33750732008
-
-
T. Mano, T. Kuroda, M. Yamagiwa, G. Kido, K. Sakoda, and N. Koguchi, Appl. Phys. Lett. 89, 183102 (2006).
-
(2006)
Appl. Phys. Lett.
, vol.89
, pp. 183102
-
-
Mano, T.1
Kuroda, T.2
Yamagiwa, M.3
Kido, G.4
Sakoda, K.5
Koguchi, N.6
|