Microelectrode arrays and microfabricated devices in electrochemical stripping analysis

Current Analytical Chemistry

Volumn 4, Issue 3, 2008, Pages 229-241

  Beni, Valerio ^a   Arrigan, Damien W M ^a  

^a UNIVERSITY COLLEGE CORK   (Ireland)

Author keywords

Heavy metals; Microelectrode arrays; Microsystem; Photolithography; Stripping analysis

Indexed keywords

ANALYTIC EQUIPMENT; METAL ANALYSIS; MICROANALYSIS; MICROELECTRODES; MICROFABRICATION; VOLTAGE REGULATORS;

ARRAY DEVICES; CLINICAL ANALYSIS; ELECTROCHEMICAL STRIPPING ANALYSIS; ELECTRODE MATERIAL; ENVIRONMENTAL ANALYSIS; FABRICATION METHODOLOGY; LARGE PARTS; MICROELECTRODES ARRAYS; MICROFABRICATED DEVICES; STRIPPING ANALYSIS;

HEAVY METALS;

EID: 47049114322     PISSN: 15734110     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.2174/157341108784911406     Document Type: Review

References (90)

1. Wang, J.; Tian, B.; Wang, J.; Lu, J.; Olsen, C.; Yarnitzky, C.; Olsen, K.; Hammerstrom, D.; W., B. Anal. Chim. Acta, 1999, 385, 429.
2. Brainina, K. Z. J. Anal. Chem., 2001, 56, 303.
3. Brainina, K. Z.; Neyman, E. Electroanalytical Stripping Methods, John Wiley & sons: New York 1993.
4. Brainina, K.Z.; Malakhova, N.A.; Stojko, N.Y. Fresenius J. Anal. Chem., 2000, 368, 307.
5. Koudelka-Hep, M.; van der Wal, P.D. Electrochim. Acta, 2000, 45, 2437.
6. Zoski, C.G. Electroanalysis, 2002, 14, 1041.
7. Stulik, K.; Amatore, C.; Holub, K.; Marecek, V.; Kutner, W. Pure Appl. Chem., 2000, 72, 1483.
8. Wittkampf, M.; Cammann, K.; Amrein, M.; Reichelt, R. Sens. Actuat. B, 1997, 40, 79.
9. Berduque, A.; Lanyon, Y.H.; Beni, V.; Herzog, G.; Watson, Y. E.; Rodgers, K.; Stam, F.; Alderman, J.; Arrigan, D.W.M. Talanta, 2007, 71, 1022.
10. Monk, P. M. S. Fundamentals of Electroanalytical Chemistry, Wiley: Chichester 2001.
11. Turyan, Y. I. Talanta, 1997, 44, 1.
12. Aoki, K. Electroanalysis, 1993, 5, 627.
13. Bard, A. J.; Faulkner, L. R. Electrochemical Methods: Fundamentals and Applications, second ed., John Wiley & Sons: New York, 2001.
14. Amatore, C. In Physical Electrochemistry: Principle, Methods and Applications.; Marcell Dekker: New York, 1995; pp. 131.
15. Kounaves, S. P.; Buffle, J. J. Electroanal. Chem., 1987, 216, 53.
16. Fletcher, S.; Horne, M. D. Electrochem. Comm., 1999, 1, 502.
17. Arrigan, D. W. M. Analyst, 1994, 119, 1953.
18. Emons, H.; Baade, A.; Schöning, M. J. Electroanalysis, 2000, 12, 1171.
19. Uhlig, A.; Paeschke, M.; Schnakenberg, U.; Hintshe, R.; Diederich, H.-J.; Scholz, F. Sens. Actuat. B, 1995, 25, 899.
20. Lawrence, N. S.; Pagels, M.; Meredith, A.; Jones, T. G. J.; Hall, C. E.; Pickles, C. S. J.; Godfried, H. P.; Banks, C. E.; Compton, R. G.; Jiang, L. Talanta, 2006, 69, 829.
21. Simm, A. O.; Banks, C. E.; Ward-Jones, S.; Davies, T. J.; Lawrence, N. S.; Jones, T. G. J.; Jiang, L.; Compton, R. G. Analyst, 2005, 130, 1303.
22. Fiaccabrino, G. C.; Koudelka-Hep, M. Electroanalysis, 1998, 4, 217.
23. Feeney, R.; Kounaves, S. P. Electroanalysis, 2000, 9, 677.
24. Suzuki, H. Mat. Sci. Eng. C, 2000, 12, 55.
25. Suzuki, H. Electroanalysis, 2000, 12, 703.
26. Rehacek, V.; Hotovoy, I.; Vojs, M. J. Phys. Conf. Ser., 2007, 61, 982.
27. Silva, P. R. M.; El Khakani, M. A.; Le Drogoff, B.; Chaker, M.; Vijh, A. K. Sens. Actuat. B, 1999, 60, 161.
28. Tercier-Weaber, M.-L.; Buffle, J.; Fiaccabrino, G. C.; Koudelka-Hep, M.; Riccardi, G.; Confalonieri, F.; Sina, A.; Graziottin, F. Electroanalysis, 2000, 12, 27.
29. Feldman, B. J.; D'Alessandro, A.; Osterloh, J. D.; Hata, B. H. Clin. Chem., 1995, 41, 557.
30. Le Drogoff, B.; El Khakani, M. A.; Silva, P. R. M.; Chaker, M.; Vijh, A. K. Electroanalysis, 2001, 13, 1491.
31. Xiao, L.; Dietze, W.; Nyasulu, F.; Mibeck, B. A. F. Anal. Chem., 2006, 78, 5172.
32. Wang, J.; Luo, D.-B.; Horiuchi, T. Electroanalysis, 1998, 10, 107.
33. Aguilar, F. A.; Gallant, A. J.; Rosamond, M. C.; Rhodes, A.; Wood, D.; Kataky, R. Electrochem. Commun., 2007, 9, 879.
34. Belmont, C.; Tercier, M.-L.; Buffle, J.; Fiaccabrino, G. C.; Koudelka-Hep, M. Anal. Chim. Acta, 1996, 329, 203.
35. Bond, A. M.; Luscombe, D.; Oldham, K. B.; Zoski, C. G. J. Electroanal. Chem., 1988, 249, 1.
36. Kounaves, S. P.; Deng, W.; Hallock, P. R.; Kovacs, G. T.; Storment, C. Anal. Chem., 1994, 66, 418.
37. Feeney, R.; Herdan, J.; Nolan, M. A.; Tan, S. H.; Tarasov, V. V.; Kounaves, S. P. Elecroanalysis, 1998, 10, 89.
38. Nolan, M. A.; Kounaves, S. P. Anal. Chem., 1999, 71, 3567.
39. Kovacs, G. T. A.; Storment, C. W.; Kounaves, S. P. Sens. Actuat. B, 1995, 23, 41.
40. Le Drogoff, B.; El-Khakani, M. A.; Silva, P. R. M.; Chaker, M.; Ross, G. G. Appl. Surf. Sci., 1999, 152, 77.
41. Silva, P. R. M.; El Khakani, M. A.; Chaker, M.; Champagne, G. Y.; Chevalet, J.; Gastonguay, L.; Lacasse, R.; Ladouceur, M. Anal. Chim. Acta, 1999, 385, 249.
42. Xie, X.; Stuben, D.; Berner, Z.; Albets, J.; Hintsche, R.; Jantzen, E. Sens. Actuat. B, 2004, 97, 168.
43. Wang, J.; Wang, J.; Adeniyi, W. K.; Kounaves, S. P. Elecroanalysis, 2000, 12, 44.
44. Tercier-Weaber, M.-L.; Belmont-Hebert, C.; Buffle, J. Environ. Sci. Technol., 1998, 32, 1515.
45. Tercier-Weaber, M.-L.; Buffle, J.; Confalonieri, F.; Riccardi, G.; Sina, A.; Graziottin, F.; Fiaccabrino, G. C.; Koudelka-Hep, M. Meas. Sci. Technol., 1999, 10, 1202.
46. Silva, P. R. M.; El Khakani, M. A.; Chaker, M.; Dufresne, A.; Courchesne, F. Sens. Actuat. B, 2001, 76, 250.
47. Xie, X.; Berner, Z.; Albets, J.; Stuben. Microchim. Acta, 2005, 150, 137.
48. Noël, S.; Tercier-Waeber, M.-L.; Lin, L.; Buffle, J.; Guenat, O.; Koudelka-Hep, M. Electroanalysis, 2006, 18, 2061.
49. Pei, J.; Tercier-Weaber, M.-L.; Buffle, J. Anal. Chem., 2000, 72, 161.
50. Belmont-Hebert, C.; Tercier, M.-L.; Buffle, J.; Fiaccabrino, G. C.; Koudelka-Hep, M. Anal. Chem., 1998, 70, 2949.
51. Reay, R. J.; Flannery, A. F.; Storment, C. W.; Kounaves, S. P.; Kovacs, G. T.; A. Sens. Actuat. B, 1996, 34, 450.
52. Hernet, J.; Feeney, R.; Kounaves, S. P.; Flannery, A. F.; Storment, C. W.; Kovacs, G. T. A.; Darling, R. B. Environ. Sci. Technol., 1998, 32, 131.
53. Yun, K.-S.; Kim, H.-J.; Joo, S.; Kwak, J.; Yoon, E. Jpn. J. Appl. Phys., 2000, 39, 7159.
54. Kounaves, S. P.; Nadzhafova, O. Y.; Tarasov, V.; Tan, S. H. Anal. Sci., 2001, 17, 1031.
55. Howell, K. A.; Achterberg, E. P.; Braungardt, C. B.; Tappin, A. D.; Worsford, P. J.; Turner, D. R. Trends Anal. Chem., 2003, 22, 828.
56. Herzog, G.; Arrigan, D. W. M. Trends Anal. Chem., 2005, 24, 208.
57. Beni, V.; Newton, H.; Arrigan, D. W. M.; Hill, M.; Lane, W. A.; Mathewson, A. Anal. Chim. Acta, 2004, 502, 195.
58. Herzog, G.; Beni, V.; Dillon, P. H.; Barry, T.; Arrigan, D. W. M. Anal. Chim. Acta, 2004, 511, 137.
59. Feeney, R.; Kounaves, S. P. Anal. Chem., 2000, 72, 2222.
60. Feeney, R.; Kounaves, S. P. Talanta, 2002, 58, 23.
61. Simm, A. O.; Ordeig, O.; del Campo, J.; Munoz, F. X.; Compton, R. G. Analyst, 2006, 131, 987.
62. Ordeig, O.; Banks, C. E.; del Campo, J.; Munoz, F. X.; Compton, R. G. Elecroanalysis, 2006, 18, 573.
63. Davies, T. J.; Ward-Jones, S.; Banks, C. E.; Del Campo, J.; Mas, R.; Muñoz, F. X.; Compton, R. G. J. Electroanal. Chem., 2005, 585, 51.
64. Warriner, K.; Morrissey, A.; Alderman, J.; King, G.; Treloar, P.; Vadgama, P. M. Sens. Actuat. B, 2002, 84, 200.
65. Liu, T. Z.; Lai, D.; Osterloh, J. D. Anal. Chem., 1997, 69, 3539.
66. Wang, J.; Lu, J.; Tian, B.; Wang, J.; Yarnitzky, C. J. Electroanal. Chem., 1993, 261, 77.
67. Seddon, B. J.; Shao, Y.; Girault, H. H. Electrochim. Acta, 1994, 39, 2377.
68. Tabei, H.; Morita, M.; Niwa, O.; Horiuchi. J. Electroanal. Chem., 1992, 334, 25.
69. Pagels, M.; Hall, C. E.; Lawrence, N. S.; Meredith, A.; Jones, T. G. J.; Godfried, H. P.; Pickles, C. S. J.; Wilman, J.; Banks, C. E.; Compton, R. G.; Jiang, L. Anal. Chem., 2005, 77, 3705.
70. Rehacek, V.; Shtereva, K.; Novotny, I.; Tvarozek, V.; Breternitz, V.; Spiess, L.; Knedlik, Ch. Vacuum, 2005, 80, 132.
71. Wang, J.; Tian, B.; Wang, J.; Luo, D.; MacDonald, D. Electroanalysis, 1998, 10, 399.
72. Sreenivas, G.; Ang, S. S.; Fritsch, I.; Brown, W. D.; Gerhardt, G. A.; Woodward, D. J. Anal. Chem., 1996, 68, 1858.
73. Zoski, C.G.; Simjee, N.; Guenat, O.; Koudelka-Hep, M. Anal. Chem., 2004, 76, 62.
74. Beriet, C.; Ferrigno, R.; Girault, H. H. J. Electroanal. Chem., 2000, 486, 56.
75. González-García, O.; Ariño, C.; Díaz-Cruz, J. M.; Esteban, M. Electroanalysis, 2007, 19, 429.
76. Economou, A.; Fielden, P. R. Analyst, 2003, 128, 205.
77. Tercier, M.-L.; Parthasarathy, N.; Buffle, J. Electroanalysis, 1995, 7, 55.
78. Wang, J.; Lu, J.; Hocevar, S. B.; Farias, P. A. M.; Ogorevc, B. Anal. Chem., 2000, 72, 3218.
79. Wang, J. Electroanalysis, 2005, 17, 1341.
80. Economou, A. Trends Anal. Chem., 2005, 24, 334.
81. Rehacek, V.; Hotovy, I.; Vojs, M.; Mika, F. In SPIE-The International Society of Optical Engineering; SPIE, 2007; 6589, 658914/1.
82. Suzuki, H.; Nagaoka, S.; Loughran, M. In Transducers '03, International Conference on Solid state Sensors, Actuators and Microsystem; IEEE: Boston, 2003; 1, 57.
83. Tercier, M.-L.; Buffle, J. Anal. Chem., 1996, 68, 3670.
84. Tan, S. H.; Kounaves, S. P. Elecroanalysis, 1998, 10, 364.
85. Petrovic, S. C.; King, D. F.; Dewald, H. D. Electroanalysis, 1998, 6, 393.
86. Salaun, P.; Bujard, F.; Berdondini, L.; Koudelka-Hep, M.; Buffle, J. Electroanalysis, 2004, 16, 811.
87. Salaun, P. G. O.; Berdondini, L.; Buffle, J.; Koudelka-Hep, M. Anal. Lett., 2003, 36, 1835.
88. Herdan, J.; Feeney, R.; Kounaves, S. P.; Flannery, A. F.; Storment, C. W.; Kovacs, G. T. A.; Darling, R. B. Environ. Sci. Technol., 1998, 32, 131.
89. Yun, K.-S.; Gil, J.; Kim, J.; Kim, H.-J.; Kim, K.; Park, D.; Kim, M.; Shin, H.; Lee, K.; Kwak, J.; Yoon, E. Sens. Actuat. B, 2004, 102, 27.
90. Martin, S. M.; Gebara, F. H.; Larivee, B. J.; Brown, R. B. IEEE J. Solid-St. Circ., 2005, 40, 2777.