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Volumn 3, Issue 6, 2008, Pages 230-235

The influences of H 2 plasma pretreatment on the growth of vertically aligned carbon nanotubes by microwave plasma chemical vapor deposition

(6) Jian, Sheng Rui a Chen, Yuan Tsung a Wang, Chih Feng a Wen, Hua Chiang b Chiu, Wei Ming c Yang, Chu Shou d

a I SHOU UNIVERSITY (Taiwan)

b NATIONAL CHIAO TUNG UNIVERSITY (Taiwan)

c NATIONAL CHIN YI UNIVERSITY OF TECHNOLOGY (Taiwan)

d TATUNG UNIVERSITY (Taiwan)

Author keywords

H 2 pretreatment; Multiwalled carbon nanotubes; Raman spectroscopy; Scanning electron microscopy; Transmission electron microscopy

Indexed keywords

EID: 46749111776 PISSN: 19317573 EISSN: 1556276X Source Type: Journal
DOI: 10.1007/s11671-008-9141-5 Document Type: Article

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