-
3
-
-
0035242270
-
-
C. Brabec, N. S. Saricifici, and J. Hummelen, Adv. Funct. Mater., 11, 15 (2001).
-
(2001)
Adv. Funct. Mater.
, vol.11
, pp. 15
-
-
Brabec, C.1
Saricifici, N.S.2
Hummelen, J.3
-
4
-
-
0000959967
-
-
I. G. Hill, A. Rajagopal, A. Kahn, and Y. Hu, Appl. Phys. Lett., 73, 662 (1998).
-
(1998)
Appl. Phys. Lett.
, vol.73
, pp. 662
-
-
Hill, I.G.1
Rajagopal, A.2
Kahn, A.3
Hu, Y.4
-
5
-
-
0000019648
-
-
L. S. Hung, C. W. Tang, M. G. Mason, P. Raychaudhuri, and J. Madathil, Appl. Phys. Lett., 78, 544 (2001).
-
(2001)
Appl. Phys. Lett.
, vol.78
, pp. 544
-
-
Hung, L.S.1
Tang, C.W.2
Mason, M.G.3
Raychaudhuri, P.4
Madathil, J.5
-
6
-
-
3543099288
-
-
C. W. Tang, S. A. VanSlyke, and C. H. Chen, J. Appl. Phys., 65, 3610 (1989).
-
(1989)
J. Appl. Phys.
, vol.65
, pp. 3610
-
-
Tang, C.W.1
Vanslyke, S.A.2
Chen, C.H.3
-
7
-
-
0001082422
-
-
L. S. Hung, L. S. Liao, C. S. Lee, and S. T. Lee, J. Appl. Phys., 86, 4607 (1999).
-
(1999)
J. Appl. Phys.
, vol.86
, pp. 4607
-
-
Hung, L.S.1
Liao, L.S.2
Lee, C.S.3
Lee, S.T.4
-
8
-
-
0042842360
-
-
H. Aziz, Y.-F. Liew, H. M. Grandin, and Z. D. Popovic, Appl. Phys. Lett., 83, 186 (2003).
-
(2003)
Appl. Phys. Lett.
, vol.83
, pp. 186
-
-
Aziz, H.1
Liew, Y.-F.2
Grandin, H.M.3
Popovic, Z.D.4
-
9
-
-
33846977355
-
-
E. Ahlswede, J. Hanisch, and M. Powalla, Appl. Phys. Lett., 90, 063513 (2007).
-
(2007)
Appl. Phys. Lett.
, vol.90
, pp. 063513
-
-
Ahlswede, E.1
Hanisch, J.2
Powalla, M.3
-
10
-
-
33644515649
-
-
H.-K. Kim, S.-W. Kim, K.-S. Lee, and K. H. Kim, Appl. Phys. Lett., 88, 083513 (2006).
-
(2006)
Appl. Phys. Lett.
, vol.88
, pp. 083513
-
-
Kim, H.-K.1
Kim, S.-W.2
Lee, K.-S.3
Kim, K.H.4
-
13
-
-
0032316669
-
-
N. Matsushita, K. Noma, S. Nakagawa, and M. Naoe, Vacuum, 51, 543 (1998).
-
(1998)
Vacuum
, vol.51
, pp. 543
-
-
Matsushita, N.1
Noma, K.2
Nakagawa, S.3
Naoe, M.4
-
14
-
-
28044440662
-
-
H.-K. Kim, K.-S. Lee, M.-J. Keum, and K.-H. Kim, Electrochem. Solid-State Lett., 8, H103 (2005).
-
(2005)
Electrochem. Solid-State Lett.
, vol.8
, pp. 103
-
-
Kim, H.-K.1
Lee, K.-S.2
Keum, M.-J.3
Kim, K.-H.4
-
15
-
-
33646466504
-
-
H. Yamamoto, T. Oyamada, W. Hale, S. Aoshima, H. Sasabe, and C. Adachi, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2, 45, L213 (2006).
-
(2006)
Jpn. J. Appl. Phys., Part 2
, vol.45
, pp. 213
-
-
Yamamoto, H.1
Oyamada, T.2
Hale, W.3
Aoshima, S.4
Sasabe, H.5
Adachi, C.6
-
16
-
-
20844458737
-
-
H.-K. Kim, D.-G. Kim, K.-S. Lee, M.-S. Huh, S. H. Jeong, K. I. Kim, and T.-Y. Seong, Appl. Phys. Lett., 86, 183503 (2005).
-
(2005)
Appl. Phys. Lett.
, vol.86
, pp. 183503
-
-
Kim, H.-K.1
Kim, D.-G.2
Lee, K.-S.3
Huh, M.-S.4
Jeong, S.H.5
Kim, K.I.6
Seong, T.-Y.7
-
17
-
-
30644476248
-
-
H.-K. Kim, K.-S. Lee, and H.-A. Kang, J. Electrochem. Soc., 153, H29 (2006).
-
(2006)
J. Electrochem. Soc.
, vol.153
, pp. 29
-
-
Kim, H.-K.1
Lee, K.-S.2
Kang, H.-A.3
-
18
-
-
33645516550
-
-
H.-K. Kim, K.-S. Lee, and J. H. Kwon, Appl. Phys. Lett., 88, 012103 (2006).
-
(2006)
Appl. Phys. Lett.
, vol.88
, pp. 012103
-
-
Kim, H.-K.1
Lee, K.-S.2
Kwon, J.H.3
-
20
-
-
0032310751
-
-
T. Ichihara, S. Nakagawa, and M. Naoe, Vacuum, 51, 715 (1998).
-
(1998)
Vacuum
, vol.51
, pp. 715
-
-
Ichihara, T.1
Nakagawa, S.2
Naoe, M.3
-
21
-
-
3342996734
-
-
S. Nathan, G. Rao, and S. Mohan, J. Appl. Phys., 84, 564 (1998).
-
(1998)
J. Appl. Phys.
, vol.84
, pp. 564
-
-
Nathan, S.1
Rao, G.2
Mohan, S.3
-
22
-
-
10844224447
-
-
H.-K. Kim, D.-G. Kim, K.-S. Lee, M.-S. Huh, S. H. Jeong, K. I. Kim, H. Kim, D. W. Han, and J. H. Kwon, Appl. Phys. Lett., 85, 4295 (2004).
-
(2004)
Appl. Phys. Lett.
, vol.85
, pp. 4295
-
-
Kim, H.-K.1
Kim, D.-G.2
Lee, K.-S.3
Huh, M.-S.4
Jeong, S.H.5
Kim, K.I.6
Kim, H.7
Han, D.W.8
Kwon, J.H.9
-
23
-
-
23244466740
-
-
S. Nathan, G. Rao, and S. Mohan, Thin Solid Films, 347, 14 (1999).
-
(1999)
Thin Solid Films
, vol.347
, pp. 14
-
-
Nathan, S.1
Rao, G.2
Mohan, S.3
|