-
2
-
-
42949109912
-
-
Japanese Open Patent No. 2002-15623 (Oct. 10).
-
K. Koike, H. Saigou, and S. Fukuda, Japanese Open Patent No. 2002-15623 (Oct. 10, 2000).
-
(2000)
-
-
Koike, K.1
Saigou, H.2
Fukuda, S.3
-
4
-
-
42949104286
-
-
K. Koike, F. Yamazaki, T. Okamura, and S. Fukuda, J. Vac. Sci. Technol. A 25, 527 (2007).
-
(2007)
J. Vac. Sci. Technol. A
, vol.25
, pp. 527
-
-
Koike, K.1
Yamazaki, F.2
Okamura, T.3
Fukuda, S.4
-
5
-
-
0034244984
-
-
Y. Aoshima, M. Miyazaki, K. Sato, Y. Akao, S. Takaki, and K. Adachi, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 39, 4884 (2000).
-
(2000)
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1
, vol.39
, pp. 4884
-
-
Aoshima, Y.1
Miyazaki, M.2
Sato, K.3
Akao, Y.4
Takaki, S.5
Adachi, K.6
-
7
-
-
0032482832
-
-
M. Bender, W. Seelig, C. Daube, H. Frankenberger, B. Ocker, and J. Stollenwerk, Thin Solid Films 326, 67 (1998).
-
(1998)
Thin Solid Films
, vol.326
, pp. 67
-
-
Bender, M.1
Seelig, W.2
Daube, C.3
Frankenberger, H.4
Ocker, B.5
Stollenwerk, J.6
-
9
-
-
0035328721
-
-
M. Sawada, M. Higuchi, S. Kondo, and H. Saka, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 40, 3332 (2001).
-
(2001)
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1
, vol.40
, pp. 3332
-
-
Sawada, M.1
Higuchi, M.2
Kondo, S.3
Saka, H.4
-
11
-
-
0036309812
-
-
J. Y. Kim, E. R. Kim, Y. K. Han, K. H. Nam, and D. W. Ihm, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 41, 237 (2002).
-
(2002)
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1
, vol.41
, pp. 237
-
-
Kim, J.Y.1
Kim, E.R.2
Han, Y.K.3
Nam, K.H.4
Ihm, D.W.5
-
13
-
-
9744255444
-
-
J. Lewis, S. Grego, B. Chalamala, E. Vick, and D. Temple, Appl. Phys. Lett. 85, 3450 (2004).
-
(2004)
Appl. Phys. Lett.
, vol.85
, pp. 3450
-
-
Lewis, J.1
Grego, S.2
Chalamala, B.3
Vick, E.4
Temple, D.5
-
16
-
-
0038185968
-
-
K. B. Jung, J. W. Lee, Y. D. Park, J. A. Caballero, J. R. Childress, S. J. Pearton, and F. Ren, J. Vac. Sci. Technol. A 15, 1780 (1997).
-
(1997)
J. Vac. Sci. Technol. A
, vol.15
, pp. 1780
-
-
Jung, K.B.1
Lee, J.W.2
Park, Y.D.3
Caballero, J.A.4
Childress, J.R.5
Pearton, S.J.6
Ren, F.7
-
18
-
-
0035340773
-
-
J. H. Shin, S. H. Shin, J. I. Park, and H. H. Kim, J. Appl. Phys. 89, 5199 (2001).
-
(2001)
J. Appl. Phys.
, vol.89
, pp. 5199
-
-
Shin, J.H.1
Shin, S.H.2
Park, J.I.3
Kim, H.H.4
-
19
-
-
34548826610
-
-
A. K. Kulkarni, T. Lim, M. Khan, and Kirk H. Schulz, J. Vac. Sci. Technol. A 16, 1636 (1998).
-
(1998)
J. Vac. Sci. Technol. A
, vol.16
, pp. 1636
-
-
Kulkarni, A.K.1
Lim, T.2
Khan, M.3
Schulz, K.H.4
-
20
-
-
31144473802
-
-
J. H. Choi, E. S. Lee, S. H. Choi, H. K. Baik, K. M. Song, Y. S. Lim, and S. M. Lee, J. Vac. Sci. Technol. A 23, 1479 (2005).
-
(2005)
J. Vac. Sci. Technol. A
, vol.23
, pp. 1479
-
-
Choi, J.H.1
Lee, E.S.2
Choi, S.H.3
Baik, H.K.4
Song, K.M.5
Lim, Y.S.6
Lee, S.M.7
-
23
-
-
0141522949
-
-
X. Jiang, F. L. Wong, M. K. Fung, and S. T. Lee, Appl. Phys. Lett. 83, 1875 (2003).
-
(2003)
Appl. Phys. Lett.
, vol.83
, pp. 1875
-
-
Jiang, X.1
Wong, F.L.2
Fung, M.K.3
Lee, S.T.4
-
24
-
-
34547829426
-
-
M. Nakano, T. Fukumura, H. Toyosaki, K. Ueno, and M. Kawasaki, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 45, L1061 (2006).
-
(2006)
Jpn. J. Appl. Phys., Part 2
, vol.45
, pp. 1061
-
-
Nakano, M.1
Fukumura, T.2
Toyosaki, H.3
Ueno, K.4
Kawasaki, M.5
|