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Volumn 15, Issue 6, 1997, Pages 2130-2135

Scattering with angular limitation projection electron beam lithography for suboptical lithography

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EID: 4143100441     PISSN: 10711023     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1116/1.589339     Document Type: Article
Times cited : (109)

References (18)
  • 12
    • 4143150346 scopus 로고    scopus 로고
    • J. A. Liddle, these proceedings
    • J. A. Liddle, these proceedings.


* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.