-
1
-
-
0030574949
-
-
APPLAB 0003-6951 10.1063/1.115599.
-
S. Nakamura, M. Senoh, S. Nagahara, N. Iwasa, T. Yamada, T. Matsushita, H. Kiyoku, and Y. Sugimoto, Appl. Phys. Lett. APPLAB 0003-6951 10.1063/1.115599 68, 2105 (1996).
-
(1996)
Appl. Phys. Lett.
, vol.68
, pp. 2105
-
-
Nakamura, S.1
Senoh, M.2
Nagahara, S.3
Iwasa, N.4
Yamada, T.5
Matsushita, T.6
Kiyoku, H.7
Sugimoto, Y.8
-
2
-
-
5944240962
-
-
APPLAB 0003-6951 10.1063/1.118450.
-
D. Walker, X. Zhang, A. Saxler, P. Kung, J. Xu, and M. Razeghi, Appl. Phys. Lett. APPLAB 0003-6951 10.1063/1.118450 70, 949 (1997).
-
(1997)
Appl. Phys. Lett.
, vol.70
, pp. 949
-
-
Walker, D.1
Zhang, X.2
Saxler, A.3
Kung, P.4
Xu, J.5
Razeghi, M.6
-
3
-
-
0001244588
-
-
APPLAB 0003-6951 10.1063/1.125768.
-
D. Walker, V. Kumar, K. Mi, P. Kung, X. H. Zhang, and M. Razeghi, Appl. Phys. Lett. APPLAB 0003-6951 10.1063/1.125768 76, 403 (2000).
-
(2000)
Appl. Phys. Lett.
, vol.76
, pp. 403
-
-
Walker, D.1
Kumar, V.2
Mi, K.3
Kung, P.4
Zhang, X.H.5
Razeghi, M.6
-
4
-
-
0036060511
-
-
PSISDG 0277-786X.
-
P. Kung, A. Yasan, R. McClintock, S. R. Darvish, K. Mi, and M. Razeghi, Proc. SPIE PSISDG 0277-786X 4650, 199 (2002).
-
(2002)
Proc. SPIE
, vol.4650
, pp. 199
-
-
Kung, P.1
Yasan, A.2
McClintock, R.3
Darvish, S.R.4
Mi, K.5
Razeghi, M.6
-
5
-
-
0001049050
-
-
JAPIAU 0021-8979 10.1063/1.368270.
-
L. S. Yu, Q. Z. Liu, Q. J. Xing, D. J. Qiao, S. S. Lau, and J. Redwing, J. Appl. Phys. JAPIAU 0021-8979 10.1063/1.368270 84, 2099 (1998).
-
(1998)
J. Appl. Phys.
, vol.84
, pp. 2099
-
-
Yu, L.S.1
Liu, Q.Z.2
Xing, Q.J.3
Qiao, D.J.4
Lau, S.S.5
Redwing, J.6
-
6
-
-
1842523037
-
-
MCHPDR 0254-0584.
-
B. Akkal, Z. Benamara, H. Abid, A. Talbi, and B. Gruzza, Mater. Chem. Phys. MCHPDR 0254-0584 85, 27 (2004).
-
(2004)
Mater. Chem. Phys.
, vol.85
, pp. 27
-
-
Akkal, B.1
Benamara, Z.2
Abid, H.3
Talbi, A.4
Gruzza, B.5
-
7
-
-
1842710131
-
-
JAPNDE 0021-4922 10.1143/JJAP.43.82.
-
K. C. Huang, W. H. Lan, and K. F. Huang, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 JAPNDE 0021-4922 10.1143/JJAP.43.82 43, 82 (2004).
-
(2004)
Jpn. J. Appl. Phys., Part 1
, vol.43
, pp. 82
-
-
Huang, K.C.1
Lan, W.H.2
Huang, K.F.3
-
8
-
-
21544480777
-
-
APPLAB 0003-6951 10.1063/1.110417.
-
P. Hacke, T. Detchprohm, K. Hiramatsu, and N. Sawaki, Appl. Phys. Lett. APPLAB 0003-6951 10.1063/1.110417 63, 2676 (1993).
-
(1993)
Appl. Phys. Lett.
, vol.63
, pp. 2676
-
-
Hacke, P.1
Detchprohm, T.2
Hiramatsu, K.3
Sawaki, N.4
-
9
-
-
17944376214
-
-
APPLAB 0003-6951 10.1063/1.1890476.
-
Y. J. Lin, Appl. Phys. Lett. APPLAB 0003-6951 10.1063/1.1890476 86, 122109 (2005).
-
(2005)
Appl. Phys. Lett.
, vol.86
, pp. 122109
-
-
Lin, Y.J.1
-
11
-
-
0346497616
-
-
SSTEET 0268-1242 10.1088/0268-1242/19/1/014.
-
S. Chand, Semicond. Sci. Technol. SSTEET 0268-1242 10.1088/0268-1242/19/ 1/014 19, 82 (2004).
-
(2004)
Semicond. Sci. Technol.
, vol.19
, pp. 82
-
-
Chand, S.1
-
12
-
-
33749077525
-
-
SSTEET 0268-1242 10.1088/0268-1242/21/8/012.
-
. Dökme and. Altndal, Semicond. Sci. Technol. SSTEET 0268-1242 10.1088/0268-1242/21/8/012 21, 1053 (2006).
-
(2006)
Semicond. Sci. Technol.
, vol.21
, pp. 1053
-
-
Dökme, .1
Altndal, .2
-
13
-
-
0001349285
-
-
APPLAB 0003-6951 10.1063/1.121636.
-
J. K. Sheu and Y. K. Su, Appl. Phys. Lett. APPLAB 0003-6951 10.1063/1.121636 72, 3317 (1998).
-
(1998)
Appl. Phys. Lett.
, vol.72
, pp. 3317
-
-
Sheu, J.K.1
Su, Y.K.2
-
14
-
-
0000499612
-
-
JAPIAU 0021-8979 10.1063/1.349737.
-
J. P. Sullivan, R. T. Tung, M. R. Pinto, and W. R. Graham, J. Appl. Phys. JAPIAU 0021-8979 10.1063/1.349737 70, 7403 (1991).
-
(1991)
J. Appl. Phys.
, vol.70
, pp. 7403
-
-
Sullivan, J.P.1
Tung, R.T.2
Pinto, M.R.3
Graham, W.R.4
-
15
-
-
0030190842
-
-
JAPIAU 0021-8979 10.1063/1.362818.
-
S. Chand and J. Kumar, J. Appl. Phys. JAPIAU 0021-8979 10.1063/1.362818 80, 288 (1996).
-
(1996)
J. Appl. Phys.
, vol.80
, pp. 288
-
-
Chand, S.1
Kumar, J.2
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