Influence of metal organic chemical vapor deposition growth parameters on the luminescent properties of ZnO thin films deposited on glass substrates

Journal of Applied Physics

Volumn 103, Issue 5, 2008, Pages

  Roro, K T ^a   Dangbegnon, J K ^a   Sivaraya, S ^a   Leitch, A W R ^a   Botha, J R ^a  

^a NELSON MANDELA METROPOLITAN UNIVERSITY   (South Africa)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

DEPOSITION; GLASS; GROWTH TEMPERATURE; METALLORGANIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; ZINC OXIDE;

GROWTH PARAMETERS; VIOLET EMISSION BAND;

THIN FILMS;

EID: 40849085452     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.2873872     Document Type: Article

References (32)

1. C. G. Van de Walle, Physica B PHYBE3 0921-4526 308-310, 899 (2001).
2. Ü. Özgür, Ya. I. Alivov, C. Liu, A. Teke, M. A. Reshchikov, S. Doǧan, V. Avrutin, S.-J. Cho, and H. Morko̧, J. Appl. Phys. JAPIAU 0021-8979 10.1063/1.1992666 98, 041301 (2005).
3. J. Wang, V. Sallet, G. Amiri, J. F. Rommelùre, A. Lusson, E. Rzepka, J. E. Lewis, P. Galtier, and O. Gorochov, Phys. Status Solidi A PSSABA 0031-8965 10.1002/pssa.200420068 202, 1967 (2005).
4. S. H. Jeong, B. S. Kim, and B. T. Lee, Appl. Phys. Lett. APPLAB 0003-6951 10.1063/1.1568543 82, 2625 (2003).
5. H. S. Kang, J. S. Kang, J. W. Kim, and S. Y. Lee, J. Appl. Phys. JAPIAU 0021-8979 10.1063/1.1633343 95, 1246 (2004).
6. T. M. Børseth, B. G. Svensson, A. Y. Kuznetsov, P. Klason, Q. X. Zhao, and M. Willander, Appl. Phys. Lett. APPLAB 0003-6951 10.1063/1.2424641 89, 262112 (2006).
7. J. D. Ye, S. L. Gu, F. Qin, S. M. Zhu, S. M. Liu, X. Zhou, W. Liu, L. Q. Hu, R. Zhang, Y. Shi, and Y. D. Zheng, Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. APAMFC 0947-8396 10.1007/s00339-004-2996-0 81, 759 (2005).
8. H. S. Kang, J. W. Kim, S. H. Lim, H. W. Chang, G. H. Kim, J. H. Kim, and S. Y. Lee, Superlattices Microstruct. SUMIEK 0749-6036 39, 193 (2006).
9. K. Vanheusden, W. L. Warren, C. H. Seager, D. R. Tallant, J. A. Voigt, and B. E. Gnade, J. Appl. Phys. JAPIAU 0021-8979 10.1063/1.362349 79, 7983 (1996).
10. B. Lin, Z. Fu, Y. Jia, and G. Liao, J. Electrochem. Soc. JESOAN 0013-4651 10.1149/1.1346616 148, G110 (2001).
11. B. Lin, Z. Fu, and Y. Jia, Appl. Phys. Lett. APPLAB 0003-6951 10.1063/1.1394173 79, 943 (2001).
12. A. Van Dijken, E. A. Meulenkamp, D. Vanmaekelbergh, and A. Meijerink, J. Lumin. JLUMA8 0022-2313 87-89, 454 (2000).
13. Q. X. Zhao, P. Klason, M. Willander, H. M. Zhong, W. Lu, and J. H. Yang, Appl. Phys. Lett. APPLAB 0003-6951 10.1063/1.2135880 87, 211912 (2005).
14. A. Janotti and C. G. Van de Walle, J. Cryst. Growth JCRGAE 0022-0248 10.1016/j.jcrysgro.2005.10.043 287, 58 (2006).
15. M. Liu, A. H. Kitai, and P. Mascher, J. Lumin. JLUMA8 0022-2313 10.1016/0022-2313(92)90047-D 54, 35 (1992).
16. N. Y. Garces, L. Wang, L. Bai, N. C. Giles, L. E. Halliburton, and G. Cantwell, Appl. Phys. Lett. APPLAB 0003-6951 10.1063/1.1494125 81, 622 (2002).
17. O. Pagni and A. W. R. Leitch, Phys. Status Solidi A PSSABA 0031-8965 10.1002/pssa.200404827 201, 2213 (2004).
18. N. Fujimura, T. Nishihara, S. Goto, J. Xu, and T. Ito, J. Cryst. Growth JCRGAE 0022-0248 10.1016/0022-0248(93)90861-P 130, 269 (1993).
19. A. Asadov, W. Gao, Z. Li, J. Lee, and M. Hodgson, Thin Solid Films THSFAP 0040-6090 476, 201 (2005).
20. A. C. Jones, S. A. Rushworth, and J. Aulid, J. Cryst. Growth JCRGAE 0022-0248 10.1016/0022-0248(94)00469-2 146, 503 (1995).
21. S. Oda, H. Tokunaga, N. Kitajima, I. Shimizu, and H. Kokado, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 JAPNDE 0021-4922 10.1143/JJAP.24.1607 24, 1607 (1985).
22. J. K. Dangbegnon, K. T. Roro, and J. R. Botha, Phys. Status Solidi A PSSABA 0031-8965 205, 155 (2008).
23. T. K. Gupta, W. D. Straub, M. S. Ramanachalam, J. P. Schaffer, and A. Rohatgi, J. Appl. Phys. JAPIAU 0021-8979 10.1063/1.343596 66, 6132 (1989).
24. A. F. Kohan, G. Ceder, D. Morgan, and C. G. Van de Walle, Phys. Rev. B PRBMDO 0163-1829 10.1103/PhysRevB.61.15019 61, 15019 (2000).
25. D. Li, Y. H. Leung, A. B. Djurišić, Z. T. Liu, M. H. Xie, S. L. Shi, S. J. Xu, and W. K. Chan, Appl. Phys. Lett. APPLAB 0003-6951 10.1063/1.1786375 85, 1601 (2004).
26. X. L. Wu, G. G. Siu, C. L. Fu, and H. C. Ong, Appl. Phys. Lett. APPLAB 0003-6951 10.1063/1.1361288 78, 2285 (2001).
27. D. C. Look, Superlattices Microstruct. SUMIEK 0749-6036 42, 284 (2007).
28. B. H. Kong, S. K. Mohanta, D. C. Kim, and H. K. Cho, Physica B PHYBE3 0921-4526 401-402, 399 (2007).
29. S. T. Tan, B. J. Chen, X. W. Sun, X. Hu, X. H. Zhang, and S. J. Chua, J. Cryst. Growth JCRGAE 0022-0248 281, 571 (2005).
30. Th. Gruber, C. Kirchner, K. Thonke, R. Sauer, and A. Waag, Phys. Status Solidi A PSSABA 0031-8965 10.1002/1521-396X(200207)192:1<166::AID- PSSA166>3.0.CO;2-G 192, 166 (2002).
31. K. H. Bang, D. K. Hwang, S. W. Lim, and J. M. Myoung, J. Cryst. Growth JCRGAE 0022-0248 250, 437 (2003).
32. Y. J. Lin, C. L. Tsai, Y. M. Lu, and C. J. Liu, J. Appl. Phys. JAPIAU 0021-8979 10.1063/1.2193649 99, 093501 (2006).