Thermochemical hole burning on TEA(TCNQ)2 single crystal at varied temperatures in UHV system

Journal of Physical Chemistry C

Volumn 112, Issue 6, 2008, Pages 2004-2007

  Huang, Xiaoming ^a   Lin, Feng ^a   Zhou, Wei ^a   Ren, Liang ^a   Peng, Hailin ^a   Liu, Zhongfan ^a  

^a PEKING UNIVERSITY   (China)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

CHARGE TRANSFER; SCANNING TUNNELING MICROSCOPY; THERMAL EFFECTS; THERMOCHEMISTRY; ULTRAHIGH VACUUM;

AMBIENT CONDITIONS; THERMOCHEMICAL HOLE BURNING;

SINGLE CRYSTALS;

EID: 40049110109     PISSN: 19327447     EISSN: 19327455     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/jp0758566     Document Type: Article

References (29)

1. Binnig, G.; Despont, M.; Drechsler, U.; Haberle, W.; Lutwyehe, M.; Vettiger, P.; Mamin, H. J.; Chui, B. W.; Kenny, T. W. Appl Phys. Lett. 1999, 74, 1329.
2. Vettiger, P.; Despont, M.; Drechsler, U.; Durig, U.; Haberle, W.; Lutwyehe, M. I.; Rothuizen, H. E.; Stutz, R.; Widmer, R.; Binnig, G. K. IBM J. Res. Dev. 2000, 44, 323.
3. Cavallini, M.; Biscarini, F.; Leon, S.; Zerbetto, F.; Bottari, G.; Leigh, D. A. Science 2003, 299, 531.
4. Wu, H. M.; Song, Y. L.; Du, S. X.; Liu, H. W.; Gao, H. J.; Jiang, L.; Zhu, D. B. Adv. Mater. 2003, 15, 1925.
5. Barret, R. C.; Quate, C. F. J. Appl. Phys. 1991, 70, 2725.
6. Liu, C. Y.; Pan, H. L.; Fox, M. A.; Bard, A. J. Science 1993, 261, 897.
7. Wright, W. M. D.; Chetwynd, D. G. Nanotechnology 1998, 9, 133.
8. Mesquida, P.; Knapp, H. F.; Stemmer, A. Surf. Interface Anal 2002, 33, 159.
9. Kado, H.; Tohda, T. Appl. Phys. Lett. 1995, 66, 2961.
10. Gao, H. J.; Sohlberg, K.; Xue, Z. Q.; Chen, H. Y.; Hou, S. M.; Ma, L. P.; Fang, X. W.; Pang, S. J.; Pennycook, S. J. Phys. Rev. Lett. 2000, 84, 1780.
11. Li, J. C.; Xue, Z. Q.; Li, X. L.; Liu, W. M.; Hou, S. M.; Song, Y. L.; Jiang, L.; Zhu, D. B.; Bao, X. X.; Liu, Z. F. Appl Phys. Lett. 2000, 76, 2532.
12. Nakamura, J.; Miyamoto, M.; Hosaka, S.; Koyanagi, H. J. Appl. Phys. 1995, 77, 779.
13. Haginoyaa, C.; Koike, K.; Hirayama, Y.; Yamamoto, J.; Ishibashi, M.; Kitakami, O.; Shimada, Y. Appl Phys. Lett. 1999, 75, 3159.
14. Mamin, H. J. Appl. Phys. Lett. 1996, 69, 433.
15. Saluel, D.; Daval, J.; Bechevet, B.; Germain, C.; Valon, B. J. Magn. Magn. Mater. 1999, 193, 488.
16. Huang, S. M.; Hong, M. H.; Lu, Y. F.; Lukyanchuk, B. S.; Song, W. D.; Chong, T. C. J. Appl Phys. 2002, 91, 3268.
17. Cooper, E. B.; Manalis, S. R.; Fang, H.; Dai, H.; Matsumoto, K.; Minne, S. C.; Hunt, T.; Quate, C. F. Appl Phys. Lett. 1999, 75, 3566.
18. Yu, X. C.; Zhang, R.; Peng, H. L.; Ran, C. B.; Zhang, Y. Y.; Liu, Z. F. J. Phys. Chem. B 2004, 108, 14800.
19. Yu, X. C.; Peng, H. L.; Ran, C.; Lei, S.; Zhang, R.; Liu, Z. F. Appl Phys. Lett. 2005, 86, 133105.
20. Peng, H. L.; Ran, C. B.; Yu, X. C.; Zhang, R.; F., L. Z. Adv. Mater. 2005, 17, 459.
21. Peng, H.; Chen, Z.; Tong, L.; Yu, X.; Ran, C.; Liu, Z. J. Phys. Chem. B 2005, 109, 3526.
22. Ran, C.; Peng, H.; Ren, L.; Zhou, W.; Ling, Y.; Liu, Z. J. Phys. Chem. C 2007, 111, 631.
23. Melby, L. R.; Harder, R. J.; Hertler, W. R.; Mahler, W.; Benson, R. E.; Mochel, W. E. J. Am. Chem. Soc. 1962, 84, 3374.
24. Filhol, A.; Thomas, M. Acta Crystallogr. 1984, B40, 44.
25. Shi, L.; Majumdar, A. J. Heat Transfer 2002, 124, 329.
26. Tsong, T. T. Phys. Rev. B 1991, 44, 13703.
27. Kondo, S.; Heike, S.; Lutwyehe, M.; Wada, Y. J. Appl. Phys. 1995, 78, 155.
28. Grassi, H.; Brau, A.; P., E. J. Phys. Status Solidi 1982, 112, 633.
29. Dolan, W. W.; Dyke, W. P.; Trolan, J. K. Phys. Rev. 1953, 91, 1054.