Temperature-dependent nanocrystal formation in Mo Si multilayers

Physical Review B - Condensed Matter and Materials Physics

Volumn 76, Issue 24, 2007, Pages

  Nedelcu, I ^a   Van De Kruijs, R W E ^a   Yakshin, A E ^a   Bijkerk, F ^a  

^a FOM INSTITUTE FOR PLASMA PHYSICS RIJNHUIZEN   (Netherlands)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 36849086367     PISSN: 10980121     EISSN: 1550235X     Source Type: Journal    
DOI: 10.1103/PhysRevB.76.245404     Document Type: Article

References (20)

1. H. Meiling, H. Meijer, V. Banine, R. Moors, R. Groeneveld, H. Voorma, U. Mickan, B. Wolschrijn, B. Mertens, G. van Baars, P. Kurz, and N. Harned, Proc. SPIE PSISDG 0277-786X 6151, 615108 (2006).
2. S. Bajt, J. Alameda, T. Barbee, W. M. Clift, J. A. Folta, B. Kaufmann, and E. Spiller, Opt. Eng. (Bellingham) OPEGAR 0091-3286 10.1117/1.1489426 41, 1797 (2002).
3. A. E. Yakshin, R. W. E. van de Kruijs, E. Zoethout, I. Nedelcu, E. Louis, F. Bijkerk, H. Enkisch, and S. Müllender, International EUVL Symposium, Barcelona, 2006 (http://www.sematech.org/meetings/archives/litho/euvl/7870/ index.htm).
4. E. Zoethout, G. Sipos, R. van de Kruijs, A. Yakshin, E. Louis, S. Muellender, and F. Bijkerk, Proc. SPIE PSISDG 0277-786X 5037, 106 (2003).
5. E. Louis, H.-J. Voorma, N. B. Koster, F. Bijkerk, Yu. Ya. Platonov, S. Yu. Zuev, S. S. Andreev, E. A. Shamov, and N. N. Salashchenko, Microelectron. Eng. MIENEF 0167-9317 10.1016/0167-9317(94)00096-D 27, 235 (1995).
6. E. Zoethout, P. Suter, R. W. E. van de Kruijs, A. E. Yakshin, E. Louis, F. Bijkerk, H. Enkisch, and S. Mullender, Proc. SPIE PSISDG 0277-786X 5374, 140 (2004).
7. ICCD database (http://www.iccd.com).
8. R. W. E. Kruijs, E. Zoethout, A. E. Yakshin, I. Nedelcu, E. Louis, F. Tichelaar, H. Enkisch, G. Sipos, S. Müllender, and F. Bijkerk, Thin Solid Films THSFAP 0040-6090 515, 430 (2005).
9. S. Yulin, T. Feigl, T. Kuhlmann, N. Kaiser, A. I. Fedorenko, V. V. Kondratenko, O. V. Poltseva, V. A. Sevryukova, A. Yu. Zolotaryov, and E. N. Zubarev, J. Appl. Phys. JAPIAU 0021-8979 10.1063/1.1487919 92, 1216 (2002).
10. S. Bajt, D. G. Stearns, and P. A. Kearney, J. Appl. Phys. JAPIAU 0021-8979 10.1063/1.1381559 90, 1017 (2001).
11. S. Braun, H. Mai, M. Moss, R. Scolz, and A. Leson, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 JAPNDE 0021-4922 10.1143/JJAP.41.4074 41, 4074 (2002).
12. A. E. Yakshin, E. Louis, P. C. Gorts, E. L. G. Maas, and F. Bijkerk, Physica B PHYBE3 0921-4526 10.1016/S0921-4526(99)01909-2 283, 143 (2000).
13. J. F. Ziegler and J. P. Biersack, TRIM, Annapolis, MD, 1984-2003 (http://www.srim.org).
14. B. E. Waren, X-Ray Diffraction (Dover, New York, 1999).
15. I. Nedelcu, R. W. E. van de Kruijs, A. E. Yakshin, and F. Bijkerk (unpublished).
16. S. P. Murarka, Silicides For VLSI Applications (Academic, Orlando, 1983).
17. R. S. Rosen, D. G. Stearns, M. A. Viliardos, M. E. Kassner, S. P. Vernon, and Y. Cheng, Appl. Opt. APOPAI 0003-6935 32, 6975 (1993).
18. C. Johnson, K. Anderson, A. Gromko, and D. Johnson, J. Am. Chem. Soc. JACSAT 0002-7863 10.1021/ja9802302 120, 5226 (1998).
19. V. V. Kondratenko, Yu. P. Perschin, O. V. Poltseva, A. I. Fedorenko, E. N. Zubarev, S. A. Yulin, I. V. Kozhevnikov, S. I. Sagitov, V. A. Chirkov, V. E. Levashov, and A. V. Vinogradov, Appl. Opt. APOPAI 0003-6935 32, 1811 (1993).
20. F. R. de Boer, R. Boom, W. C. M. Mattens, A. R. Miedema, and A. K. Niessen, Cohesion in Metals: Transition metal alloys (North-Holland, Amsterdam, 1988).