Thickness-dependent retention behaviors and ferroelectric properties of BiFe O3 thin films on BaPb O3 electrodes

Applied Physics Letters

Volumn 91, Issue 10, 2007, Pages

  Lee, Chia Ching ^a   Wu, Jenn Ming ^a  

^a NATIONAL TSING HUA UNIVERSITY   (Taiwan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

BARIUM COMPOUNDS; BISMUTH ALLOYS; ELECTROMAGNETIC WAVE POLARIZATION; FILM THICKNESS; HYSTERESIS LOOPS; MAGNETRON SPUTTERING;

BFO FILMS; EXPONENTIAL LAWS; POLARIZATION-ELECTRICAL FIELD HYSTERESIS LOOPS;

THIN FILMS;

EID: 34548476920     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.2775089     Document Type: Article

References (18)

1. Y. Hou, X. H. Xu, H. Wang, M. Wang, and S. X. Shang, Appl. Phys. Lett. 78, 1733 (2001).
2. J. F. Scott, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 38, 2272 (1999).
3. J. Wang, H. Zheng, Z. Ma, S. Prasertchoung, M. Wuttig, R. Droopad, J. Yu, K. Eisenbeiser, and R. Ramesh, Appl. Phys. Lett. 85, 2574 (2004).
4. Y. H. Lee, J. M. Wu, and C. H. Lai, Appl. Phys. Lett. 88, 042903 (2006).
5. S. K. Singh and H. Ishiwara, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 44, L734 (2005).
6. C. C. Lee, J. M. Wu, and C. P. Hsiung, Appl. Phys. Lett. 90, 182909 (2007).
7. C. S. Liang, J. M. Wu, and M. C. Chang, Appl. Phys. Lett. 81, 3624 (2002).
8. M. S. Chen, T. B. Wu, and J. M. Wu, Appl. Phys. Lett. 68, 1430 (1996).
9. W. T. Fu and D. J. W. Ijdo, Solid State Commun. 95, 581 (1995).
10. C. S. Liang and J. M. Wu, Appl. Phys. Lett. 87, 022906 (2005).
11. C. C. Lee and J. M. Wu, Appl. Surf. Sci. 253, 7069 (2007).
12. T. K. Song, S. Aggarwal, A. S. Prakash, B. Yang, and R. Ramesh, Appl. Phys. Lett. 71, 2211 (1997).
13. S. Prasertchoung, V. Nagarajan, Z. Ma, R. Ramesh, J. S. Cross, and M. Tsukada, Appl. Phys. Lett. 84, 3130 (2004).
14. W. Jo, D. C. Kim, and J. W. Hong, Appl. Phys. Lett. 76, 390 (2000).
15. B. S. Kang, J. G. Yoon, T. K. Song, S. Seo, Y. W. So, and T. W. Noh, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 41, 5281 (2002).
16. K. H. Xue, Z. G. Zhang, D. Xie, C. G. Wei, T. Z. Liu, T. L. Ren, and L. T. Liu, Integr. Ferroelectr. 79, 81 (2006).
17. A. Gruverman, H. Tokumoto, A. S. Prakash, S. Aggarwal, B. Yang, M. Wuttig, R. Ramesh, O. Auciello, and T. Venkatesan, Appl. Phys. Lett. 71, 3492 (1997).
18. R. R. Mehta, B. D. Silverman, and J. T. Jacobs, J. Appl. Phys. 44, 3379 (1973).