Highly (110)- and (111)-oriented BiFe O3 films on BaPb O3 electrode with Ru or PtRu barrier layers

Applied Physics Letters

Volumn 90, Issue 18, 2007, Pages

  Lee, Chia Ching ^a   Wu, Jenn Ming ^a   Hsiung, Chang Po ^a  

^a NATIONAL TSING HUA UNIVERSITY   (Taiwan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

BISMUTH; DIFFUSION BARRIERS; ELECTRODES; FERROELECTRICITY; MAGNETRON SPUTTERING; POLARIZATION; REMANENCE; RUTHENIUM;

FERROELECTRIC PROPERTIES; REMNANT POLARIZATION; SWITCHING POLARIZATION;

THIN FILMS;

EID: 34247874724     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.2736297     Document Type: Article

References (18)

1. G. A. Smolenskii, V. M. Yudin, E. S. Sher, and Y. E. Stolypin, Sov. Phys. JETP 16, 622 (1963).
2. P. Fischer, M. Polomska, I. Sosnowska, and M. Szymanski, J. Phys. C 13, 1931 (1980).
3. R. R. Das, D. M. Kim, S. H. Baek, C. B. Eom, F. Zavaliche, S. Y. Yang, R. Ramesh, Y. B. Chen, X. Q. Pan, X. Ke, M. S. Rzchowski, and S. K. Streiffer, Appl. Phys. Lett. 88, 242904 (2006).
4. J. Wang, H. Zheng, Z. Ma, S. Prasertchoung, M. Wuttig, R. Droopad, J. Yu, and K. Eisenbeiser, and R. Ramesh, Appl. Phys. Lett. 85, 2574 (2004).
5. R. Ramesh, W. K. Chan, B. Wilkens, H. Gilchrist, T. Sands, J. M. Tarascon, and V. G. Keramidas, Appl. Phys. Lett. 61, 1537 (1992).
6. M. S. Chen, T. B. Wu, and J. M. Wu, Appl. Phys. Lett. 68, 1430 (1996).
7. Y. R. Luo and J. M. Wu, Appl. Phys. Lett. 79, 3669 (2001).
8. T. Nitta, K. Nagase, S. Hayakawa, and Y. Iida, J. Am. Ceram. Soc. 48, 642 (1965).
9. C. S. Liang, J. M. Wu, and M. C. Chang, Appl. Phys. Lett. 81, 3624 (2002).
10. D. Maes, J. L. Everaert, L. Goux, J. G. Lisoni, V. Paraschiv, M. Schwitters, L. Haspeslagh, D. J. Wouters, C. Artoni, C. Caputa, P. Casella, G. Corallo, G. Russo, R. Zambrano, H. Monchoix, and L. Vanautryve, Integr. Ferroelectr. 61, 71 (2004).
11. L. Goux, D. Maes, J. G. Lisoni, H. V. Meeren, V. Paraschiv, L. Haspeslagh, C. Artoni, G. Russo, R. Zambrano, and D. J. Wouters, Microelectron. Eng. 83, 2027 (2006).
12. Y. K. Wang, T. Y. Tseng, and P. Lin, Electrochem. Solid-State Lett. 7, F1 (2004).
13. C. S. Liang and J. M. Wu, Appl. Phys. Lett. 87, 022906 (2005).
14. K. Reuter and M. Scheffler, Surf. Sci. 490, 20 (2001).
15. Y. H. Lee, C. S. Liang, and J. M. Wu, Electrochem. Solid-State Lett. 8, F55 (2005).
16. S. Yokoyama, T. Ozeki, T. Oikawa, and H. Funakubo, Integr. Ferroelectr. 59, 1429 (2003).
17. C. C. Lee and J. M. Wu, Appl. Surf. Sci. (in press) (DOI: 10.1016/j.physletb.2003.10.071).
18. T. K. Song, S. Aggarwal, A. S. Prakash, B. Yang, and R. Ramesh, Appl. Phys. Lett. 71, 2211 (1997).