-
1
-
-
36449007933
-
-
Fontaine, P.; Goguenheim, D.; Deresmes, D.; Vuillaume, D. Appl. Phys. Lett. 1993, 62, 2256.
-
(1993)
Appl. Phys. Lett.
, vol.62
, pp. 2256
-
-
Fontaine, P.1
Goguenheim, D.2
Deresmes, D.3
Vuillaume, D.4
-
2
-
-
7244254578
-
-
Halik, M.; Klauk, H.; Zschleschang, U.; Schmid, G.; Dehm, C.; Schutz, M.; Maisch, S.; Effenberger, F.; Brunnbauer, M.; Stellacci, F. Nature 2004, 431, 963.
-
(2004)
Nature
, vol.431
, pp. 963
-
-
Halik, M.1
Klauk, H.2
Zschleschang, U.3
Schmid, G.4
Dehm, C.5
Schutz, M.6
Maisch, S.7
Effenberger, F.8
Brunnbauer, M.9
Stellacci, F.10
-
3
-
-
16344366005
-
-
Yoon, M.-H.; Facchetti, A.; Marks, T. J. Proc. Natl. Acad. Sci. U.S.A. 2005, 102, 4678.
-
(2005)
Proc. Natl. Acad. Sci. U.S.A.
, vol.102
, pp. 4678
-
-
Yoon, M.-H.1
Facchetti, A.2
Marks, T.J.3
-
4
-
-
22944446145
-
-
Yoon, M.-H.; Yan, H.; Facchetti, A.; Marks, T. J. J. Am. Chem. Soc. 2005, 127, 10388.
-
(2005)
J. Am. Chem. Soc.
, vol.127
, pp. 10388
-
-
Yoon, M.-H.1
Yan, H.2
Facchetti, A.3
Marks, T.J.4
-
5
-
-
8644224137
-
-
Chen, F.-C.; Chu, C.-W.; He, C.; Yang, Y.; Lin, J.-L. Appl. Phys. Lett. 2004, 55, 3295.
-
(2004)
Appl. Phys. Lett.
, vol.55
, pp. 3295
-
-
Chen, F.-C.1
Chu, C.-W.2
He, C.3
Yang, Y.4
Lin, J.-L.5
-
6
-
-
20644441006
-
-
Schroeder, R.; Majewski, L. A.; Grell, M. Adv. Mater. 2005, 17, 1535.
-
(2005)
Adv. Mater.
, vol.17
, pp. 1535
-
-
Schroeder, R.1
Majewski, L.A.2
Grell, M.3
-
7
-
-
28144453662
-
-
Ju, S.; Lee, K.; Janes, D.; Yoon, M.-H.; Facchetti, A.; Marks, T. J. Nano Lett. 2005, 5, 2281.
-
(2005)
Nano Lett.
, vol.5
, pp. 2281
-
-
Ju, S.1
Lee, K.2
Janes, D.3
Yoon, M.-H.4
Facchetti, A.5
Marks, T.J.6
-
8
-
-
26444528902
-
-
Hur, S.-H.; Yoon, M.-H.; Gaur, A.; Shim, M.; Facchetti, A.; Marks, T. J.; Rogers, J. J. Am. Chem. Soc. 2005, 127, 13808.
-
(2005)
J. Am. Chem. Soc.
, vol.127
, pp. 13808
-
-
Hur, S.-H.1
Yoon, M.-H.2
Gaur, A.3
Shim, M.4
Facchetti, A.5
Marks, T.J.6
Rogers, J.7
-
9
-
-
84906407742
-
-
Wang, L.; Yoon, M.-H.; Facchetti, A.; Marks, T. J. Nat. Mater., in press.
-
Nat. Mater., in Press
-
-
Wang, L.1
Yoon, M.-H.2
Facchetti, A.3
Marks, T.J.4
-
10
-
-
0033353420
-
-
Dimitrakopoulos, C. D.; Kymissis, I.; Purushothaman, S.; Neumayer, D. A.; Duncombe, P. R.; Laibowitz, R. B. Adv. Mater. 1999, 11, 1372.
-
(1999)
Adv. Mater.
, vol.11
, pp. 1372
-
-
Dimitrakopoulos, C.D.1
Kymissis, I.2
Purushothaman, S.3
Neumayer, D.A.4
Duncombe, P.R.5
Laibowitz, R.B.6
-
11
-
-
23044480892
-
-
Facchetti, A.; Yoon, M.-H.; Marks, T. J. Adv. Mater. 2005, 17, 1705.
-
(2005)
Adv. Mater.
, vol.17
, pp. 1705
-
-
Facchetti, A.1
Yoon, M.-H.2
Marks, T.J.3
-
12
-
-
9144226415
-
-
Cao, Y.; Irwin, P. C.; Younsi, K. IEEE Trans. Dielectr. Electr. Insul. 2004, 11, 797.
-
(2004)
IEEE Trans. Dielectr. Electr. Insul.
, vol.11
, pp. 797
-
-
Cao, Y.1
Irwin, P.C.2
Younsi, K.3
-
15
-
-
84906369095
-
-
Veres, J.; Ogier, S.; Lloyd, G. Chem. Mater. 2004, 16, 4353.
-
(2004)
Chem. Mater.
, vol.16
, pp. 4353
-
-
Veres, J.1
Ogier, S.2
Lloyd, G.3
-
16
-
-
0035872897
-
-
Wilk, G. D.; Wallace, R. M.; Anthony, J. M. J. Appl. Phys. 2001, 89, 5243.
-
(2001)
J. Appl. Phys.
, vol.89
, pp. 5243
-
-
Wilk, G.D.1
Wallace, R.M.2
Anthony, J.M.3
-
17
-
-
33645198980
-
-
January and references therein
-
For advances in dielectrics of conventional semiconductors, see: Chau, R. S. Technology@Intel Magazine, January 2004; and references therein.
-
(2004)
Technology@Intel Magazine
-
-
Chau, R.S.1
-
18
-
-
25144484310
-
-
(a) Murugaraj, P.; Mainwaring, D.; Mora-Huertas, N. J. Appl. Phys. 2005, 98, 054304-1.
-
(2005)
J. Appl. Phys.
, vol.98
, pp. 54304-54311
-
-
Murugaraj, P.1
Mainwaring, D.2
Mora-Huertas, N.3
-
19
-
-
0037016210
-
-
(b) Halik, M.; Klauk, H.; Zschieschang, U.; Schmid, G.; Radlik, W.; Weber, W. Adv. Mater. 2002, 14, 1717.
-
(2002)
Adv. Mater.
, vol.14
, pp. 1717
-
-
Halik, M.1
Klauk, H.2
Zschieschang, U.3
Schmid, G.4
Radlik, W.5
Weber, W.6
-
22
-
-
2942559049
-
-
Du, H.; Chen, H.; Gong, J.; Wang, T. G.; Sun, C.; Lee, S. W.; Wen, L. S. Appl. Surf. Sci. 2004, 233, 99.
-
(2004)
Appl. Surf. Sci.
, vol.233
, pp. 99
-
-
Du, H.1
Chen, H.2
Gong, J.3
Wang, T.G.4
Sun, C.5
Lee, S.W.6
Wen, L.S.7
-
25
-
-
84906414107
-
-
Rao, Y.; Qu, J.; Marinis, T.; Wong, C. P. IEEE Trans. Compon., Packag. Technol. 2000, 23, 1521.
-
(2000)
IEEE Trans. Compon., Packag. Technol.
, vol.23
, pp. 1521
-
-
Rao, Y.1
Qu, J.2
Marinis, T.3
Wong, C.P.4
-
27
-
-
84906370696
-
-
Tuncert, E.; Serdyuk, Y. V.; Gubanski, S. M. ArXiv: cond-mat/0111254
-
Tuncert, E.; Serdyuk, Y. V.; Gubanski, S. M. ArXiv: cond-mat/0111254.
-
-
-
-
28
-
-
0031097379
-
-
Sareni, B.; Krahenbul, L.; Beroual, A.; Brosseau, C. J. Appl. Phys. 1997, 87, 2375.
-
(1997)
J. Appl. Phys.
, vol.87
, pp. 2375
-
-
Sareni, B.1
Krahenbul, L.2
Beroual, A.3
Brosseau, C.4
-
29
-
-
0037444932
-
-
Ang, C.; Yu, Z.; Guo, R.; Bhalla, A. S. J. Appl. Phys. 2003, 93, 3475.
-
(2003)
J. Appl. Phys.
, vol.93
, pp. 3475
-
-
Ang, C.1
Yu, Z.2
Guo, R.3
Bhalla, A.S.4
-
31
-
-
7044252004
-
-
Lam, K. S.; Wong, Y. W.; Tai, L. S.; Poon, Y. M.; Shin, F. G. J. Appl. Phys. 2004, 96, 3896.
-
(2004)
J. Appl. Phys.
, vol.96
, pp. 3896
-
-
Lam, K.S.1
Wong, Y.W.2
Tai, L.S.3
Poon, Y.M.4
Shin, F.G.5
-
33
-
-
0024082466
-
-
Inoue, T.; Pethig, R.; Al-Meen, T. A. K.; Burt, J. P. H.; Price, J. A. J. Electrost. 1988, 21, 215.
-
(1988)
J. Electrost.
, vol.21
, pp. 215
-
-
Inoue, T.1
Pethig, R.2
Al-Meen, T.A.K.3
Burt, J.P.H.4
Price, J.A.5
-
36
-
-
0037157688
-
-
Arroyo, F. J.; Delgado, A. V.; Carrique, F.; Jimenez, M. L.; Bellini, T.; Mantegazza, F. J. Chem. Phys. 2002, 116, 10973.
-
(2002)
J. Chem. Phys.
, vol.116
, pp. 10973
-
-
Arroyo, F.J.1
Delgado, A.V.2
Carrique, F.3
Jimenez, M.L.4
Bellini, T.5
Mantegazza, F.6
-
38
-
-
3342945221
-
-
(b) Bekkali, A.-E.-H.; Thurzo, I.; Kampen, T. U.; Zahn, D. R. T. Appl. Surf. Sci. 2004, 234, 149.
-
(2004)
Appl. Surf. Sci.
, vol.234
, pp. 149
-
-
Bekkali, A.-E.-H.1
Thurzo, I.2
Kampen, T.U.3
Zahn, D.R.T.4
-
40
-
-
84906385031
-
-
Assuming no extrinsic doping processes and a pinhole-free film
-
Assuming no extrinsic doping processes and a pinhole-free film.
-
-
-
-
42
-
-
84906396665
-
-
Bergman, D. J.; Li, X.; Kim, K.; Stroud, D. Proc. SPIE-Int. Soc. Opt. Eng. 2005, 5924, 118.
-
(2005)
Proc. SPIE-Int. Soc. Opt. Eng.
, vol.5924
, pp. 118
-
-
Bergman, D.J.1
Li, X.2
Kim, K.3
Stroud, D.4
|