Systematic study of the growth of aligned arrays of α-Fe 2O3 and Fe3O4 nanowires by a vapor-solid process

Advanced Functional Materials

Volumn 16, Issue 17, 2006, Pages 2243-2251

  Chueh, Yu Lun ^a,b   Lai, Ming Wei ^a,c   Liang, Jia Qi ^a   Chou, Li Jen ^a   Wang, Zhong Lin ^b  

^a NATIONAL TSING HUA UNIVERSITY   (Taiwan)

^b Georgia Institute of Technology   (United States)

^c INDUSTRIAL TECHNOLOGY RESEARCH INSTITUTE   (Taiwan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

CONCENTRATION (PROCESS); GROWTH (MATERIALS); IRON COMPOUNDS; PHASE TRANSITIONS; SUBSTRATES; SYNTHESIS (CHEMICAL);

ALLOY SUBSTRATES; GAS-FLOW RATE; NANOWIRE ARRAYS; VAPOR-SOLID PROCESSES;

NANOSTRUCTURED MATERIALS;

EID: 33751066377     PISSN: 1616301X     EISSN: 16163028     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/adfm.200600499     Document Type: Article

References (54)

1. C. S. Lao, P. X. Gao, L. Zhang, D. Davidovic, R. Tummala, Z. L. Wang, Nano Lett. 2006, 6, 263.
2. J. Zhou, S. Z. Deng, L. Gong, Y. Ding, J. Chen, J. X. Huang, J. Chen, N. S. Xu, Z. L. Wang, J. Phys. Chem. B 2006, 110, 10 296.
3. A. Ponzoni, E. Comini, G. Sberveglieri, J. Zhou, S. Z. Deng, N. S. Xu, Y. Ding, Z. L. Wang, Appl. Phys. Lett. 2006, 88, 203 106.
4. Y. Zhang, L. Li, H. Li, L. D. Zhang, Phys. Rev. B 2006, 73, 113 403.
5. B. Y. Geng, X. W. Liu, Q. B. Du, X. W. Wei, L. D. Zhang, Appl. Phys. Lett. 2006, 88, 163 104.
6. S. Yang, H. Zhu, D. Yu, Z. Jin, S. Tang, Y. Ru, J. Magn. Magn. Mater. 2000, 222, 97.
7. D. H. Zhang, Z. Q. Liu, S. Hau, C. Li, B. Lei, M. D. Stewart, J. M. Tour, C. W. Zhou, Nano Lett. 2004, 4, 2151.
8. P. Chauhan, S. Annapoorni, S. K. Trikha, Thin Solid Films 1999, 346, 266.
9. T. Ohmori, H. Takahashi, H. Mametsuka, E. Suzuki, Phys. Chem. Chem. Phys. 2000, 2, 3519.
10. W. Weiss, D. Zscherpel, R. Schlogl, Catal. Lett. 1998, 52, 215.
11. Y. Fu, J. Chen, H. Zhang, Chem. Phys. Lett. 2001, 350, 491.
12. R. M. Cornell, U. Schwertmann, The Iron Oxide: Structure, Properties, Reactions, Occurrence, and Uses, VCH, New York 1996.
13. Y. Fu, J. Chen, H. Zhang, Chem. Phys. Lett. 2003, 379, 373.
14. X. G. Wen, S. H. Wang, Y. Ding, Z. L. Wang, S. Yang, J. Phys. Chem. B 2005, 109, 215.
15. J. Wang, Q. W. Chen, C. Zheng, B. Y. Hou, Adv. Mater. 2004, 16, 137.
16. J. X. Wan, X. Y. Chen, Z. H. Wang, X. G. Yang, Y. T. Qian, J. Cryst. Growth 2005, 276, 371.
17. D. S. Xue, L. Y. Zhang, C. X. Gao, X. F. Xu, A. B. Gui, Chin. Phys. Lett. 2004, 21, 773.
18. J. B. Yang, H. Xu, S. X. You, X. D. Zhou, C. S. Wang, W. B. Yelon, W. J. James, J. Appl. Phys. 2006, 99, 08Q507.
19. F. Liu, P. J. Cao, H. U. Zhang, J. F. Tian, C. W. Xiao, C. M. Shen, J. Q. Li, H. J. Gao, Adv. Mater. 2005, 17, 1893.
20. C. H. Ye, X. S. Fang, Y. F. Hao, X. M. Teng, L. D. Zhang, J. Phys. Chem. B 2005, 109, 19 758.
21. Y. F. Hao, G. W. Meng, C. H. Ye, X. R. Zhang, L. D. Zhang, J. Phys. Chem. B 2005, 109, 11 204.
22. Y. F. Hao, G. W. Meng, C. H. Ye, L. D. Zhang, Cryst. Growth Des. 2005, 5, 1617.
23. E. I. Givargizov, Highly Anisotropic Crystal, 8th ed., Terra Scientific, Tokyo 1987.
24. R. Takagi, J. Phys. Soc. Jpn. 1957, 12, 1212.
25. B. Million, J. Ruzickova, J. Velisek, J. Verstal, Mater. Sci. Eng. 1981, 50, 43.
26. I. N. Franstevich, D. F. Kalinovich, I. I. Kovenskii, M. D. Smolin, J. Phys. Chem. Solids 1969, 30, 947.
27. T. Ustad, H. Sorum, Phys. Status Solidi 1973, 20, 286.
28. B. Y. Zong, Y. H. Wu, G. H. Han, B. J. Yang, P. Luo, L. Wang, J. J. Oiu, K. B. Li, Chem. Mater. 2005, 17, 1515.
29. G. Y. Yang, E. C. Dickey, C. A. Randall, M. S. Randall, L. A. Mann, J. Appl. Phys. 2003, 94, 5990.
30. A. Travlos, N. Boukos, G. Apostolopoulos, A. Dimoulas, Appl. Phys. Lett. 2003, 82, 4053.
31. Z. L. Wang, J. S. Yin, Y. D. Jiang, J. Zhang, Appl. Phys. Lett. 1997, 70, 3362.
32. C. Colliex, M. Tencé, E. Lefèvre, C. Mory, H. Gu, D. Bouchet, C. Jeanguillaume, Mikrochim. Acta 1994, 114, 71.
33. C. Colliex, T. Manoubi, C. Ortiz, Phys. Rev. B 1991, 44, 11 402.
34. H. Kurata, E. Lefèvre, C. Colliex, R. Brydson, Phys. Rev. B 1993, 47, 13 763.
35. J. Jasinski, K. E. Pinkerton, I. M. Kennedy, V. J. Leppert, Sens. Actuators B 2005, 109, 19.
36. D. H. Pearson, B. Fultz, C. C. Ahn, Appl. Phys. Lett. 1988, 53, 1405.
37. Z. L. Wang, J. S. Yin, Philos. Mag. B 1998, 77, 49.
38. J. H. Zhu, Office of Fossil Energy Fuel cell program, FY 2005 annual report, III. A.16 P113, Tampa, FL.
39. J. Q. Liang, M. T. Chang, Y. L. Chueh, L. J. Chou, unpublished.
40. A. Grill, Cold Plasma in Materials Fabrication: From Fundamentals to Application, IEEE, New York 1993.
41. M. Ohring, The Materials Science Of Thin Films, Academic, San Diego, CA 1992.
42. Z. L. Wang, J. S. Yin, W. D. Mo, Z. J. Zhang, J. Phys. Chem. B 1997, 101, 6793.
43. M. F. Hansen, C. B. Koch, S. Morup, Phys. Rev. B 2000, 62, 112 432.
44. S. O. Kasap, Principle Of Electronic Materials and Devcies, 2nd ed., McGraw Hill, New York 2002.
45. L. Q. Xu, W. Q. Zhang, Y. W. Ding, Y. Y. Deng, S. Y. Zhang, W. C. Yu, Y. F. Qian, J. Phys. Chem. B 2004, 108, 10 859.
46. J. Wang, Q. W. Chen, C. Zeng, B. Y. Hou, Adv. Mater. 2004, 16, 137.
47. W. Shi, H. Zeng, Y. Sahoo, T. Y. Ohulchanskyy, Y. Ding, Z. L. Wang, M. Swihart, P. N. Prasad, Nano Lett. 2006, 6, 875.
48. Y. L. Chueh, L. J. Chou, C. H. Hsu, S. C. Kung, J. Phys. Chem. B 2005, 109, 21 831.
49. E. R. Batista, R. A. Friesner, J. Phys. Chem. B 2002, 106, 8136.
50. Y. L. Chueh, L. J. Chou, S. L. Cheng, J. H. He, W. W. Wu, L. J. Chen, Appl. Phys. Lett. 2005, 86, 133 112.
51. Y. W. Ok, T. Y. Seong, C. J. Choi, K. N. Tu, Appl. Phys. Lett. 2006, 88, 043 106.
52. Q. Xiang, Q. X. Wang, Z. Wang, X. Z. Zhang, L. Q. Liu, J. Xu, D. P. Yu, Appl. Phys. Lett. 2005, 86, 243 103.
53. J. H. He, T. H. Wu, C. L. Hsin, K. M. Li, L. J. Chen, Y. L. Chueh, L. J. Chou, Z. L. Wang, Small 2006, 2, 116
54. J. H. He, R. S.Yang, Y. L. Chueh, L. J. Chou, L. J. Chen, Z. L.Wang, Adv. Mater. 2006, 18, 650.