BiFeO3 film deposited on Si substrate buffered with La 0.7Sr0.3MnO3 electrode

Applied Physics Letters

Volumn 89, Issue 18, 2006, Pages

  Wang, D H ^a,b   Yan, L ^b   Ong, C K ^b   Du, Y W ^a  

^a NANJING UNIVERSITY   (China)

^b NATIONAL UNIVERSITY OF SINGAPORE   (Singapore)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

BISMUTH COMPOUNDS; CURRENT DENSITY; ELECTRODES; LEAKAGE CURRENTS; MULTILAYERS; POLYCRYSTALLINE MATERIALS; PULSED LASER DEPOSITION; X RAY DIFFRACTION; X RAY PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY;

BOTTOM ELECTRODES; MULTILAYER FILMS; REMANENT POLARIZATION; VALENCE NUMBER;

THIN FILMS;

EID: 33750707933     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.2374805     Document Type: Article

References (26)

1. N. A. Hill, J. Phys. Chem. B 104, 6694 (2000).
2. N. A. Spaldin and M. Fiebig, Science 309, 391 (2005).
3. G. A. Smolenskii and I. Chupis, Sov. Phys. Usp. 25, 475 (1982).
4. Y. P. Wang, L. Zhou, M. F. Zhang, X. Y. Chen, J. M. Liu, and Z. G. Liu, Appl. Phys. Lett. 84, 1731 (2004).
5. D. H. Wang, W. C. Goh, M. Ning, and C. K. Ong, Appl. Phys. Lett. 88, 212907 (2006).
6. J. Wang, J. B. Neaton, H. Zheng, V. Nagarajan, S. B. Ogale, B. Liu, D. Viehland, V. Vaithyanathan, D. G. Schlom, U. V. Waghmare, N. A. Spaldin, K. M. Rabe, M. Wuttig, and R. Ramesh, Science 299, 1719 (2003).
7. J. Li, J. Wang, M. Wutting, B. Ruete, A. P. Pyatakov, A. K. Zvezdin, and D. Viehland, Appl. Phys. Lett. 84, 5261 (2004).
8. K. Y. Yun, M. Noda, and M. Okuyama, Appl. Phys. Lett. 83, 3981 (2003).
9. J. Wang, H. Zheng, Z. Ma, S. Prasertchoung, M. Wuttig, R. Droopad, J. Yu, K. Eisenbeiser, and R. Ramesh, Appl. Phys. Lett. 85, 2574 (2005).
10. Y. Lee, J. Wu, and C. Lai, Appl. Phys. Lett. 88, 042903 (2006).
11. Y. Wang, Q. H. Jiang, H. C. He, and C. W. Nan, Appl. Phys. Lett. 88, 142503 (2006).
12. M. Es-Souni, M. Kuhnke, S. Iakovlev, C.-H. Solterbeck, and A. Piorra, Appl. Phys. Lett. 86, 022907 (2005).
13. G. Srinivasan, E. T. Rasmussen, B. J. Levin, and R. Hayes, Phys. Rev. B 65, 134402 (2002).
14. M. P. Singh, W. Prellier, L. Mechin, and B. Raveau, Appl. Phys. Lett. 88, 012903 (2006).
15. M. A. Zurbuchen, T. Wu, S. Saha, J. Mitchell, and S. K. Streiffer, Appl. Phys. Lett. 87, 232908 (2005).
16. T. Wu, M. A. Zurbuchen, S. Saha, R.-V. Wang, S. K. Streiffer, and J. F. Mitchell, Phys. Rev. B 73, 134416 (2006).
17. S. Mathews, R. Ramesh, T. Venkatesan, and J. Benedetto, Science 276, 238 (1997).
18. P. Mills and J. L. Sullivan, J. Phys. D 16, 723 (1983).
19. K. J. Choi, M. Biegalski, Y. L. Li, A. Sharan, J. Schubert, R. Uecker, P. Reiche, Y. B. Chen, X. Q. Pan, V. Gopalan, L.-Q. Chen, D. G. Schlom, and C. B. Eom, Science 306, 1005 (2004).
20. A. L. Roytburd, S. P. Alpay, V. Nagarajan, C. S. Ganpule, S. Aggarwal, E. D. Williams, and R. Ramesh, Phys. Rev. Lett. 85, 190 (2000).
21. X. D. Qi, J. Dho, R. Tomov, M. G. Blamire, and J. L. Macmanus-Driscoll, Appl. Phys. Lett. 86, 062903 (2005).
22. J. B. Neaton, C. Ederer, U. V. Waghmare, N. A. Spaldin, and K. M. Rabe, Phys. Rev. B 71, 014113 (2005).
23. R. V. Demin, L. I. Koroleva, and A. M. Balbashov, J. Magn. Magn. Mater. 177-181, 871 (1998).
24. B. Dabrowski, L. Gladczuk, A. Wisniewski, Z. Bukowski, R. Dybzinski, A. Szewczyk, M. Gutowska, S. Kolesnik, C. W. Kimball, and H. Szymczak, J. Appl. Phys. 87, 3011 (2000).
25. C. W. Nan, M. Li, X. Q. Feng, and S. Yu, Appl. Phys. Lett. 78, 2527 (2001).
26. Shuxiang Dong, Jinrong Cheng, J. F. Li, and D. Viehland, Appl. Phys. Lett. 83, 4812 (2003).