Reaction of alkenes with hydrogen-terminated and photooxidized silicon surfaces. A comparison of thermal and photochemical processes

Langmuir

Volumn 22, Issue 20, 2006, Pages 8359-8365

  Mischki, Trevor K ^b   Donkers, Robert L ^b   Eves, Brian J ^b   Lopinski, Gregory P ^b   Wayner, Danial D M ^a  

^a NATIONAL RESEARCH COUNCIL CANADA   (Canada)

^b CARLETON UNIVERSITY   (Canada)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

BICOMPONENT; MICROPATTERNING; MONOLAYER FORMATION; PHOTOMASK;

FOURIER TRANSFORM INFRARED SPECTROSCOPY; HIGH RESOLUTION ELECTRON MICROSCOPY; HYDROGEN; MASKS; MONOLAYERS; PHOTOCHEMICAL REACTIONS; PHOTOOXIDATION; SILICON; ULTRAVIOLET RADIATION; X RAY PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY;

OLEFINS;

ALKENE; HYDROGEN; SILICON;

ARTICLE; ARTIFICIAL MEMBRANE; CHEMISTRY; COMPARATIVE STUDY; OXIDATION REDUCTION REACTION; PHOTOCHEMISTRY; ULTRAVIOLET RADIATION;

ALKENES; HYDROGEN; MEMBRANES, ARTIFICIAL; OXIDATION-REDUCTION; PHOTOCHEMISTRY; SILICON; ULTRAVIOLET RAYS;

EID: 33749593086     PISSN: 07437463     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/la060797t     Document Type: Article

References (33)

1. Willner, I.; Latz, E. Angew. chem., Int. Ed. 2000, 39, 1180.
2. de Smet, L. C. P. M.; Stork, G. A.; Hurenkamp, G. H. F.; Sun, Q.-Y.; Topal, H.; Vronen, P. J. E.; Sieval, A. B.; Wright, A.; Visser, G. M.; Zuilhof, H.; Sudhoelter, E. J. R. J. Am. Chem. Soc. 2003, 125, 13916-13917.
3. Roth, K. M.; Yasseri, A. A.; Liu, Z.; Dabke, R. B.; Malinovskii, V.; Schweikart, K.-H.; Yu, L.; Tiznado, H.; Zaera, F.; Lindsey, J. S.; Ruhr, W. G.; Bocian, D. F. J. Am. Chem. Soc. 2003, 125, 505-517.
4. Tomizaki, K. Y.; Usui, K.; Mihara, H. ChemBioChem 2005, 6, 783-799.
5. Koehler, A. N.; Shamji, A. F.; Schreiber, S. L. J. Am. Chem. Soc. 2003, 125, 8420-8421
6. Ostuni, E.; Chapman, R. G.; Holmin, R. E.; Takayama, S.; Whitesides, G. M. Langmuir 2001, 17, 5605-5620.
7. Yeo, W. S.; Min, D. H.; Hsieh, R. W.; Greene, G. L.; Mrksich, M. Angew. Chem., Int. Ed. 2005, 44, 5480-5483.
8. Zheng, G. F.; Patolsky, F.; Cui, Y.; Wang, W. U.; Lieber, C. M. Nat. Biotech. 2005, 23, 1294-1301.
9. Uslu, F.; Ingebrandt, S.; Mayer, D.; Böcker-Meffert, S.; Odenthal, M.; Offenhäusser, A. Biosens. Bioelectron. 2004, 19, 1723-1731.
10. Cläre, T. L.; Cläre, B. H.; Nichols, B. M.; Abbott, N. L.; Hamers, R. J. Langmuir 2005, 21, 6344-6355.
11. Perring, M.; Dutta, S.; Arafat, S.; Mitchell, M.; Kenis, P. J. A.; Bowden, N. B. Langmuir 2005, 21, 10537-10544.
12. Bocking, T.; Kilian, K. A.; Hanley, T.; Ilyas, S.; Gaus, K.; Gal, M.; Gooding, J. J. Langmuir 2005, 21, 10522-10529.
13. Wojtyk, J. T. C.; Tomietto, M.; Boukherroub, R.; Wayner, D. D. M. J. Am. Chem. Soc. 2001, 123, 1535-1536.
14. Aizawa, M.; Buriak, J. M. J. Am. Chem. Soc. 2005, 127, 8932-8933.
15. Yang, L.; Lua, Y.-Y.; Lee, M. V.; Linford, M. R. Acc. Chem. Res. 2005, 38, 933-942.
16. Linford, M. R.; Chidsey, C. E. D. J. Am. Chem. Soc. 1993, 115, 12631-12632.
17. Linford, M. R.; Fenter, P.; Eisenberger, P. M.; Chidsey, C. E. D. J. Am. Chem. Soc. 1995, 117, 3145-3155.
18. Terry, J.; Linford, M. R.; Wigren, C.; Cao, R.; Pianetta, P.; Chidsey, C. E. D. Appl. Phys. Lett. 1997, 71, 1056.
19. Cicero, R. L.; Linford, M. R.; Chidsey, C. E. D. Langmuir 2000, 16, 5688-5695.
20. Lopinski, G. P.; Fabre, B.; Wayner, D. D. M. J. Phys. Chem. B, submitted for publication, 2006.
21. Mitchell, S. A. J. Phys. Chem. B 2003, 107, 9388.
22. Dumas, P.; Chabal, Y. J. Chem. Phys. Lett. 1991, 181, 537.
23. Stuhlmann, Ch.; Bogdányi, G.; Ibach, H. Phys. Rev. B 1992, 45, 6786.
24. Ikeda, H.; Nakagawa, Y.; Toshima, M.; Furuta, S.; Zaima, S.; Yasuda, Y. Appl. Suif. Sci. 1997, 117/118, 109.
25. Weldon, M. K.; Stefanov, B. B.; Raghavachari, K.; Chabal, Y. J. Phys. Rev. Len. 1997, 79, 2851.
26. Schaeffer, J. A.; Frankel, D.; Stucki, F.; Gopel, W.; Lapeyre, G. J. Surf. Sci. 1984, 139, L209.
27. Eves, B. J.; Lopinski, G. P. Langmuir 2006, 22, 3180.
28. Wang, S. D.; Dong, X.; Lee, C. S.; Lee, S. T. J. Phys. Chem. B 2005, 109, 9892.
29. Queeney, K. T.; Weldon, M. K.; Chang, J. P.; Chabal, Y. J.; Gurevich, A. B.; Sapjeta, J.; Opila, R. L. J. Appl. Phys. 2000, 87, 1322.
30. Boukherroub, R.; Morin, S.; Bensebaa, F.; Wayner, D. D. M. Langmuir 1999, 15, 3831-3835.
31. Ishikawa, H.; Yoda, E.; Kondo, J. N.; Wakabayashi, F.; Domen, K. J. Phys. Chem. B 1999, 103, 5681-5686.
32. Babitz, S. M.; Williams, B. A.; Miller, J. T.; Snurr, R. Q.; Haag, W. O.; Kung, H. H. Appl. Catal., A 1999, 179, 71-86.
33. Narbeshuber, T. F.; Brait, A.; Seshan, K.; Lercher, J. A. J. Catal. 1997, 172, 127-136.