Metal oxide nano-honeycombs prepared by solution-based nanosphere lithography and the field emission properties

Chemistry of Materials

Volumn 18, Issue 19, 2006, Pages 4544-4546

  Kei, Chi Chung ^a,b   Kuo, Kun Hua ^a   Su, Chien Ying ^b   Lee, Chao Te ^b   Hsiao, Chien Nan ^b   Perng, Tsong Pyng ^a  

^a NATIONAL TSING HUA UNIVERSITY   (Taiwan)

^b INSTRUMENT TECHNOLOGY RESEARCH CENTER   (Taiwan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

FIELD EMISSION; NANO-HONEYCOMB; NICKEL NITRATE;

LITHOGRAPHY; NICKEL COMPOUNDS; POLYPROPYLENES; SELF ASSEMBLY; SILICA;

NANOSTRUCTURED MATERIALS;

EID: 33749548568     PISSN: 08974756     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/cm061055o     Document Type: Article

References (24)

1. Creyson, E. C.; Babayan, Y.; Odom, T. W. Adv. Mater. 2004, 16, 1348.
2. Wang, X.; Summers, C. J.; Wang, Z. L. Nano Lett. 2004, 4, 423.
3. Albrecht, M.; Ganesan, S.; Rettner, C. T.; Moser, A.; Best, M. E.; White, R. L.; Terns, B. D. IEEE Trans. Magn. 2003, 39, 2323.
4. Braun, P. V.; Wiltzius, P. Nature 1999, 402, 603.
5. Haes, A. J.; Hall, W. P.; Chang, L.; Klein, W. L.; Van Duyne, R. P. Nano Lett. 2004, 4, 1029.
6. Gröning, O.; Küttel, O. M.; Emmenegger, C.; Gröming, P.; Schlapbach, L. J. Vac. Sci. Technol., B 2000, 18, 665.
7. Musatov, A. L.; Kiselev, N. A.; Zakharov, D. N.; Kukovitskii, E. F.; Zhbanov, A. I.; Izrael'yants, K. R.; Chirkova, E. G. Appl. Surf. Sci. 2001, 183, 111.
8. Zhang, J.; Cheng, Y.; Lee, Y. Z.; Gao, B.; Qiu, Q.; Lin, W. L.; Lalush, D.; Lu, J. P.; Zhou, O. Rev. Sci. Instrum. 2005, 76, 094301.
9. Wang, Q. H.; Setlur, A. A.; Lauerhaas, J. M.; Dai, J. Y.; Seelig, E. W.; Chang, R. P. H. Appl. Phys. Lett. 1998, 72, 2912.
10. Bower, C.; Zhu, W.; Shalom, D.; Lopez, D.; Chen, L. H.; Gammel, P. L.; Jin, S. Appl. Phys. Lett. 2002, 80, 3820.
11. Zhu, Y. W.; Zhang, H. Z.; Sun, X. C.; Feng, S. Q.; Xu, J.; Zhao, Q.; Xiang, B.; Wang, R. M.; Yu, D. P. Appl. Phys. Lett. 2003, 83, 144.
12. Hsieh, C. T.; Chen, J. M.; Lin, H. H.; Shih, H. C. Appl. Phys. Lett. 2003, 83, 3383.
13. Chen, R. S.; Huang, Y. S.; Liang, Y. M.; Hsieh, C. S.; Tsai, D. S.; Tiong, K. K. Appl. Phys. Lett. 2004, 84, 1552.
14. Zhou, J.; Xu, N. S.; Deng, S. Z.; Chen, J.; She, J. C.; Wang, Z. L. Adv. Mater. 2003, 75, 1835.
15. Hsieh, C. S.; Tsai, D. S.; Chen, R. S.; Huang, Y. S. Appl. Phys. Lett. 2004, 85, 3860.
16. Haynes, C. L.; Van Duyne, R. P. J. Phys. Chem. B 2001, 705, 5599.
17. Chen, X.; Chen, Z.; Fu, N.; Lu, G.; Yang, B. Adv. Mater. 2003, 15, 1413.
18. Barton, J. E.; Odom, T. W. Nano Lett. 2004, 4, 1525.
19. Whitney, A. V.; Myers, B. D.; Van Duyne, R. P. Nano Lett. 2004, 4, 1507.
20. Sato, H.; Minami, T.; Takata, S.; Yamada, T. Thin Solid Films 1993, 236, 27.
21. Olivier, J.; Servet, B.; Vergnolle, M.; Mosca, M.; Garry, G. Synth. Met. 2001, 122, 87.
22. Shen, W. N.; Dünn, B.; Moore, C. D.; Goorsky, M. S.: Radetic, T.; Gronsky, R. J. Mater. Chem. 2000, 10, 657.
23. Xue, S.; Ousi-Benomar, W.; Lessard, R. A. Thin Solid Films 1994, 250, 194.
24. Marcus, R. B.; Ravi, T. S.; Gmitter, T.; Busta, H. H.; Niccum, J. T.; Chin, K. K.; Liu, D. IEEE Trans. Electron Devices 1991, 38, 2289.