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Volumn 54, Issue SUPPL. 3, 2004, Pages

Modelling of magnetron sputtering process

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Magnetron sputtering; Plasma modelling

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EID: 33747883443     PISSN: 00114626     EISSN: 15729486     Source Type: Journal    
DOI: 10.1007/BF03166526     Document Type: Article
Times cited : (5)

References (14)
  • 14
    • 0037458775 scopus 로고    scopus 로고
    • G. Buyle: Vacuum. 70 (2003) 29-35.
    • (2003) Vacuum , vol.70 , pp. 29-35
    • Buyle, G.1


* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.