Chemical failure modes of AlQ3-based OLEDs: AlQ3 hydrolysis

Physical Chemistry Chemical Physics

Volumn 8, Issue 12, 2006, Pages 1371-1377

  Knox, John E ^a,b   Halls, Mathew D ^a   Hratchian, Hrant P ^a,c   Schlegel, H Bernhard ^a  

^a WAYNE STATE UNIVERSITY   (United States)

^b NOVARTIS INSTITUTE FOR TROPICAL DISEASES   (Singapore)

^c INDIANA UNIVERSITY   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ALUMINUM; QUINOLINOL DERIVATIVE;

ARTICLE; CHEMICAL STRUCTURE; ELECTRON TRANSPORT; HYDROLYSIS; INFRARED SPECTROPHOTOMETRY; LIGHT;

ALUMINUM; ELECTRON TRANSPORT; HYDROLYSIS; HYDROXYQUINOLINES; LIGHT; MODELS, MOLECULAR; SPECTROPHOTOMETRY, INFRARED;

EID: 33746269433     PISSN: 14639076     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1039/b514898g     Document Type: Article

References (55)

1. J. R. Sheats, H. Antoniadis, M. Hueschen, W. Leonard, J. Miller, R. Moon, D. Roitman and A. Stocking, Science, 1996, 273, 884.
2. L. J. Rothberg and A. J. Lovinger, J. Mater. Res., 1996, 11, 3174.
3. J. H. Burroughes, D. D. C. Bradley, A. R. Brown, R. N. Marks, K. Mackay, R. H. Friend, P. L. Burns and A. B. Holmes, Nature, 1990, 347, 539.
4. R. H. Friend, R. W. Gymer, A. B. Holmes, J. H. Burroughes, R. N. Marks, C. Taliani, D. D. C. Bradley, D. A. Dos Santos, J. L. Bredas, M. Logdlund and W. R. Salaneck, Nature, 1999, 397, 121.
5. U. Mitsche and P. J. Bäuerle, J. Mater. Chem., 2000, 10, 1471.
6. C. W. Tang and S. A. VanSlyke, Appl. Phys. Lett., 1987, 51, 913.
7. Y. Hamada, IEEE Trans. Electron Devices, 1997, 44, 1208.
8. B. C. Lin, C. P. Cheng, Z. Q. You and C. P. Hsu, J. Am. Chem. Soc., 2005, 127, 66.
9. M. D. Halls and H. B. Schlegel, Chem. Mater., 2001, 13, 2632.
10. J. P. Zhang and G. Frenking, J. Phys. Chem. A, 2004, 108, 10296.
11. G. Gahungu and J. P. Zhang, J. Phys. Chem. B, 2005, 109, 17762.
12. M. Amati and F. Lelj, J. Phys. Chem. A, 2003, 107, 2560.
13. J. McElvain, H. Antoniadis, M. R. Hueschen, J. N. Miller, D. M. Roitman, J. R. Sheets and R. L. Moon, J. Appl. Phys., 1996, 80, 6002.
14. P. E. Burrows, V. Bulovic, S. R. Forrest, L. S. Sapochak, D. M. McCarty and M. E. Thompson, Appl. Phys. Lett., 1994, 65, 2922.
15. H. Aziz and G. Xu, J. Phys. Chem. B, 1997, 101, 4009.
16. H. Aziz, Z. D. Popovic, N. X. Hu, A. M. Hor and G. Xu, Science, 1999, 283, 1900.
17. F. Papadimitrakopoulos, X. M. Zhang, D. L. Thomsen and K. A. Higginson, Chem. Mater., 1996, 8, 1363.
18. K. A. Higginson, X. M. Zhang and F. Papadimitrakopoulos, Chem. Mater., 1998, 10, 1017.
19. F. Papadimitrakopoulos, X. M. Zhang and K. A. Higginson, IEEE J. Sel. Top. Quantum Electron., 1998, 4, 49.
20. M. S. Xu, J. B. Xu, E. Z. Luo and Z. Xie, Chem. Phys. Lett., 2003, 374, 656.
21. M. S. Xu and J. B. Xu, Synth. Met., 2004, 145, 177.
22. M. J. Frisch, G. W. Trucks, H. B. Schlegel et al., GAUSSIAN 03, (Revision B.2), Gaussian, Inc., Pittsburgh, PA, 2003.
23. A. D. Becke, J. Chem. Phys., 1993, 98, 5648.
24. J. P. Perdew, in Electronic Structure of Solids, ed. P. Ziesche and H. Eschrig, Akademie Verlag, Berlin, 1991.
25. P. C. Hariharan and J. A. Pople, Theor. Chim. Acta, 1973, 28, 213.
26. M. M. Francl, W. J. Petro, W. J. Hehre, J. S. Binkley, M. S. Gordon, D. J. DeFrees and J. A. Pople, J. Chem. Phys., 1982, 77, 3654.
27. C. Peng, P. Y. Ayala, H. B. Schlegel and M. J. Frisch, J. Comput. Chem., 1996, 17, 49.
28. R. Krishnan, J. S. Binkley, R. Seeger and J. A. Pople, J. Chem. Phys., 1980, 72, 650.
29. T. Clark, J. Chandrasekhar and P. v. R. Schleyer, J. Comput. Chem., 1983, 4, 294.
30. R. E. Stratmann, G. E. Scuseria and M. J. Frisch, J. Chem. Phys., 1998, 109, 8218.
31. V. Barone and M. Cossi, J. Phys. Chem. A, 1998, 102, 1995.
32. M. Cossi, N. Rega, G. Scalmani and V. Barone, J. Comput. Chem., 2003, 24, 669.
33. P. E. Burrows, Z. Shen, D. M. McCarty, S. R. Forrest, J. A. Cronin and M. E. Thompson, J. Appl. Phys., 1996, 79, 7991.
34. P. Addy, D. F. Evans and R. N. Sheppard, Inorg. Chim. Acta, 1987, 127, L19.
35. G. P. Kushto, Y. Iizumi, J. Kido and Z. H. Kafafi, J. Phys. Chem. A, 2000, 104, 3670.
36. A. Curioni, M. Boero and W. Andreoni, Chem. Phys. Lett., 1998, 294, 263.
37. A. Curioni and W. Andreoni, J. Am. Chem. Soc., 1999, 121 8216.
38. A. Curioni, W. Andreoni, R. Treusch, R. F. Himpsel, E. Haskal, P. Seidler, S. Kakar, T. van Buuren and L. J. Terminello, Appl. Phys. Lett., 1998, 72, 1575.
39. N. Johansson, T. Osada, S. Stafstrom, W. R. Salaneck, V. Parente, D. A. dos Santos, X. Crispin and J. L. Bredas, J. Chem. Phys., 1999, 111, 2157.
40. R. L. Martin, J. D. Kress, I. H. Campbell and D. L. Smith, Phys. Rev. B: Condens. Matter, 2000, 61, 15804.
41. I. Fujii, N. Hirayama, J. Ohtani and K. Kodama, Anal. Sci., 1996, 12, 153.
42. H. Schmidbaur, J. Lettenbaur, D. L. Wilkinson, G. Müller and O. Kumberger, Z. Naturforsch., B, 1991, 46, 901.
43. S. M. Smith and H. B. Schlegel, Chem. Mater., 2003, 15, 162.
44. M. D. Halls and H. B. Schlegel, J. Chem. Phys., 1998, 109, 10587.
45. A. P. Scott and L. Radom, J. Phys. Chem., 1996, 100, 16502.
46. T. A. Hopkins, K. Meerholz, S. Shaheen, M. L. Anderson, A. Schmidt, B. Kippelen, A. B. Padias, H. K. Halls, N. Peyghambarian and N. R. Armstrong, Chem. Mater., 1996, 8, 344.
47. H. B. Klevens and J. R. Platt, J. Chem. Phys., 1949, 17, 470.
48. H. H. Perkampus and K. Kortüm, Zh. Anal. Khim., 1962, 190, 111.
49. T. P. Nguyen, P. Jolinat, P. Destruel, R. Clergereaux and J. Farenc, Thin Solid Films, 1998, 325, 175.
50. S. A. Van Slyke, C. H. Chen and C. W. Tana, Appl. Phys. Lett., 1996, 69, 2160.
51. Y. Hamada, T. Sano, M. Fujita, T. Fujii, Y. Nishio and K. Shibata, Jpn. J. Appl. Phys., 1993, 32, L514.
52. M. Probst and R. Haight, Appl. Phys. Lett., 1997, 71, 202.
53. J.-W. Choi, J. S. Kim, S. Y. Oh and W. H. Lee, Mol. Cryst. Liq. Cryst. Sci. Technol., Sect. A, 2001, 371, 285.
54. T.-S. Kim, D.-H. Kim, H.-J. Im, K. Shimada, R. Kawajiri, T. Okubo, H. Murata and T. Mitani, Sci. Technol. Adv. Mater., 2004, 5, 331.
55. See, for example: R. I. Masel, Principles of Adsorption and Reaction on Solid Surfaces, Wiley, New York, 1996, p. 607.