Intense photoluminescence from amorphous tantalum oxide films

Applied Physics Letters

Volumn 89, Issue 2, 2006, Pages

  Zhu, Minmin ^a   Zhang, Zhengjun ^a   Miao, Wei ^a  

^a TSINGHUA UNIVERSITY   (China)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

AMORPHOUS FILMS; LIGHT EMISSION; PHOTOLUMINESCENCE; THERMAL EFFECTS; THIN FILMS;

LIGHT EMITTERS; SUBOXIDES; TANTALUM OXIDE FILMS;

TANTALUM COMPOUNDS;

EID: 33746042176     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.2219991     Document Type: Article

References (21)

1. X. M. Wu, P. K. Wu, T.-M. Lu, and E. J. Rymaszewski, Appl. Phys. Lett. 62, 3264 (1993).
2. R. A. B. Devine, L. Vallier, J. L. Autran, P. Paillet, and J. L. Leray, Appl. Phys. Lett. 68, 1775 (1996).
3. J. Lu and Y. Kuo, Appl. Phys. Lett. 87, 232906 (2005).
4. T. Dimitrova, K. Arshal, and E. Atanassova, Thin Solid Films 381, 31 (2001).
5. Y. Nakagawa and T. Okada, J. Appl. Phys. 68, 556 (1990).
6. T. Mikolajick, R. Kiihnhold, and H. Ryssel, Sens. Actuators B 44, 262 (1997).
7. L. Gladczuk, A. Patel, C. S. Paur, and M. Sosnowski, Thin Solid Films 467, 150 (2004).
8. A. P. Huang, S. L. Xu, M. K. Zhu, B. Wang, and H. Van, Appl. Phys. Lett. 83, 3278 (2003).
9. P. C. Joshi, S. Stowell, and S. B. Desum, Appl. Phys. Lett. 71, 1341 (1997).
10. S. Ryong J. S. Wook, and J. W. Park, J. Appl. Phys. 77, 5978 (1995).
11. K. Chen, G. R. Yang, M. Nielsen, T.-M. Lu, and E. J. Rymaszewski, Appl. Phys. Lett. 70, 399 (1997).
12. H. Kimura, J. I. Mizuki, A. Kamiyama, and H. Suzuki, Appl. Phys. Lett. 66, 2209 (1995).
13. W. S. Lau and T. Han, Appl. Phys. Lett. 86, 152107 (2005).
14. R. M. Fleming, D. V. Lang, C. D. W. Jones, M. L. Steigerwald, D. W. Murphy, G. B. Alers, Y.-H. Wong, R. B. van Dover, J. R. Kwo, and A. M. Sergent, J. Appl. Phys. 88, 850 (2000).
15. W. S. Lau, L. L. Leong, T. J. Han, and N. P. Sandler, Appl. Phys. Lett. 83, 2835 (2003).
16. H. Ono and K. I. Koyanagi, Appl. Phys. Lett. 75, 3521 (1999).
17. E. Atanassova and D. Spassov, Appl. Surf. Sci. 135, 71 (1995).
18. N. Inoue, T. Ninomiya, S. Kashiwabara, and R. Fujimoto, Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 69, S609 (1999).
19. C. Y. Yek, S. B. Zhang, and A. Zunger, Phys. Rev. B 50, 14405 (1994).
20. Y. Zhao, Z. J. Zhang, and Y. H. Lin, J. Phys. D 37, 3392 (2004).
21. X. Su, Z. J. Zhang, and M. M. Zhu, Appl. Phys. Lett. 88, 061913 (2006).